JP2802857B2 - ディスク用紫外線硬化装置および塗布膜形成装置 - Google Patents
ディスク用紫外線硬化装置および塗布膜形成装置Info
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- JP2802857B2 JP2802857B2 JP4163828A JP16382892A JP2802857B2 JP 2802857 B2 JP2802857 B2 JP 2802857B2 JP 4163828 A JP4163828 A JP 4163828A JP 16382892 A JP16382892 A JP 16382892A JP 2802857 B2 JP2802857 B2 JP 2802857B2
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Description
【産業上の利用分野】本発明は，硬化させるべきディス
ク上の被膜の周囲に不活性のガスを充満させ，空気を排
除して光硬化を促進させるタイプのディスク用紫外線硬
化装置および塗布膜形成装置に関する。
ク上の被膜の周囲に不活性のガスを充満させ，空気を排
除して光硬化を促進させるタイプのディスク用紫外線硬
化装置および塗布膜形成装置に関する。
【従来の技術】一般に紫外線硬化型の塗料、又はインキ
を紫外線照射で硬化させるときには、それらの被膜が空
気中の酸素により酸化されるのを制限するため、紫外線
照射時に不活性のガス、特に比較的安価な窒素ガスを被
膜に与えるか、或いは被膜の酸化を抑制するような組成
物を予め含有した塗料又はインキを用いるかのいずれか
の方法が採用される。ディスク面に形成される紫外線硬
化型塗料又はインキ被膜２紫外線照射で硬化させる場合
には、その組成分の制約から前者の方法が採用され、デ
ィスク面の紫外線硬化型被膜に窒素ガスを供給しながら
紫外線照射を行うことにより、その被膜の酸化を抑制
し、これにより紫外線硬化型樹脂による被膜の硬化速度
の低下を防いでいた。従来，主にディスクの硬化処理時
間の短縮と窒素ガスの使用量を低減する目的のディスク
用紫外線硬化装置が特開平３−１４６１６１号公報に開
示されている。この装置について図５，図６を用いて説
明する。これら図において、紫外線照射装置５１は紫外
線ランプ５１Ａと紫外線ランプハウス５１Ｂとその底部
に設けられた石英ガラス板５１Ｃなどからなる。窒素ガ
スのような不活性のガスを吹き出すガス噴出ノズル部材
５２はディスク５３を受けるディスク受台５４の中央上
面に備えられている。ガス噴出ノズル部材５２の最大径
はディスク５３の中央の穴の径より若干だけ小さく、そ
の側面５２Ａはある傾斜をもっている。側面５２Ａには
一定間隔で複数の孔５２Ｂが備えられており、それら孔
５２Ｂは支柱５５内に備えられたガス供給通路５６に通
じている。アルミニウムなど比較的光の反射率の高い材
料からなる外囲部材５７は、制限された空間を形成する
ため、およびＵＶ光を反射するため所定の角度で傾斜す
る側壁部５７Ａと、中央に穴５７Ｃを有する底部５７Ｂ
とからなる。外囲部材５７は環状部材５８を介して排気
ダクト５９に固定されており、その底部５７Ｂの穴５７
Ｃを通して支柱５５が延びているが、その周囲の穴５７
Ｃの空間および排気ダクト５９のガス流入口５９Ａを通
して外囲部材内のガスは排気ダクト５９内に吸引され
る。紫外線照射装置５１の底部と外囲部材５７の上端と
を接触させ密閉空間を形成したた状態で、ディスク５３
の中央穴に位置するガス噴出ノズル部材５２の複数の孔
５２Ｂから不活性のガスを放射外方向に吹き出して、デ
ィスク５３の上面近傍の空間に不活性のガスで満たし、
排気ダクト５９から吸引することにより、不活性のガス
はディスク５３の下面と外囲部材５７とで形成される空
隙と穴５７Ｃを通して排気ダクト５９へ排出される。こ
のように紫外線照射装置５１と外囲部材５７により制限
された空間内で、不活性のガスを供給しているので、デ
ィスク５３をディスク受台５４に載置した後，比較的短
い時間で密閉空間を不活性のガスで充満させることがで
き，また少ないガス量で所期の目的を達成し得る。
を紫外線照射で硬化させるときには、それらの被膜が空
気中の酸素により酸化されるのを制限するため、紫外線
照射時に不活性のガス、特に比較的安価な窒素ガスを被
膜に与えるか、或いは被膜の酸化を抑制するような組成
物を予め含有した塗料又はインキを用いるかのいずれか
の方法が採用される。ディスク面に形成される紫外線硬
化型塗料又はインキ被膜２紫外線照射で硬化させる場合
には、その組成分の制約から前者の方法が採用され、デ
ィスク面の紫外線硬化型被膜に窒素ガスを供給しながら
紫外線照射を行うことにより、その被膜の酸化を抑制
し、これにより紫外線硬化型樹脂による被膜の硬化速度
の低下を防いでいた。従来，主にディスクの硬化処理時
間の短縮と窒素ガスの使用量を低減する目的のディスク
用紫外線硬化装置が特開平３−１４６１６１号公報に開
