JP2797872B2 - タンデムミルの板厚制御方法 - Google Patents
タンデムミルの板厚制御方法Info
- Publication number
- JP2797872B2 JP2797872B2 JP4328214A JP32821492A JP2797872B2 JP 2797872 B2 JP2797872 B2 JP 2797872B2 JP 4328214 A JP4328214 A JP 4328214A JP 32821492 A JP32821492 A JP 32821492A JP 2797872 B2 JP2797872 B2 JP 2797872B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thickness
- stand
- rolling
- control
- control device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はタンデムミルにおいて被
圧延材の板厚さを一定に制御するための板厚制御方法に
関する。
圧延材の板厚さを一定に制御するための板厚制御方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】被圧延材の板厚精度は製品品質の管理
上、最も重要な管理項目の一つであり、従来より板厚制
御の精度向上を図るため種々の方法が提案されている
（特開昭61-129217 号公報, 特開昭61-129218 号公報
等) 。
上、最も重要な管理項目の一つであり、従来より板厚制
御の精度向上を図るため種々の方法が提案されている
（特開昭61-129217 号公報, 特開昭61-129218 号公報
等) 。
【０００３】図８は特開昭61-129218 号公報に開示され
ているタンデムミルの板厚制御方法の実施状態を示す模
式図である。図中＃１〜５は第１〜第５スタンド、11,1
2 〜15は各スタンド＃１〜＃５毎に設けられた圧下位置
制御装置、21,22 〜25は同じく板厚制御装置、SE1 〜SE
6 は各スタンド＃１〜５の間及びタンデムミルの入側,
出側に配置された板厚検出装置、Ｓは被圧延材たるスト
リップを示している。
ているタンデムミルの板厚制御方法の実施状態を示す模
式図である。図中＃１〜５は第１〜第５スタンド、11,1
2 〜15は各スタンド＃１〜＃５毎に設けられた圧下位置
制御装置、21,22 〜25は同じく板厚制御装置、SE1 〜SE
6 は各スタンド＃１〜５の間及びタンデムミルの入側,
出側に配置された板厚検出装置、Ｓは被圧延材たるスト
リップを示している。
【０００４】ストリップＳは白抜き矢符方向からタンデ
ムミルに通されて圧延され、タンデムミルの入側，出側
及び各スタンド＃１〜５間で板厚検出装置SE1 〜SE6 よ
り板厚を検出され、この検出値に基づいて各スタンド＃
１〜５毎に板厚制御装置21〜25のもとで圧下位置制御装
置11〜15による圧下位置調節, スタンド間張力調節を施
され、板厚が制御されるようになっている。
ムミルに通されて圧延され、タンデムミルの入側，出側
及び各スタンド＃１〜５間で板厚検出装置SE1 〜SE6 よ
り板厚を検出され、この検出値に基づいて各スタンド＃
１〜５毎に板厚制御装置21〜25のもとで圧下位置制御装
置11〜15による圧下位置調節, スタンド間張力調節を施
され、板厚が制御されるようになっている。
【０００５】例えば第３スタンド＃３の前，後における
板厚制御の内容を具体的に説明する。第２，第３スタン
ド＃２，＃３間に設けた板厚検出装置SE3 の検出値を、
第３スタンド＃３の直下までトラッキングして第３スタ
ンド＃３の入側板厚を求め、これと予め定めている第３
スタンドの入側板厚目標値との板厚偏差に基づいて板厚
制御装置23にて圧下位置制御装置13を制御し、板厚偏差
を解消するよう板厚制御を行い、第３スタンド＃３の入
側板厚偏差が第３スタンドの出側板厚に影響を与えない
ようにする。
板厚制御の内容を具体的に説明する。第２，第３スタン
ド＃２，＃３間に設けた板厚検出装置SE3 の検出値を、
第３スタンド＃３の直下までトラッキングして第３スタ
ンド＃３の入側板厚を求め、これと予め定めている第３
スタンドの入側板厚目標値との板厚偏差に基づいて板厚
制御装置23にて圧下位置制御装置13を制御し、板厚偏差
を解消するよう板厚制御を行い、第３スタンド＃３の入
側板厚偏差が第３スタンドの出側板厚に影響を与えない
ようにする。
【０００６】またこれと同時に、圧下位置制御装置13に
よる制御がもたらす第２，第３スタンド＃２，＃３間の
張力変動が第２スタンド＃２の出側板厚に与える板厚変
動量を算出してこれを解消すべく第２スタンド＃２の圧
下位置制御装置12も制御する。
よる制御がもたらす第２，第３スタンド＃２，＃３間の
張力変動が第２スタンド＃２の出側板厚に与える板厚変
動量を算出してこれを解消すべく第２スタンド＃２の圧
下位置制御装置12も制御する。
