JP2805091B2 - 4―メチルジフェニル及び4,4’―ジメチルジフェニルの製造方法 - Google Patents

4―メチルジフェニル及び4,4’―ジメチルジフェニルの製造方法

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JP2805091B2
JP2805091B2 JP1227010A JP22701089A JP2805091B2 JP 2805091 B2 JP2805091 B2 JP 2805091B2 JP 1227010 A JP1227010 A JP 1227010A JP 22701089 A JP22701089 A JP 22701089A JP 2805091 B2 JP2805091 B2 JP 2805091B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、4−メチルジフェニル及び4,4′−ジメチ
ルジフェニルの製造方法に関する。4,4′−ジメチルジ
フェニルは、4,4′−ジフェニルカルボン酸の製造原料
として有用であり、4,4′−ジフェニルジカルボン酸
は、例えば、ポリエステル樹脂の原料として有用であ
る。また、4−メチルジフェニルは、4,4′−ジメチル
ジフェニルの製造原料として有用である。
従来の技術 4,4′−ジメチルジフェニルは、例えば、p−ブロモ
トルエンにグリニヤール反応を適用することによつて得
ることができるが、勿論、このような方法は、工業的に
は、実施し難い。
そこで、特開昭53−116353号公報には、メチル基を分
子内に2〜4個有するポリメチルベンゼンをメチル化剤
とし、触媒としてハロゲン化アルミニウムを用いると共
に、加圧した塩化水素等のハロゲン酸の存在下にジフェ
ニルをトランスメチル化することによつて、4−メチル
ジフェニル及び4,4′−ジメチルジフェニルを製造する
方法が開示されている。しかし、この方法によれば、メ
チル化剤の活性が低いために、比較的高温の反応条件を
必要としながら、反応の選択性及び目的とする4−メチ
ルジフェニル及び4,4′−ジメチルジフェニルの収率が
尚、満足すべきでない。更に、塩化水素のようなハロゲ
ン酸を用いることは、装置として耐腐食性が要求される
ので、設備費用が高くなる。
同様に、特公昭49−39667号公報には、分子内に少な
くとも1個のエチル基を有すると共に、1〜3個のメチ
ル基及び/又はエチル基を有するエチル化アルキルベン
ゼンをアルキル化剤として用いて、フリーデル・クラフ
ツ触媒の存在下にジフェニルをトランスエチル化して、
4−エチルジフェニル及び4,4′−ジエチルジフェニル
を製造する方法が開示されているが、反応の選択性が低
い。
通常のフリーデル・クラフツ反応によつて、ジフェニ
ルを塩化アルミニウム触媒の存在下に例えば塩化メチル
にてメチル化すれば、2−メチルジフェニルや3−メチ
ルジフェニルが4−メチルジフェニルとほぼ同量生成す
るので、目的とする4−メチルジフェニルを高選択性に
て得ることができない。
発明が解決しようとする課題 本発明は、従来の4−メチルジフェニル及び4,4′−
ジメチルジフェニルの製造における上記した問題を解決
するためになされたものであつて、一層高い選択性にて
4−メチルジフェニル及び4,4′−ジメチルジフェニル
を製造することができる方法を提供することを目的とす
る。
課題を解決するための手段 本発明による4−メチルジフェニル及び4,4′−ジメ
チルジフェニルの製造方法は、ジフェニル及び/又は4
−メチルジフェニルをルイス酸触媒の存在下に50〜150
℃の範囲の温度にてペンタメチルベンゼン及び/又はヘ
キサメチルベンゼンにてトランスメチル化することを特
徴とする。
本発明においては、メチル化剤としてペンタメチルベ
ンゼン及び/又はヘキサメチルベンゼンを用いて、ジフ
ェニル及び4−メチルジフェニルをトランスメチル化す
る。ペンタメチルベンゼンは、フェニル基、フェニルオ
キシ基、ハロゲン原子等を置換基として有していてもよ
い。ジフェニル又は4−メチルジフェニルは、単独で、
又は混合物として用いられる。ペンタメチルベンゼン又
はヘキサメチルベンゼンも、単独で、又は混合物として
用いられるが、特に、ヘキサメチルベンゼンが好ましく
用いられる。
これらメチル化剤は、通常、ジフェニル又は4−メチ
ルジフェニル又はそれらの混合物1モルについて、0.01
〜20モルの範囲で用いられる。特に、本発明によれば、
メチル化剤をジフェニル1モルについて、1.5モル以上
用いることによつて、比較的穏和な反応条件下での一段
の反応によつて、高純度の4,4′−ジメチルジフェニル
を4−メチルジフェニルよりも高い収率にて得ることが
できる。
反応は、無溶剤下でも行なうことができるが、通常、
溶剤の存在下に行なわれる。溶剤としては、用いるメチ
ル化剤、出発原料及び反応生成物を溶解し得、且つ、反
応条件下に不活性な溶剤であれば任意のものを用いるこ
とができるが、例えば、1,2−ジクロロエタン、クロロ
ベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素、ニトロベンゼン等が好ましく用いられる。
本発明においては、反応は、ルイス酸触媒の存在下に
行なわれる。ルイス酸としては、例えば、塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、
塩化第二鉄、塩化スズ、塩化ビヒマス、塩化アンモチ
ン、三フツ化ホウ素等を挙げることができる。なかで
も、塩化アルミニウムが好ましい。
これら触媒は、通常、ジフェニル又は4−メチルジフ
ェニル又はそれらの混合物100重量部について、0.01〜1