示されている。この装置について図５，図６を用いて説
明する。これら図において、紫外線照射装置５１は紫外
線ランプ５１Ａと紫外線ランプハウス５１Ｂとその底部
に設けられた石英ガラス板５１Ｃなどからなる。窒素ガ
スのような不活性のガスを吹き出すガス噴出ノズル部材
５２はディスク５３を受けるディスク受台５４の中央上
面に備えられている。ガス噴出ノズル部材５２の最大径
はディスク５３の中央の穴の径より若干だけ小さく、そ
の側面５２Ａはある傾斜をもっている。側面５２Ａには
一定間隔で複数の孔５２Ｂが備えられており、それら孔
５２Ｂは支柱５５内に備えられたガス供給通路５６に通
じている。アルミニウムなど比較的光の反射率の高い材
料からなる外囲部材５７は、制限された空間を形成する
ため、およびＵＶ光を反射するため所定の角度で傾斜す
る側壁部５７Ａと、中央に穴５７Ｃを有する底部５７Ｂ
とからなる。外囲部材５７は環状部材５８を介して排気
ダクト５９に固定されており、その底部５７Ｂの穴５７
Ｃを通して支柱５５が延びているが、その周囲の穴５７
Ｃの空間および排気ダクト５９のガス流入口５９Ａを通
して外囲部材内のガスは排気ダクト５９内に吸引され
る。紫外線照射装置５１の底部と外囲部材５７の上端と
を接触させ密閉空間を形成したた状態で、ディスク５３
の中央穴に位置するガス噴出ノズル部材５２の複数の孔
５２Ｂから不活性のガスを放射外方向に吹き出して、デ
ィスク５３の上面近傍の空間に不活性のガスで満たし、
排気ダクト５９から吸引することにより、不活性のガス
はディスク５３の下面と外囲部材５７とで形成される空
隙と穴５７Ｃを通して排気ダクト５９へ排出される。こ
のように紫外線照射装置５１と外囲部材５７により制限
された空間内で、不活性のガスを供給しているので、デ
ィスク５３をディスク受台５４に載置した後，比較的短
い時間で密閉空間を不活性のガスで充満させることがで
き，また少ないガス量で所期の目的を達成し得る。
【発明が解決しようとする課題】しかし，このような従
来の不活性のガスを導入するタイプのディスク用紫外線
硬化装置にあっては，ディスク５３の近傍で，かつその
中心側から不活性のガスを導入しているので，更に短時
間で密開空間を不活性のガスで充満させようとして不活
性のガスを多量に噴出させると，その風圧によりディス
ク５３の硬化前の被膜に悪影響が生じる。また，不活性
のガスを密閉空間に一部分から供給し，一部分から排出
するような場合にも，短時間で密閉空間を不活性のガス
で充満させようとするとそのガス流によりディスク５３
の硬化前の被膜に悪影響が生じることが分かった。本発
明は，ディスク５３の周辺から放射内方向にほぼ均一に
不活性のガスを供給することにより，ディスク５３上の
被膜に悪影響を与えずにこれを不活性のガスで均一に包
囲して出来るだけ短時間で紫外線の照射が可能なような
状態を作りだすことを課題にしている。
来の不活性のガスを導入するタイプのディスク用紫外線
硬化装置にあっては，ディスク５３の近傍で，かつその
中心側から不活性のガスを導入しているので，更に短時
間で密開空間を不活性のガスで充満させようとして不活
性のガスを多量に噴出させると，その風圧によりディス
ク５３の硬化前の被膜に悪影響が生じる。また，不活性
のガスを密閉空間に一部分から供給し，一部分から排出
するような場合にも，短時間で密閉空間を不活性のガス
で充満させようとするとそのガス流によりディスク５３
の硬化前の被膜に悪影響が生じることが分かった。本発
明は，ディスク５３の周辺から放射内方向にほぼ均一に
不活性のガスを供給することにより，ディスク５３上の
被膜に悪影響を与えずにこれを不活性のガスで均一に包
囲して出来るだけ短時間で紫外線の照射が可能なような
状態を作りだすことを課題にしている。
【課題を解決するための手段】この第１の発明は，この
ような課題を解決するために， ディスクの載置される
ディスク受台を三方向から囲み，かつこれと一緒に縦方
向または横方向に動くことの出来る外囲器と，この外囲
器と共に密閉空間を形成する役割をもつと共に前記ディ
スクの主面に形成された被膜に紫外線透過用ガラスを通
して紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置とを備
え，前記被膜の硬化時には前記密閉空間が外部から供給
される不活性のガスで充満されるディスク用紫外線硬化
装置において，前記紫外線透過ガラスの下部に，外部か
ら外部導入通路を通して供給される前記不活性のガスを
前記外囲器の全周にわたってほぼ等しく前記密閉空間に
噴出し得るガス噴出用口をもつ環状流路を有し、前記ガ
スの外部導入通路が前記環状流路に対してその接線方向
に位置することを特徴とするディスク用紫外線硬化装置
を提供するものである。この第２の発明は，ディスクの
載置されるディスク受台を三方向から囲む外囲器と，こ
の外囲器と共に密閉空間を形成する役割をもつと共に前
記ディスクの主面に形成された被膜に紫外線透過ガラス