【０００７】一方特開昭61-129217 号公報に開示されて
いるタンデムミルの板厚制御方法は図９に示す如くであ
る。図９は従来のタンデムミルによる板厚制御方法の実
施状態を示す模式図である。図９において＃１〜＃５は
第１〜第５スタンド、11,12〜15は各スタンド＃１〜＃
５毎に設けられた圧下位置制御装置、21,22 〜25は同じ
く板厚制御装置、31, 32〜35は同じロール速度制御装
置、SE13〜SE6 は各スタンド＃１〜＃５の間及びタンデ
ムミルの入側，出側に配置された板厚検出装置、Ｓは被
圧延材たるストリップを示している。なお、各板厚制御
装置21〜25は夫々低周波フィルタ21a 〜25a 、高周波フ
ィルタ21b 〜25b を備えている。
いるタンデムミルの板厚制御方法は図９に示す如くであ
る。図９は従来のタンデムミルによる板厚制御方法の実
施状態を示す模式図である。図９において＃１〜＃５は
第１〜第５スタンド、11,12〜15は各スタンド＃１〜＃
５毎に設けられた圧下位置制御装置、21,22 〜25は同じ
く板厚制御装置、31, 32〜35は同じロール速度制御装
置、SE13〜SE6 は各スタンド＃１〜＃５の間及びタンデ
ムミルの入側，出側に配置された板厚検出装置、Ｓは被
圧延材たるストリップを示している。なお、各板厚制御
装置21〜25は夫々低周波フィルタ21a 〜25a 、高周波フ
ィルタ21b 〜25b を備えている。
【０００８】次にこのような装置の動作を説明する。例
えば第３スタンド＃３の前後における板厚制御の内容を
説明する。第２スタンド＃２の板厚検出装置SE3 の検出
値を第３スタンド＃３の直下までトラッキングして第３
スタンド＃３入側板厚を求め、これと予め定めている第
３スタンドの入側板厚目標値との板厚偏差を求め、この
板厚偏差を高周波数フィルタ23b に通した後、第３スタ
ンド＃３の圧下位置制御装置13に入力してこれを制御す
ることにより、第３スタンド＃３の入側板厚偏差におけ
る高周波数成分が第３スタンド＃３の出側板厚に影響し
ないようにする。更に第３スタンド＃３の入側板厚偏差
を低周波数フィルタ23a に通した後、これに基づき当該
スタンドよりも上流側のスタンド、即ち第１, 第２スタ
ンド＃１，＃２のロール速度制御装置31，32を同時に制
御することにより、第３スタンド＃３の入側板厚偏差の
低周波数成分が第３スタンド＃３の出側に影響しないよ
うにする。
えば第３スタンド＃３の前後における板厚制御の内容を
説明する。第２スタンド＃２の板厚検出装置SE3 の検出
値を第３スタンド＃３の直下までトラッキングして第３
スタンド＃３入側板厚を求め、これと予め定めている第
３スタンドの入側板厚目標値との板厚偏差を求め、この
板厚偏差を高周波数フィルタ23b に通した後、第３スタ
ンド＃３の圧下位置制御装置13に入力してこれを制御す
ることにより、第３スタンド＃３の入側板厚偏差におけ
る高周波数成分が第３スタンド＃３の出側板厚に影響し
ないようにする。更に第３スタンド＃３の入側板厚偏差
を低周波数フィルタ23a に通した後、これに基づき当該
スタンドよりも上流側のスタンド、即ち第１, 第２スタ
ンド＃１，＃２のロール速度制御装置31，32を同時に制
御することにより、第３スタンド＃３の入側板厚偏差の
低周波数成分が第３スタンド＃３の出側に影響しないよ
うにする。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところでこれら従来技
術では、いずれも圧下位置制御装置11〜15を板厚制御の
主アクチュエータとして用い、全スタンドの板厚制御を
実現しようとしているため充分な制御効果が得られず、
また制御系が非常に複雑になるという共通の問題があっ
た。
術では、いずれも圧下位置制御装置11〜15を板厚制御の
主アクチュエータとして用い、全スタンドの板厚制御を
実現しようとしているため充分な制御効果が得られず、
また制御系が非常に複雑になるという共通の問題があっ
た。
【００１０】前述した特開昭61-129218 号公報に開示さ
れている方法についてみれば、第３スタンド＃３での板
厚制御のために第３スタンド＃３の圧下位置を制御する
と同時にこの制御によってもたらされる第２スタンド＃
２と第３スタンド＃３との間における張力変動が第２ス
タンド＃２の出側板厚へ与える影響を防止するため、第
２スタンド＃２の圧下位置も制御する。ところが現実に
は、このような制御動作は第１スタンド＃１と第２スタ
ンド＃２との間の張力変動も発生させ、第１スタンド＃
１の出側板厚の変動を誘起する。
れている方法についてみれば、第３スタンド＃３での板
厚制御のために第３スタンド＃３の圧下位置を制御する
と同時にこの制御によってもたらされる第２スタンド＃
２と第３スタンド＃３との間における張力変動が第２ス
タンド＃２の出側板厚へ与える影響を防止するため、第
２スタンド＃２の圧下位置も制御する。ところが現実に
は、このような制御動作は第１スタンド＃１と第２スタ