00重量部、好ましくは、0.1〜50重量部の範囲で用いら
れる。
反応は、通常、0〜400℃の範囲にわたつてよいが、
好ましくは、30〜300℃であり、特に、50〜150℃の範囲
が好ましい。
反応終了後、反応混合物から溶剤や触媒を除去し、濃
縮、抽出、蒸留、再結晶等のような通常の手段によつ
て、目的とする4−メチルジフェニル及び/又は4,4′
−ジメチルジフェニルを得ることができる。
発明の効果 本発明の方法に従つて、メチル化剤として、ペンタメ
チルベンゼン又はヘキサメチルベンゼンを用いて、ジフ
ェニル及び/又は4−メチルジフェニルをトランスメチ
ル化することによつて、装置の腐食を引き起こすハロゲ
ン酸を併用することなく、比較的穏和な反応条件下に高
い選択性にて4−メチルジフェニル及び/又は4,4′−
ジメチルジフェニルを得ることができる。
実施例 以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は
これら実施例により何ら限定されるものではない。
実施例1 ジフェニル770mg(5mmol)、ヘキサメチルベンゼン40
5mg(2.5mmol)及び塩化アルミニウム134mg(1mmol)を
o−ジクロロベンゼン5mlに溶解させ、100℃で30分間反
応させた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、ヘキサメチルベンゼン358mg、ジフ
ェニル729mg及び4−メチルジフェニル44mgが検出され
た。
従つて、4−メチルジフェニルへの選択率は、ジフェ
ニル基準にて98モル%、ヘキサメチルベンゼン基準にて
91モル%であつた。
実施例2 4−メチルジフェニル840mg(5mmol)、ヘキサメチル
ベンゼン810mg(5mmol)及び塩化アルミニウム134mg(1
mmol)をo−ジクロロベンゼン5mlに溶解させ、100℃で
4時間反応させた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、ヘキサメチルベンゼン536mg、4−
メチルジフェニル546mg及び4,4′−ジメチルジフェニル
287mgが検出された。
従つて、4,4′−ジメチルジフェニルへの選択率は、
4−メチルジフェニル基準にて90モル%、ヘキサメチル
ベンゼン基準にて93モル%であつた。
実施例3 ジフェニル770g(5mol)、ヘキサメチルベンゼン2.43
kg(15mol)及び塩化アルミニウム134g(1mol)をo−
ジクロロベンゼン5に溶解させ、80℃で8時間反応さ
せた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、ヘキサメチルベンゼン1390g、4−
メチルジフェニル259g及び4,4′−ジメチルジフェニル3
27gが検出された。
上記反応混合物を蒸留して、4,4′−ジメチルジフェ
ニル留分を得、これをメタノールから再結晶して、4,
4′−ジメチルジフェニル274gを得た。ガスクロマトグ
ラフィー純度は98%であつた。
比較例1 ジフェニル770mg(5mmol)及び塩化アルミニウム134m
g(1mmol)をo−ジクロロベンゼン5mlに溶解させ、こ
れに温度60℃で塩化メチルを吹き込みつつ、30分間反応
させた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、ジフェニル504mg及び4−メチルジ
フェニル34mgが検出された。
従つて、4−メチルジフェニルへの選択率は、ジフェ
ニル基準にて23モル%であつた。
比較例2 4−メチルジフェニル840mg(5mmol)、テトラメチル
ベンゼン670mg(5mmol)及び塩化アルミニウム134mg(1
mmol)をo−ジクロロベンゼン5mlに溶解させ、120℃で
4時間反応させた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、テトラメチルベンゼン620mg、4−
メチルジフェニル750mg及び4,4′−ジメチルジフェニル
47mgが検出された。
従つて、4,4′−ジメチルジフェニルへの選択率は、
4−メチルジフェニル基準にて48モル%、テトラメチル
ベンゼン基準にて70モル%であつた。
実施例4 4−メチルジフェニル840mg(5mmol)、ペンタメチル
ベンゼン740mg(5mmol)及び塩化アルミニウム134mg(1
mmol)をo−ジクロロベンゼン5mlに溶解させ、100℃で
4時間反応させた。
反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ、ペンタメチルベンゼン666mg、4−
メチルジフェニル753mg及び4,4′−ジメチルジフェニル
86mgが検出された。
従つて、4,4′−ジメチルジフェニルへの選択率は、
4−メチルジフェニル基準にて92モル%、ペンタメチル
ベンゼン基準にて95モル%であつた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 15/14,6/12

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ジフェニル及び/又は4−メチルジフェニ
    ルをルイス酸触媒の存在下に50〜150℃の範囲の温度に
    てペンタメチルベンゼン及び/又はヘキサメチルベンゼ
    ンにてトランスメチル化することを特徴とする4−メチ
    ルジフェニル及び4,4′−ジメチルジフェニルの製造方
    法。
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