を通して紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置
と、前記ディスク受台と外囲器を支持する支柱と，水平
方向に回転又は往復運動して前記被膜の形成されたディ
スクを紫外線照射位置まで搬送する水平作動部材とを備
え，前記被膜の硬化時には前記密閉空間が外部から供給
される不活性のガスで充満された状態で前記支柱の回転
により前記ディスクを回転させながら紫外線を照射する
ディスク用塗布膜形成装置であって，前記水平作動部材
に固定され、前記支柱を回転自在に支える軸受装置と、
前記支柱を昇降させ得る昇降駆動装置と，該昇降駆動装
置により上下移動の可能な回転駆動装置と，該回転駆動
装置の駆動軸に結合された伝達軸とを備え，前記水平作
動部材が所定位置で停止し，前記昇降駆動装置が作動し
て前記回転駆動装置と一緒に前記伝達軸を上昇させ，そ
の伝達軸を前記支柱に結合させて前記密閉空間が形成さ
れるまで前記支柱を上昇させ，前記回転駆動装置の回転
駆動力が前記伝達軸を介して前記支柱に伝達されること
を特徴とするディスク用塗布膜形成装置を提供するもの
である。
ような課題を解決するために， ディスクの載置される
ディスク受台を三方向から囲み，かつこれと一緒に縦方
向または横方向に動くことの出来る外囲器と，この外囲
器と共に密閉空間を形成する役割をもつと共に前記ディ
スクの主面に形成された被膜に紫外線透過用ガラスを通
して紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置とを備
え，前記被膜の硬化時には前記密閉空間が外部から供給
される不活性のガスで充満されるディスク用紫外線硬化
装置において，前記紫外線透過ガラスの下部に，外部か
ら外部導入通路を通して供給される前記不活性のガスを
前記外囲器の全周にわたってほぼ等しく前記密閉空間に
噴出し得るガス噴出用口をもつ環状流路を有し、前記ガ
スの外部導入通路が前記環状流路に対してその接線方向
に位置することを特徴とするディスク用紫外線硬化装置
を提供するものである。この第２の発明は，ディスクの
載置されるディスク受台を三方向から囲む外囲器と，こ
の外囲器と共に密閉空間を形成する役割をもつと共に前
記ディスクの主面に形成された被膜に紫外線透過ガラス
を通して紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置
と、前記ディスク受台と外囲器を支持する支柱と，水平
方向に回転又は往復運動して前記被膜の形成されたディ
スクを紫外線照射位置まで搬送する水平作動部材とを備
え，前記被膜の硬化時には前記密閉空間が外部から供給
される不活性のガスで充満された状態で前記支柱の回転
により前記ディスクを回転させながら紫外線を照射する
ディスク用塗布膜形成装置であって，前記水平作動部材
に固定され、前記支柱を回転自在に支える軸受装置と、
前記支柱を昇降させ得る昇降駆動装置と，該昇降駆動装
置により上下移動の可能な回転駆動装置と，該回転駆動
装置の駆動軸に結合された伝達軸とを備え，前記水平作
動部材が所定位置で停止し，前記昇降駆動装置が作動し
て前記回転駆動装置と一緒に前記伝達軸を上昇させ，そ
の伝達軸を前記支柱に結合させて前記密閉空間が形成さ
れるまで前記支柱を上昇させ，前記回転駆動装置の回転
駆動力が前記伝達軸を介して前記支柱に伝達されること
を特徴とするディスク用塗布膜形成装置を提供するもの
である。
【実施例】図１は本発明の好ましい一実施例を説明する
ための図である。同図において，紫外線照射装置１はそ
の底部にステンレスのような金属材料からなるベース板
２を備える。ベース板２は紫外線を通過させるための紫
外線照射用窓２Ａを有し，その窓２Ａには石英ガラス板
または熱線カットフィルタのような紫外線透過ガラス板
３が窓２Ａを塞ぐよう埋め込まれている。また，ベース
板２は紫外線照射用窓２Ａを囲むようにして窒素ガスの
ような不活性のガス用の環状流路２Ｂを備えており，環
状流路２Ｂの内側全周にわたって幅の小さいガス噴出用
口２Ｃが形成されている。つまり，環状流路２Ｂはガス
噴出用口２Ｃを通して窓２Ａに通じている。さらに，ベ
ース板２は外部から環状流路２Ｂの不活性のガスを導入
するガス導入通路２Ｄを備え，このガス導入通路２Ｄは
ほぼ接線方向で環状流路２Ｂに繋がっている。したがっ
て，ガス導入通路２Ｄから導入された不活性のガスは矢
印Ｘで示す方向に流れる。ガス導入通路２Ｄはナットな
どの適当な手段によりガス供給パイプ４に接続される。
ここで大切なのは，ガス導入通路２Ｄの断面積および環
状流路２Ｂの断面積は双方とも，環状流路２Ｂの内側壁
全周にわたって形成された幅の小さい（０．５〜１．５
ｍｍ）ガス噴出用口２Ｃの全面積に比べて大きく設定さ
れており，また環状流路２Ｂの気圧を大気圧より大きな
状態で調整することにより，ガス噴出用口２Ｃのいずれ
の部分においてもほぼ同量のガスが噴出される。次に外
囲器５はその環状の上端面に密閉性を良好にするための
Ｏリング６を備え，またその底部には１つ以上の排気孔