ンド＃２との間の張力変動も発生させ、第１スタンド＃
１の出側板厚の変動を誘起する。
【００１１】そしてこの板厚変動は結局第２スタンド＃
２，第３スタンド＃３等後段スタンドの板厚変動につな
がることとなる。勿論この変動は第３スタンド＃３の入
側板厚変動として再度検出され、同じ手順で制御される
が、このような操作は結局最初に発生した板厚変動を制
御しきれずに別の形に振り替えたにすぎないことにな
る。従って圧延条件によっては第３スタンド＃３の入側
での板厚変動がこの板厚制御によって逆に助長されると
いう重大な結果をもたらす虞れがあった。
２，第３スタンド＃３等後段スタンドの板厚変動につな
がることとなる。勿論この変動は第３スタンド＃３の入
側板厚変動として再度検出され、同じ手順で制御される
が、このような操作は結局最初に発生した板厚変動を制
御しきれずに別の形に振り替えたにすぎないことにな
る。従って圧延条件によっては第３スタンド＃３の入側
での板厚変動がこの板厚制御によって逆に助長されると
いう重大な結果をもたらす虞れがあった。
【００１２】この対策として、第３スタンド＃３の制御
時には、図８に点線で示す如く第１スタンド＃１も同時
に制御することも考えられるが、制御が複雑になる上、
複数スタンド夫々に対する制御量の決定が難かしい。例
えば第５スタンド＃５を例にとると板厚制御において
は、５スタンド全ての圧下位置制御量を張力，圧下位置
の影響係数を用いて順次的に計算しなければならず、実
用上の障害は大きい。このような不都合は主に圧下位置
のみを用いて張力の影響を含めて各スタンドの板厚を制
御しようとするために生じる問題である。
時には、図８に点線で示す如く第１スタンド＃１も同時
に制御することも考えられるが、制御が複雑になる上、
複数スタンド夫々に対する制御量の決定が難かしい。例
えば第５スタンド＃５を例にとると板厚制御において
は、５スタンド全ての圧下位置制御量を張力，圧下位置
の影響係数を用いて順次的に計算しなければならず、実
用上の障害は大きい。このような不都合は主に圧下位置
のみを用いて張力の影響を含めて各スタンドの板厚を制
御しようとするために生じる問題である。
【００１３】一方特開昭61-129217 号公報に開示されて
いる方法では、圧下位置制御が板厚に有効に作用する周
波数領域は高周波数領域に限られるが、実際の圧延にお
ける周波数範囲は圧延速度に依存する。即ち圧延速度が
高くなると圧下位置制御が板厚制御に有効な周波数領域
も高くなり、低速時に有効であった制御出力成分が増速
と共に張力変動を誘起して板厚制御効果をもたなくなっ
てくる。逆にロール速度制御が板厚に有効に作用する周
波数領域は低周波数領域に限られるが、実際の圧延にお
ける周波数範囲も圧延速度に依存する。即ち圧延速度が
低くなるとロール速度制御が板厚制御に有効な周波数領
域も低くなり、高速時に有効であった制御出力成分が減
速と共に張力変動を誘起して板厚制御効果をもたなくな
ってくる。
いる方法では、圧下位置制御が板厚に有効に作用する周
波数領域は高周波数領域に限られるが、実際の圧延にお
ける周波数範囲は圧延速度に依存する。即ち圧延速度が
高くなると圧下位置制御が板厚制御に有効な周波数領域
も高くなり、低速時に有効であった制御出力成分が増速
と共に張力変動を誘起して板厚制御効果をもたなくなっ
てくる。逆にロール速度制御が板厚に有効に作用する周
波数領域は低周波数領域に限られるが、実際の圧延にお
ける周波数範囲も圧延速度に依存する。即ち圧延速度が
低くなるとロール速度制御が板厚制御に有効な周波数領
域も低くなり、高速時に有効であった制御出力成分が減
速と共に張力変動を誘起して板厚制御効果をもたなくな
ってくる。
【００１４】この対策として前記した高周波数フィル
タ, 低周波数フィルタによるカットオフ周波数を圧延速
度によって切り替えることが必要になる。しかし周波数
領域が広範囲に及ぶため非常に高速の処理が要求され、
複雑な信号処理が必要となり、設備コストも高くなると
いう問題があった。本発明はかかる事情に鑑みなされた
ものであって、その目的とするところは簡単で安価な設
備を用いて高精度の板厚制御を可能としたタンデムミル
の板厚制御方法を提供するにある。
タ, 低周波数フィルタによるカットオフ周波数を圧延速
度によって切り替えることが必要になる。しかし周波数
領域が広範囲に及ぶため非常に高速の処理が要求され、
複雑な信号処理が必要となり、設備コストも高くなると
いう問題があった。本発明はかかる事情に鑑みなされた
ものであって、その目的とするところは簡単で安価な設
備を用いて高精度の板厚制御を可能としたタンデムミル
の板厚制御方法を提供するにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明に係るタンデムミ
ルの板厚制御方法は、複数の圧延スタンドを備え、少な
くとも１以上の圧延スタンドに圧下位置制御装置，板厚
制御装置，ロール速度制御装置を備え、またスタンド間
に板厚検出装置を備えたタンデムミルにおいて、前記板