５Ａが形成されている。外囲器５の中央にはディスク受
台７が位置し，その上にディスク８が載置される。そし
て従来とと同様に ディスク受台７は支柱９に支えられ
ており，支柱９は軸受装置１０を介して外囲器５に結合
されている。支柱９は軸受装置１０により外囲器５に対
して自由に回転できるよう支えられている。なお，１１
は紫外線を反射させてディスク８の端面の被膜の硬化を
促進させるための反射板である。この装置においては，
支柱９が上昇してＯリング６がベース板２の下面に当接
することにより，紫外線照射装置１と外囲器５とによる
密閉空間が形成され，不活性のガスがガス供給パイプ
４，ガス導入通路２Ｄ，環状流路２Ｂを通して幅の小さ
いガス噴出用口２Ｃからその密閉空間に一様に不活性の
ガスが供給される。ここで図１（Ａ）に示すように，ガ
ス導入通路２Ｄはほぼ接線方向で環状流路２Ｂに繋がっ
ているので，不活性のガス流は矢印Ｘのようになり，ガ
ス噴出用口２Ｃの特定の箇所だけに大きな圧力を加える
ようなことが無い。また，前述のようにガス導入通路２
Ｄおよび環状流路２Ｂの断面積環はガス噴出用口２Ｃの
全面積に比べて大きく設定されており，環状流路２Ｂ内
の気圧を大気圧よりも大きくなるよう設定してある。こ
れらの条件より，ガス噴出用口２Ｃは不活性のガスをほ
ぼ均一に噴き出し，ディスク８の上面全体をほぼ均一の
濃度の不活性のガスで覆うことができる。不活性のガス
の供給に伴う密閉空間の空気は外囲器５の底部に設けら
れた排気孔５Ａから自然に排気される。なお，動作など
については具体的な実施例により説明する。図２により
具体的な実施例を説明する。この図において，図１で示
した参照記号と同じ記号については相当する部材を示
す。支柱９は直線駆動軸受装置１２と回転軸受装置１３
を介して水平作動部材１４に上下動可能，回転可能に支
承されている。水平作動部材１４はターンテーブル，或
いは中央に位置する回転軸に取り付けられた部材支持
腕，または回転ベルトなどに取り付けられた部材支持
腕，或いは直線運動を行う部材支持腕である。また，水
平作動部材１４はその先端部分に，スプリングとゴム製
クッションなどからなる弾性部材１５などをも支持して
いる。この弾性部材１５はディスク搬送時に他部分との
干渉を避けるため，ディスク受台７を下方に引き下げた
状態で保持するリターンスプリングの役割を果たす。１
６はシリンダのような昇降用駆動装置であり，その昇降
用駆動装置１６には水平に延びる支持アーム１７が固定
されている。支持アーム１７の下側には回転駆動モータ
１８が固定され，そのモータの回転軸に結合された伝達
軸１９は支持アーム１７を通して上方に延びる。伝達軸
１９の先端には，支柱９と伝達軸１９との間を機械的に
結合したり，切り離す作用を行う簡便なクラッチ部材２
０が固定されている。このクラッチ部材２０は単なる金
属板であり，弾性部材１５との摩擦力で機械的結合を行
っている。次に動作について説明する。先ず水平作動部
材１４は，図示していない位置においてスピンナ装置に
より一様に被膜の形成されたディスク８がデイスク受台
７に載置されるまで停止しており，その後旋回，又は直
線運動を行ってディスク８を外囲器５や支柱９などと一
緒に紫外線照射位置まで運び停止する。次に昇降用駆動
装置１６は動作を開始し，上昇を始める。昇降用駆動装
置１６の上昇運動に伴い，回転駆動モータ１８と一緒に
伝達軸１９が上昇して支柱９と機械的に結合され，これ
をを押し上げる。支柱９は直線駆動軸受装置１２により
自在に上昇し，外囲器５をそのＯリング６がベース板２
の下面に当接して小さな密閉空間を形成するまで押し上
げる。それとほぼ同じくして不活性のガスがガス供給パ
イプ４からガス導入路２Ｄ，ガス噴出口２Ｃを通して小
さな密閉空間に供給される。その密閉空間が不活性のガ
スで充満されるとき，回転駆動モータ１８が動作を開始
し，伝達軸１９および支柱９を回転させ，ディスク受台
７に載置されているディスク８を一定速度で回転させ
る。このように短時間でディスク８の被膜を不活性のガ
スで一様に覆い，ディスク８を回転させながら紫外線を
照射しているので，短時間で均一に被膜を硬化させるこ
とができる。そして硬化処理が完了すると，昇降用駆動
装置１６は下降を始める。これに伴い，伝達軸１９，支
柱９，外囲器５，およびディスク８なども下降し，さら
に昇降用駆動装置１６が下降すると，図２（Ｂ）に示す
ように，外囲器５，支柱９およびディスク８が水平作動
部材１４に支えられて停止する。しかし昇降用駆動装置
１６は更に下降し，伝達軸１９が支柱９から完全に切り
離された後，所定位置で停止する。水平作動部材１４は
外囲器５，支柱９およびディスク８などをその上面に載
せて，特定の水平動作を行い，ディスク８を排出位置
（図示せず）へ運ぶ。そして同様にして次のディスクが
紫外線照射位置に運ばれる。次に図３に示す実施例は，
紫外線照射装置１の底部に設けられたベース板２の下面
に金属材料などからなる環状部材２１を固定し，この環