厚検出装置の出力に比例積分演算を施し、該演算結果に
従って前記板厚制御装置で制御出力量を演算し、該制御
出力量に、圧延条件によって定まるパラメータを乗じた
値に従って前記板厚検出装置よりも上流側に位置するス
タンドの圧下位置制御装置を動作させると同時に、前記
制御出力量に、圧延条件によって定まるパラメータを乗
じた値に従って前記スタンドより上流側に位置する全ス
タンド又は前記スタンドを含み、それよりも下流側の全
スタンドのロール速度制御装置を動作させることを特徴
とする。
ルの板厚制御方法は、複数の圧延スタンドを備え、少な
くとも１以上の圧延スタンドに圧下位置制御装置，板厚
制御装置，ロール速度制御装置を備え、またスタンド間
に板厚検出装置を備えたタンデムミルにおいて、前記板
厚検出装置の出力に比例積分演算を施し、該演算結果に
従って前記板厚制御装置で制御出力量を演算し、該制御
出力量に、圧延条件によって定まるパラメータを乗じた
値に従って前記板厚検出装置よりも上流側に位置するス
タンドの圧下位置制御装置を動作させると同時に、前記
制御出力量に、圧延条件によって定まるパラメータを乗
じた値に従って前記スタンドより上流側に位置する全ス
タンド又は前記スタンドを含み、それよりも下流側の全
スタンドのロール速度制御装置を動作させることを特徴
とする。
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【作用】本発明にあっては被圧延材における板厚検出点
がその下流側スタンドに到達するまでの時間遅れ演算を
施し、また比例積分演算を施して制御出力量を求め、こ
の制御出力量に圧延条件によって定まるパラメータを乗
じた値に従って下流側又は上流側に位置する圧下位置制
御装置，ロール速度制御装置を動作させることで、アク
チュエータの板厚制御の周波数特性の如何にかかわら
ず、高精度の板厚制御が可能となる。
がその下流側スタンドに到達するまでの時間遅れ演算を
施し、また比例積分演算を施して制御出力量を求め、こ
の制御出力量に圧延条件によって定まるパラメータを乗
じた値に従って下流側又は上流側に位置する圧下位置制
御装置，ロール速度制御装置を動作させることで、アク
チュエータの板厚制御の周波数特性の如何にかかわら
ず、高精度の板厚制御が可能となる。
【００１９】
【００２０】（原理）次に先ず本発明の原理について説
明する。上記のような従来技術の問題点は、圧下位置制
御装置の応答速度に比べ、ロール速度制御装置の応答速
度が遅いことがタンデムミルの板厚制御特性を左右して
いると判断し、板厚制御のアクチュエータとして圧下位
置制御装置のみを用い、またロール速度制御装置を低周
波数専用として限定使用していることにある。
明する。上記のような従来技術の問題点は、圧下位置制
御装置の応答速度に比べ、ロール速度制御装置の応答速
度が遅いことがタンデムミルの板厚制御特性を左右して
いると判断し、板厚制御のアクチュエータとして圧下位
置制御装置のみを用い、またロール速度制御装置を低周
波数専用として限定使用していることにある。
【００２１】本発明者らは、実圧延機での特性試験を繰
り返し、詳細な解析を実施した結果、タンデムミル板厚
制御特性について次のような知見を得た。図１は５スタ
ンドの冷延タンデムミルにて、板幅600mm の低炭素鋼の
ストリップを圧延し、第４スタンド＃４の圧下位置を、
正弦波状に所定の振幅で様々な周波数で変動させたとき
の第４スタンド＃４の出側板厚の変動幅を測定した結果
を示すグラフである。図２は同じく＃１〜＃３スタンド
のロール速度をサクセシブに（同じ比率だけ同時に）所
定の振幅で様々な周波数で動かしたときの＃４スタンド
出側板厚の変動幅を測定した結果を示すグラフである。
図１, 図２共に横軸に周波数，縦軸に最大の板厚変動幅
を基準とした板厚変動幅を対数スケールで、即ち板厚変
化の振幅ゲインｄＢをとって表示している。なおこの測
定には圧下位置制御装置，ロール速度制御装置とも高応
答の装置を用い、図１，図２において10Hzまでの周波数
範囲では圧下位置制御装置, ロール速度制御装置それ自
体の動特性の影響は全くなく、タンデムミル自体の特性
を示している。このときの測定条件を表１に示す。
り返し、詳細な解析を実施した結果、タンデムミル板厚
制御特性について次のような知見を得た。図１は５スタ
ンドの冷延タンデムミルにて、板幅600mm の低炭素鋼の
ストリップを圧延し、第４スタンド＃４の圧下位置を、
正弦波状に所定の振幅で様々な周波数で変動させたとき
の第４スタンド＃４の出側板厚の変動幅を測定した結果
を示すグラフである。図２は同じく＃１〜＃３スタンド
のロール速度をサクセシブに（同じ比率だけ同時に）所
定の振幅で様々な周波数で動かしたときの＃４スタンド
出側板厚の変動幅を測定した結果を示すグラフである。
図１, 図２共に横軸に周波数，縦軸に最大の板厚変動幅
を基準とした板厚変動幅を対数スケールで、即ち板厚変
化の振幅ゲインｄＢをとって表示している。なおこの測