状部材２１が不活性のガス用環状流路２１Ａとガス噴出
用口２１Ｂを備えたところに特徴がある。この環状部材
２１は前記実施例と同様に結合されたガス導入路２１Ｃ
を備え，そのガス導入路２１Ｃはガス供給パイプ４に接
続される。環状部材２１のガス用環状流路２１Ａの内側
には全周にわたって幅の狭いガス噴出用口２１Ｂが斜め
下方を向くように形成されている。そして紫外線照射装
置１からの紫外線は，紫外線透過ガラス３と環状部材２
１の内側空間を通してディスク８の被膜に照射される。
前記実施例と同様な構造の外囲器５は，そのＯリングが
環状部材２１の外壁に密着することにより，紫外線照射
装置１のベース板２，紫外線透過ガラス３ともども小さ
な密閉空間を形成する。この実施例では市販の紫外線照
射装置１を使用できるという効果がある。なお，以上の
実施例では外囲器と反射板とを別個に設けたが，外囲器
に反射面を設けて反射板を省略することもできる。ま
た，環状流路の直径は必ずしも外囲器の直径と等しくな
くても良いが，ディスクの直径よりは大きい。次に図４
は，図２に示した実施例における水平作動部材１４とし
てターンテーブル形のディスク搬送機構を用いた一例を
示す。外囲器５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄをそれぞれ支持す
る水平作動部材１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄは９０
度間隔で，中央に位置せる回転駆動軸２２に固定され
る。その回転駆動軸２２は割り出しユニット２３の出力
軸に結合され，その回転駆動ユニット２４により９０度
毎に鎖線矢印で示す方向に間欠的に駆動される。外囲器
５Ａに，スピンナ（図示せず）により薄い被膜の塗布さ
れたディスクが供給され，それが，９０度旋回した位置
（外囲器５Ｂ），つまり紫外線照射位置でその被膜が硬
化される。さらに，９０度旋回した位置（外囲器５Ｃ）
でディスクが排出される。
ための図である。同図において，紫外線照射装置１はそ
の底部にステンレスのような金属材料からなるベース板
２を備える。ベース板２は紫外線を通過させるための紫
外線照射用窓２Ａを有し，その窓２Ａには石英ガラス板
または熱線カットフィルタのような紫外線透過ガラス板
３が窓２Ａを塞ぐよう埋め込まれている。また，ベース
板２は紫外線照射用窓２Ａを囲むようにして窒素ガスの
ような不活性のガス用の環状流路２Ｂを備えており，環
状流路２Ｂの内側全周にわたって幅の小さいガス噴出用
口２Ｃが形成されている。つまり，環状流路２Ｂはガス
噴出用口２Ｃを通して窓２Ａに通じている。さらに，ベ
ース板２は外部から環状流路２Ｂの不活性のガスを導入
するガス導入通路２Ｄを備え，このガス導入通路２Ｄは
ほぼ接線方向で環状流路２Ｂに繋がっている。したがっ
て，ガス導入通路２Ｄから導入された不活性のガスは矢
印Ｘで示す方向に流れる。ガス導入通路２Ｄはナットな
どの適当な手段によりガス供給パイプ４に接続される。
ここで大切なのは，ガス導入通路２Ｄの断面積および環
状流路２Ｂの断面積は双方とも，環状流路２Ｂの内側壁
全周にわたって形成された幅の小さい（０．５〜１．５
ｍｍ）ガス噴出用口２Ｃの全面積に比べて大きく設定さ
れており，また環状流路２Ｂの気圧を大気圧より大きな
状態で調整することにより，ガス噴出用口２Ｃのいずれ
の部分においてもほぼ同量のガスが噴出される。次に外
囲器５はその環状の上端面に密閉性を良好にするための
Ｏリング６を備え，またその底部には１つ以上の排気孔
５Ａが形成されている。外囲器５の中央にはディスク受
台７が位置し，その上にディスク８が載置される。そし
て従来とと同様に ディスク受台７は支柱９に支えられ
ており，支柱９は軸受装置１０を介して外囲器５に結合
されている。支柱９は軸受装置１０により外囲器５に対
して自由に回転できるよう支えられている。なお，１１
は紫外線を反射させてディスク８の端面の被膜の硬化を
促進させるための反射板である。この装置においては，
支柱９が上昇してＯリング６がベース板２の下面に当接
することにより，紫外線照射装置１と外囲器５とによる
密閉空間が形成され，不活性のガスがガス供給パイプ
４，ガス導入通路２Ｄ，環状流路２Ｂを通して幅の小さ
いガス噴出用口２Ｃからその密閉空間に一様に不活性の
ガスが供給される。ここで図１（Ａ）に示すように，ガ
ス導入通路２Ｄはほぼ接線方向で環状流路２Ｂに繋がっ
ているので，不活性のガス流は矢印Ｘのようになり，ガ
ス噴出用口２Ｃの特定の箇所だけに大きな圧力を加える
ようなことが無い。また，前述のようにガス導入通路２
Ｄおよび環状流路２Ｂの断面積環はガス噴出用口２Ｃの
全面積に比べて大きく設定されており，環状流路２Ｂ内
の気圧を大気圧よりも大きくなるよう設定してある。こ
れらの条件より，ガス噴出用口２Ｃは不活性のガスをほ
ぼ均一に噴き出し，ディスク８の上面全体をほぼ均一の
濃度の不活性のガスで覆うことができる。不活性のガス
の供給に伴う密閉空間の空気は外囲器５の底部に設けら