定には圧下位置制御装置，ロール速度制御装置とも高応
答の装置を用い、図１，図２において10Hzまでの周波数
範囲では圧下位置制御装置, ロール速度制御装置それ自
体の動特性の影響は全くなく、タンデムミル自体の特性
を示している。このときの測定条件を表１に示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】図１に明らかな如く圧下位置が１Hz付近で
は板厚制御のアクチュエータとしての効果を有するが、
周波数が低くなるに従って効果が小さくなっている。一
方図２から明らかな如くロール速度の板厚制御効果は周
波数が高くなるに従って小さくなり、１Hz付近では極小
になる。即ちこのことから圧下位置とロール速度の板厚
制御効果は周波数特性の観点からは略相互補完関係にあ
ることが解る。
は板厚制御のアクチュエータとしての効果を有するが、
周波数が低くなるに従って効果が小さくなっている。一
方図２から明らかな如くロール速度の板厚制御効果は周
波数が高くなるに従って小さくなり、１Hz付近では極小
になる。即ちこのことから圧下位置とロール速度の板厚
制御効果は周波数特性の観点からは略相互補完関係にあ
ることが解る。
【００２４】図３に図１において説明したのと同じ試験
であって圧延速度を1/2 として実施した結果を示す。図
３から明らかなように図１に示す特性がそのまま左側、
即ち低周波数側にシフトした特性を示し、制御効果をも
つ周波数領域は圧延速度にも依存していることが解る。
なおこの特性は圧下位置，ロール速度の制御装置の動特
性とは無関係でタンデムミルの本質的な特性である。
であって圧延速度を1/2 として実施した結果を示す。図
３から明らかなように図１に示す特性がそのまま左側、
即ち低周波数側にシフトした特性を示し、制御効果をも
つ周波数領域は圧延速度にも依存していることが解る。
なおこの特性は圧下位置，ロール速度の制御装置の動特
性とは無関係でタンデムミルの本質的な特性である。
【００２５】更に本発明者等は第４スタンド＃４の圧下
位置をステップ状に変更したときの第５スタンド＃５出
側板厚の挙動、第１〜第３スタンド＃１〜＃３のサクセ
シブロール速度をステップ状に変更したときの第５スタ
ンド＃５の出側板厚の挙動夫々を測定した。その結果を
図４(a),(b) に示す。図４(a),図４(b) はいずれも横軸
に時間 (秒) を、また縦軸に板厚偏差をとって示してあ
る。図４(a) に示す圧下位置の板厚制御特性は一旦逆方
向に動いてから目標値側に動き、最終的には元の板厚に
戻るという特徴的な高周波特性を示す。また図４(b) に
示すロール速度の板厚制御特性は段階的に少しずつ効果
が表れる典型的な低周波特性を示している。図４(a),図
４(b) からも圧下位置とロール速度との板厚制御特性の
相互補完関係が読み取れる。
位置をステップ状に変更したときの第５スタンド＃５出
側板厚の挙動、第１〜第３スタンド＃１〜＃３のサクセ
シブロール速度をステップ状に変更したときの第５スタ
ンド＃５の出側板厚の挙動夫々を測定した。その結果を
図４(a),(b) に示す。図４(a),図４(b) はいずれも横軸
に時間 (秒) を、また縦軸に板厚偏差をとって示してあ
る。図４(a) に示す圧下位置の板厚制御特性は一旦逆方
向に動いてから目標値側に動き、最終的には元の板厚に
戻るという特徴的な高周波特性を示す。また図４(b) に
示すロール速度の板厚制御特性は段階的に少しずつ効果
が表れる典型的な低周波特性を示している。図４(a),図
４(b) からも圧下位置とロール速度との板厚制御特性の
相互補完関係が読み取れる。
【００２６】実際に第４スタンド＃４の圧下位置と第１
〜第３スタンド＃１〜＃３のサクセシブロール速度を同
時にステップ状に変更したときの第５スタンド＃５の出
側板厚の挙動を図５に示す。図５は横軸に時間（秒）
を、また縦軸に板厚偏差をとって示している。図５から
明らかな如く圧下位置とロール速度とを適当な配分で同
時に操作すれば指令通りに板厚が変化する略理想に近い
板厚制御特性が得られることが解る。
〜第３スタンド＃１〜＃３のサクセシブロール速度を同
時にステップ状に変更したときの第５スタンド＃５の出
側板厚の挙動を図５に示す。図５は横軸に時間（秒）
を、また縦軸に板厚偏差をとって示している。図５から
明らかな如く圧下位置とロール速度とを適当な配分で同
時に操作すれば指令通りに板厚が変化する略理想に近い
板厚制御特性が得られることが解る。
【００２７】
【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。 （実施例１）図６は本発明に係るタンデムミルの板厚制
御方法を５スタンド冷延タンデムミルに適用した構成を
示す模式図である。図中＃１〜＃５は第１〜第５スタン
ド、11〜15は圧下位置制御装置、41〜45はフィードフォ
ワード板厚制御装置、31〜35はロール速度制御装置、SE
1 〜SE6 は板厚検出装置、Ｓは被圧延材たるストリップ
を夫々示している。