れた排気孔５Ａから自然に排気される。なお，動作など
については具体的な実施例により説明する。図２により
具体的な実施例を説明する。この図において，図１で示
した参照記号と同じ記号については相当する部材を示
す。支柱９は直線駆動軸受装置１２と回転軸受装置１３
を介して水平作動部材１４に上下動可能，回転可能に支
承されている。水平作動部材１４はターンテーブル，或
いは中央に位置する回転軸に取り付けられた部材支持
腕，または回転ベルトなどに取り付けられた部材支持
腕，或いは直線運動を行う部材支持腕である。また，水
平作動部材１４はその先端部分に，スプリングとゴム製
クッションなどからなる弾性部材１５などをも支持して
いる。この弾性部材１５はディスク搬送時に他部分との
干渉を避けるため，ディスク受台７を下方に引き下げた
状態で保持するリターンスプリングの役割を果たす。１
６はシリンダのような昇降用駆動装置であり，その昇降
用駆動装置１６には水平に延びる支持アーム１７が固定
されている。支持アーム１７の下側には回転駆動モータ
１８が固定され，そのモータの回転軸に結合された伝達
軸１９は支持アーム１７を通して上方に延びる。伝達軸
１９の先端には，支柱９と伝達軸１９との間を機械的に
結合したり，切り離す作用を行う簡便なクラッチ部材２
０が固定されている。このクラッチ部材２０は単なる金
属板であり，弾性部材１５との摩擦力で機械的結合を行
っている。次に動作について説明する。先ず水平作動部
材１４は，図示していない位置においてスピンナ装置に
より一様に被膜の形成されたディスク８がデイスク受台
７に載置されるまで停止しており，その後旋回，又は直
線運動を行ってディスク８を外囲器５や支柱９などと一
緒に紫外線照射位置まで運び停止する。次に昇降用駆動
装置１６は動作を開始し，上昇を始める。昇降用駆動装
置１６の上昇運動に伴い，回転駆動モータ１８と一緒に
伝達軸１９が上昇して支柱９と機械的に結合され，これ
をを押し上げる。支柱９は直線駆動軸受装置１２により
自在に上昇し，外囲器５をそのＯリング６がベース板２
の下面に当接して小さな密閉空間を形成するまで押し上
げる。それとほぼ同じくして不活性のガスがガス供給パ
イプ４からガス導入路２Ｄ，ガス噴出口２Ｃを通して小
さな密閉空間に供給される。その密閉空間が不活性のガ
スで充満されるとき，回転駆動モータ１８が動作を開始
し，伝達軸１９および支柱９を回転させ，ディスク受台
７に載置されているディスク８を一定速度で回転させ
る。このように短時間でディスク８の被膜を不活性のガ
スで一様に覆い，ディスク８を回転させながら紫外線を
照射しているので，短時間で均一に被膜を硬化させるこ
とができる。そして硬化処理が完了すると，昇降用駆動
装置１６は下降を始める。これに伴い，伝達軸１９，支
柱９，外囲器５，およびディスク８なども下降し，さら
に昇降用駆動装置１６が下降すると，図２（Ｂ）に示す
ように，外囲器５，支柱９およびディスク８が水平作動
部材１４に支えられて停止する。しかし昇降用駆動装置
１６は更に下降し，伝達軸１９が支柱９から完全に切り
離された後，所定位置で停止する。水平作動部材１４は
外囲器５，支柱９およびディスク８などをその上面に載
せて，特定の水平動作を行い，ディスク８を排出位置
（図示せず）へ運ぶ。そして同様にして次のディスクが
紫外線照射位置に運ばれる。次に図３に示す実施例は，
紫外線照射装置１の底部に設けられたベース板２の下面
に金属材料などからなる環状部材２１を固定し，この環
状部材２１が不活性のガス用環状流路２１Ａとガス噴出
用口２１Ｂを備えたところに特徴がある。この環状部材
２１は前記実施例と同様に結合されたガス導入路２１Ｃ
を備え，そのガス導入路２１Ｃはガス供給パイプ４に接
続される。環状部材２１のガス用環状流路２１Ａの内側
には全周にわたって幅の狭いガス噴出用口２１Ｂが斜め
下方を向くように形成されている。そして紫外線照射装
置１からの紫外線は，紫外線透過ガラス３と環状部材２
１の内側空間を通してディスク８の被膜に照射される。
前記実施例と同様な構造の外囲器５は，そのＯリングが
環状部材２１の外壁に密着することにより，紫外線照射
装置１のベース板２，紫外線透過ガラス３ともども小さ
な密閉空間を形成する。この実施例では市販の紫外線照
射装置１を使用できるという効果がある。なお，以上の
実施例では外囲器と反射板とを別個に設けたが，外囲器
に反射面を設けて反射板を省略することもできる。ま
た，環状流路の直径は必ずしも外囲器の直径と等しくな
くても良いが，ディスクの直径よりは大きい。次に図４
は，図２に示した実施例における水平作動部材１４とし
てターンテーブル形のディスク搬送機構を用いた一例を
示す。外囲器５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄをそれぞれ支持す
る水平作動部材１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄは９０