具体的に説明する。 （実施例１）図６は本発明に係るタンデムミルの板厚制
御方法を５スタンド冷延タンデムミルに適用した構成を
示す模式図である。図中＃１〜＃５は第１〜第５スタン
ド、11〜15は圧下位置制御装置、41〜45はフィードフォ
ワード板厚制御装置、31〜35はロール速度制御装置、SE
1 〜SE6 は板厚検出装置、Ｓは被圧延材たるストリップ
を夫々示している。
【００２８】各板厚検出装置SE1 〜SE5 で検出された板
厚はフィードフォワード板厚制御装置41〜45に入力され
る。フィードフォワード板厚制御装置41〜45は検出した
板厚と予め入力されている目標板厚とを比較して板厚偏
差を求めると共に、板厚検出装置SE1 〜SE5 で検出した
ストリップＳ上の検出点が板厚検出装置SE1 〜SE5 の直
ぐ下流側に位置するスタンドに到達するまでの時間遅れ
演算を施した後、当該スタンドでの圧下位置制御出力
量、並びに当該スタンドにより上流側各スタンドでのロ
ール速度制御出力量を演算し、圧下位置制御出力量は圧
下位置制御装置11〜15へ、またロール速度制御出力量は
当該スタンドよりも上流側 (又は当該スタンドを含む下
流側のスタンド) のロール速度制御装置31〜35へ夫々出
力する。
厚はフィードフォワード板厚制御装置41〜45に入力され
る。フィードフォワード板厚制御装置41〜45は検出した
板厚と予め入力されている目標板厚とを比較して板厚偏
差を求めると共に、板厚検出装置SE1 〜SE5 で検出した
ストリップＳ上の検出点が板厚検出装置SE1 〜SE5 の直
ぐ下流側に位置するスタンドに到達するまでの時間遅れ
演算を施した後、当該スタンドでの圧下位置制御出力
量、並びに当該スタンドにより上流側各スタンドでのロ
ール速度制御出力量を演算し、圧下位置制御出力量は圧
下位置制御装置11〜15へ、またロール速度制御出力量は
当該スタンドよりも上流側 (又は当該スタンドを含む下
流側のスタンド) のロール速度制御装置31〜35へ夫々出
力する。
【００２９】いま例えば板厚検出装置SE1 による検出値
はフィードフォワード板厚制御装置41へ入力される。フ
ィードフォワード板厚制御装置41は入力された検出値に
板厚検出装置SE1 によるストリップＳ上の検出点が第１
スタンド＃１直下に達する迄の時間遅れ演算を施して第
１スタンド＃１の入側板厚を求め、これと予め定めてあ
る第１スタンド＃１の入側板厚目標値Ｈ1 とから第１ス
タンドの入側板厚偏差ΔＨ 1 を求めた後、下記(1) 式に
従って第１スタンド＃１での圧下位置制御出力量ΔＳ1
を求める。
はフィードフォワード板厚制御装置41へ入力される。フ
ィードフォワード板厚制御装置41は入力された検出値に
板厚検出装置SE1 によるストリップＳ上の検出点が第１
スタンド＃１直下に達する迄の時間遅れ演算を施して第
１スタンド＃１の入側板厚を求め、これと予め定めてあ
る第１スタンド＃１の入側板厚目標値Ｈ1 とから第１ス
タンドの入側板厚偏差ΔＨ 1 を求めた後、下記(1) 式に
従って第１スタンド＃１での圧下位置制御出力量ΔＳ1
を求める。
【００３０】
【数１】
【００３１】この圧下位置制御出力量ΔＳ1 を圧下位置
制御装置11へ出力し、圧下位置を制御する。また板厚検
出装置SE2 にて検出した板厚はフィードフォワード板厚
制御装置42へ入力される。該フィードフォワード板厚制
御装置42は前記板厚検出装置SE2 出力に、ストリップＳ
上の検出点が第２スタンド＃２直下に達する迄の時間遅
れ演算を施して第２スタンド＃２の入側板厚を求め、こ
れと予め定めてある第２スタンド＃２の入側板厚目標値
Ｈ2 とに基づき第２スタンド＃２の入側板厚偏差ΔＨ2
を求め、下記(2) 式に従って第２スタンド＃２での圧下
位置制御量ΔＳ 2 を演算する。
制御装置11へ出力し、圧下位置を制御する。また板厚検
出装置SE2 にて検出した板厚はフィードフォワード板厚
制御装置42へ入力される。該フィードフォワード板厚制
御装置42は前記板厚検出装置SE2 出力に、ストリップＳ
上の検出点が第２スタンド＃２直下に達する迄の時間遅
れ演算を施して第２スタンド＃２の入側板厚を求め、こ
れと予め定めてある第２スタンド＃２の入側板厚目標値
Ｈ2 とに基づき第２スタンド＃２の入側板厚偏差ΔＨ2
を求め、下記(2) 式に従って第２スタンド＃２での圧下
位置制御量ΔＳ 2 を演算する。
【００３２】
【数２】
【００３３】また同時に下記(3) 式に従って第１スタン
ド＃１でのロール速度制御出力量ΔＶ1 ／Ｖ1 を演算す
る。
ド＃１でのロール速度制御出力量ΔＶ1 ／Ｖ1 を演算す
る。
【００３４】
【数３】
【００３５】今第２スタンド＃２の入側板厚偏差をΔＨ
2 として＋の偏差（入側板厚目標値より厚い）が発生し
た場合、(2) 式に従って第２スタンド＃２での圧下位置
はロールギャップを閉方向に修正することにより入側板
厚偏差ΔＨ2 の影響が第２スタンド＃２の出側板厚に表
れることを防止できる。同時に(3) 式に従い第１スタン