度間隔で，中央に位置せる回転駆動軸２２に固定され
る。その回転駆動軸２２は割り出しユニット２３の出力
軸に結合され，その回転駆動ユニット２４により９０度
毎に鎖線矢印で示す方向に間欠的に駆動される。外囲器
５Ａに，スピンナ（図示せず）により薄い被膜の塗布さ
れたディスクが供給され，それが，９０度旋回した位置
（外囲器５Ｂ），つまり紫外線照射位置でその被膜が硬
化される。さらに，９０度旋回した位置（外囲器５Ｃ）
でディスクが排出される。
【発明の効果】本発明によれば，不活性のガスをディス
クの放射外方向から内方向に供給しているので，従来よ
りも多量の不活性のガスを供給することができ，短時間
でその密閉空間を不活性のガスで充満できるのは勿論の
こと，ディスクの表面上を非常に短時間で不活性のガス
でほぼ均一に覆うことができるので，そのガスの供給開
始から紫外線照射までの期間を大幅に短縮でき，また，
被膜を均一に硬化できる。さらにまた，本発明によれば
更に一層不活性のガスの使用量を減少させることができ
るので経済上有利であり，大気中に散逸する不活性のガ
スの量が減少するので，従来よりも作業環境を悪くする
こともない。また，排気孔に排気装置を接続することに
より，紫外線により生じるオゾンも良好に排気でき、紫
外線による作業者への悪影響も低減できる。
クの放射外方向から内方向に供給しているので，従来よ
りも多量の不活性のガスを供給することができ，短時間
でその密閉空間を不活性のガスで充満できるのは勿論の
こと，ディスクの表面上を非常に短時間で不活性のガス
でほぼ均一に覆うことができるので，そのガスの供給開
始から紫外線照射までの期間を大幅に短縮でき，また，
被膜を均一に硬化できる。さらにまた，本発明によれば
更に一層不活性のガスの使用量を減少させることができ
るので経済上有利であり，大気中に散逸する不活性のガ
スの量が減少するので，従来よりも作業環境を悪くする
こともない。また，排気孔に排気装置を接続することに
より，紫外線により生じるオゾンも良好に排気でき、紫
外線による作業者への悪影響も低減できる。
【図１】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図２】本発明の具体的な一実施例を説明するための図
である。
である。
【図３】本発明の別の一実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図４】本発明の実施例に用いられる搬送装置の一例を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図５】従来例を説明するための図である。
【図６】従来例を説明するための図である。
１…紫外線照射装置， ２…紫外線照
射装置のベース板 ２Ａ…紫外線照射用窓， ２Ｂ…ガス用
環状通路 ２Ｃ…ガス噴出口， ２Ｄ…ガス導
入通路 ３…ガラス板， ４…ガス供給
パイプ ５…外囲器， ６…Ｏリング ７…ディスク受台 ８…ディスク ９…支柱， １０…軸受装置 １１…反射板， １２…直線駆
動軸受装置 １３…回転軸受装置， １４…水平作
動部材 １５…弾性部材 １６…昇降駆
動用装置 １７…アーム部材， １８…回転駆
動装置 １９…伝達軸， ２０…クラッ
チ部材 ２１…環状部材， ２２…回転駆
動軸 ２３…割り出しユニット ２４…回転駆
動ユニット
射装置のベース板 ２Ａ…紫外線照射用窓， ２Ｂ…ガス用
環状通路 ２Ｃ…ガス噴出口， ２Ｄ…ガス導
入通路 ３…ガラス板， ４…ガス供給
パイプ ５…外囲器， ６…Ｏリング ７…ディスク受台 ８…ディスク ９…支柱， １０…軸受装置 １１…反射板， １２…直線駆
動軸受装置 １３…回転軸受装置， １４…水平作
動部材 １５…弾性部材 １６…昇降駆
動用装置 １７…アーム部材， １８…回転駆
動装置 １９…伝達軸， ２０…クラッ
チ部材 ２１…環状部材， ２２…回転駆
動軸 ２３…割り出しユニット ２４…回転駆
動ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/26 - 7/26 531 B05C 9/12 B05C 11/08 G03F 7/16
Claims (2)
- 【請求項１】ディスクの載置されるディスク受台を三方
向から囲み，かつこれと一緒に縦方向または横方向に動
くことの出来る外囲器と，この外囲器と共に密閉空間を
形成する役割をもつと共に前記ディスクの主面に形成さ
れた被膜に紫外線透過用ガラスを通して紫外線を照射し
て硬化させる紫外線照射装置とを備え，前記被膜の硬化
時には前記密閉空間が外部から供給される不活性のガス
で充満されるディスク用紫外線硬化装置において，前記
紫外線透過ガラスの下部に，外部から外部導入通路を通
して供給される前記不活性のガスを前記外囲器の全周に
わたってほぼ等しく前記密閉空間に噴出し得るガス噴出
用口をもつ環状流路を有し、前記ガスの外部導入通路が
前記環状流路に対してその接線方向に位置することを特