ド＃１のロール速度を減速方向に修正するため、入側板
厚偏差ΔＨ2 の増加に伴う第２スタンド＃２の入側板速
度の変化（減速）に起因する第１, 第２スタンド＃１，
＃２間の張力変動を略完全に防ぐことが出来、しかも他
に新たな板厚変動が発生する要因はない。
2 として＋の偏差（入側板厚目標値より厚い）が発生し
た場合、(2) 式に従って第２スタンド＃２での圧下位置
はロールギャップを閉方向に修正することにより入側板
厚偏差ΔＨ2 の影響が第２スタンド＃２の出側板厚に表
れることを防止できる。同時に(3) 式に従い第１スタン
ド＃１のロール速度を減速方向に修正するため、入側板
厚偏差ΔＨ2 の増加に伴う第２スタンド＃２の入側板速
度の変化（減速）に起因する第１, 第２スタンド＃１，
＃２間の張力変動を略完全に防ぐことが出来、しかも他
に新たな板厚変動が発生する要因はない。
【００３６】板厚検出装置SE3 からの出力はフィードフ
ォワード板厚制御装置43へ入力され、該フィードフォワ
ード板厚制御装置43はこの出力に、ストリップＳ上の検
出点が第３スタンド＃３直下に達する迄の時間遅れ演算
を施した後、これと予め定めてある第３スタンド＃３の
入側板厚目標値とから板厚偏差を求め、(2) 式同様の式
に従って第３スタンド＃３での圧下位置制御量ΔＳ3 を
求め、また(3) 式同様の式に従って第１, 第２スタンド
＃１，＃２でのロール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1，ΔＶ2
／Ｖ2 を夫々演算し、ΔＳ3 を圧下位置制御装置13へ、
またΔＶ1 ／Ｖ 1 をロール速度制御装置31へ、更にΔＶ
2 ／Ｖ2 をロール速度制御装置32へ夫々出力する。
ォワード板厚制御装置43へ入力され、該フィードフォワ
ード板厚制御装置43はこの出力に、ストリップＳ上の検
出点が第３スタンド＃３直下に達する迄の時間遅れ演算
を施した後、これと予め定めてある第３スタンド＃３の
入側板厚目標値とから板厚偏差を求め、(2) 式同様の式
に従って第３スタンド＃３での圧下位置制御量ΔＳ3 を
求め、また(3) 式同様の式に従って第１, 第２スタンド
＃１，＃２でのロール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1，ΔＶ2
／Ｖ2 を夫々演算し、ΔＳ3 を圧下位置制御装置13へ、
またΔＶ1 ／Ｖ 1 をロール速度制御装置31へ、更にΔＶ
2 ／Ｖ2 をロール速度制御装置32へ夫々出力する。
【００３７】同様に板厚検出装置SE5 からの出力はフィ
ードフォワード板厚制御装置45へ入力され、該フィード
フォワード板厚制御装置45はこの出力に、ストリップＳ
上の検出点が第５スタンド＃５直下に達する迄の時間遅
れ演算を施した後、これと予め定めてある第５スタンド
の入側板厚目標値とから入側板厚偏差を求め、(2) 式と
同様の式に従って第５スタンド＃５での圧下位置制御量
ΔＳ5 を求め、また(3) 式と同様の式に従って第１〜第
４スタンド＃１〜＃４夫々でのロール速度制御量ΔＶ1
／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を夫々演算し、ΔＳ5 を圧下位置
制御装置15へ、また各ΔＶ1 ／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を各
ロール速度制御装置31〜34へ出力する。
ードフォワード板厚制御装置45へ入力され、該フィード
フォワード板厚制御装置45はこの出力に、ストリップＳ
上の検出点が第５スタンド＃５直下に達する迄の時間遅
れ演算を施した後、これと予め定めてある第５スタンド
の入側板厚目標値とから入側板厚偏差を求め、(2) 式と
同様の式に従って第５スタンド＃５での圧下位置制御量
ΔＳ5 を求め、また(3) 式と同様の式に従って第１〜第
４スタンド＃１〜＃４夫々でのロール速度制御量ΔＶ1
／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を夫々演算し、ΔＳ5 を圧下位置
制御装置15へ、また各ΔＶ1 ／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を各
ロール速度制御装置31〜34へ出力する。
【００３８】つまり、各板厚検出装置SE1 〜SE5 の出力
に下流側スタンド位置までの移動時間遅れ演算を施し、
該演算結果に従って制御出力量を演算し、該制御出力量
に基づいて板厚検出装置の下流側スタンドの圧下位置制
御装置を制御すると同時に、前記制御出力量に基づいて
前記スタンドより上流側に位置する全スタンドのロール
速度制御装置を制御する。ロール速度制御装置は前記ス
タンドを含むこれよりも下流側に位置する全スタンドの
ロール速度を制御することとしてもよい。このような板
厚制御によって図５に示したような略理想に近い板厚制
御特性が実現できる。なお第１スタンド＃１のロール速