徴とするディスク用紫外線硬化装置 - 【請求項２】ディスクの載置されるディスク受台を三方
向から囲む外囲器と，この外囲器と共に密閉空間を形成
する役割をもつと共に前記ディスクの主面に形成された
被膜に紫外線透過ガラスを通して紫外線を照射して硬化
させる紫外線照射装置と、前記ディスク受台と外囲器を
支持する支柱と，水平方向に回転又は往復運動して前記
被膜の形成されたディスクを紫外線照射位置まで搬送す
る水平作動部材とを備え，前記被膜の硬化時には前記密
開空間が外部から供給される不活性のガスで充満された
状態で前記支柱の回転により前記ディスクを回転させな
がら紫外線を照射するディスク用塗布膜形成装置であっ
て，前記水平作動部材に固定され、前記支柱を回転自在
に支える軸受装置と、前記支柱を昇降させ得る昇降駆動
装置と，該昇降駆動装置により上下移動の可能な回転駆
動装置と，該回転駆動装置の駆動軸に結合された伝達軸
とを備え，前記水平作動部材が所定位置で停止し，前記
昇降駆動装置が作動して前記回転駆動装置と一緒に前記
伝達軸を上昇させ，その伝達軸を前記支柱に結合させて
前記密閉空間が形成されるまで前記支柱を上昇させ，前
記回転駆動装置の回転駆動力が前記伝達軸を介して前記
支柱に伝達されることを特徴とするディスク用塗布膜形
成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4163828A JP2802857B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | ディスク用紫外線硬化装置および塗布膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4163828A JP2802857B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | ディスク用紫外線硬化装置および塗布膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05334730A JPH05334730A (ja) | 1993-12-17 |
| JP2802857B2 true JP2802857B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=15781520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4163828A Expired - Lifetime JP2802857B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | ディスク用紫外線硬化装置および塗布膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2802857B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4677573B2 (ja) * | 2005-10-17 | 2011-04-27 | 株式会社ソニーＤａｄｃ | 回転塗布装置、回転塗布方法 |
| MX2017001028A (es) * | 2014-07-24 | 2017-05-03 | Tokuyama Corp | Dispositivo de fotopolimerizacion y metodo de produccion de la lente que tiene capa de revestimiento fotocromico. |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01101125A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-19 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク製造装置 |
| JPH02154341A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 溝付基板の製造方法 |
| JPH03146161A (ja) * | 1989-11-01 | 1991-06-21 | Origin Electric Co Ltd | ディスク用被膜形成装置 |
| JP3070782U (ja) * | 1999-12-07 | 2000-08-15 | 妃江子 山口 | メジャ―付き通販カタログ |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP4163828A patent/JP2802857B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05334730A (ja) | 1993-12-17 |
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