度修正量を、同じ修正量を符号を反転して第２〜第５ス
タンド＃２〜＃５にサクセシブに入力しても効果は同じ
である。
に下流側スタンド位置までの移動時間遅れ演算を施し、
該演算結果に従って制御出力量を演算し、該制御出力量
に基づいて板厚検出装置の下流側スタンドの圧下位置制
御装置を制御すると同時に、前記制御出力量に基づいて
前記スタンドより上流側に位置する全スタンドのロール
速度制御装置を制御する。ロール速度制御装置は前記ス
タンドを含むこれよりも下流側に位置する全スタンドの
ロール速度を制御することとしてもよい。このような板
厚制御によって図５に示したような略理想に近い板厚制
御特性が実現できる。なお第１スタンド＃１のロール速
度修正量を、同じ修正量を符号を反転して第２〜第５ス
タンド＃２〜＃５にサクセシブに入力しても効果は同じ
である。
【００３９】（実施例２）図７は本発明の他の実施例２
を示す模式図である。この実施例２では各スタンド＃１
〜＃５毎にフィードフォワード板厚制御装置41〜45に代
えてフィードバック板厚制御装置51〜55を設け、板厚検
出装置SE1 〜SE5 のうち板厚検出装置SE2〜SE5 は夫々
その検出値をこれよりも上流側に位置する直前のフィー
ドバックの板厚制御装置51〜55へ出力するようになって
いる。各フィードバック板厚制御装置51〜55は入力され
た各スタンド＃１〜＃５出側板厚と予め記憶してある第
１〜第５スタンド＃１〜＃５夫々の出側板厚目標値との
板厚偏差を求め、夫々の板厚偏差に比例積分演算を施し
た後、夫々のスタンドでの圧下位置制御出力量、並びに
当該スタンドよりも上流側各スタンドでのロール速度制
御出力量を演算し、圧下位置制御出力量は圧下位置制御
装置11〜15へ、またロール速度制御出力量は当該スタン
ドよりも上流側のロール速度制御装置31〜35へ出力す
る。
を示す模式図である。この実施例２では各スタンド＃１
〜＃５毎にフィードフォワード板厚制御装置41〜45に代
えてフィードバック板厚制御装置51〜55を設け、板厚検
出装置SE1 〜SE5 のうち板厚検出装置SE2〜SE5 は夫々
その検出値をこれよりも上流側に位置する直前のフィー
ドバックの板厚制御装置51〜55へ出力するようになって
いる。各フィードバック板厚制御装置51〜55は入力され
た各スタンド＃１〜＃５出側板厚と予め記憶してある第
１〜第５スタンド＃１〜＃５夫々の出側板厚目標値との
板厚偏差を求め、夫々の板厚偏差に比例積分演算を施し
た後、夫々のスタンドでの圧下位置制御出力量、並びに
当該スタンドよりも上流側各スタンドでのロール速度制
御出力量を演算し、圧下位置制御出力量は圧下位置制御
装置11〜15へ、またロール速度制御出力量は当該スタン
ドよりも上流側のロール速度制御装置31〜35へ出力す
る。
【００４０】いま、例えば板厚検出装置SE3 にて検出し
た板厚はその直ぐ上流側のスタンドである第２スタンド
＃２のフィードバック板厚制御装置51へ入力される。該
フィードバック板厚制御装置52は第２スタンド＃２出側
の板厚偏差を求め、これに比例積分演算を施した後、下
記(4) 式に従って第２スタンド＃２での圧下位置制御量
ΔＳ2 を求める。
た板厚はその直ぐ上流側のスタンドである第２スタンド
＃２のフィードバック板厚制御装置51へ入力される。該
フィードバック板厚制御装置52は第２スタンド＃２出側
の板厚偏差を求め、これに比例積分演算を施した後、下
記(4) 式に従って第２スタンド＃２での圧下位置制御量
ΔＳ2 を求める。
【００４１】
【数４】
【００４２】また同時に下記(5) 式に従って第１スタン
ド＃１でのロール速度の制御量ΔＶ 1 ／Ｖ1 を夫々演算
する。
ド＃１でのロール速度の制御量ΔＶ 1 ／Ｖ1 を夫々演算
する。
【００４３】
【数５】
【００４４】また板厚検出装置SE4 で検出された板厚は
フィードバック板厚制御装置53へ入力され、該フィード
バック板厚制御装置53にて第３スタンド＃３出側の板厚
偏差を求め、これに比例積分演算を施した後、(4) 式類
似の式に従って第３スタンド＃３での圧下位置制御量Δ
Ｓ3 を求め、また(5) 式類似の式に従って第１, 第２ス
タンド＃１，＃２でのロール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1 ，
ΔＶ2 ／Ｖ2 を夫々演算し、ΔＳ3 を圧下位置制御装置
13へ、またΔＶ1 ／Ｖ1 をロール速度制御装置31へ、更
にΔＶ2 ／Ｖ2 をロール速度制御装置32へ夫々出力す
る。
フィードバック板厚制御装置53へ入力され、該フィード
バック板厚制御装置53にて第３スタンド＃３出側の板厚
偏差を求め、これに比例積分演算を施した後、(4) 式類
似の式に従って第３スタンド＃３での圧下位置制御量Δ
Ｓ3 を求め、また(5) 式類似の式に従って第１, 第２ス
タンド＃１，＃２でのロール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1 ，
ΔＶ2 ／Ｖ2 を夫々演算し、ΔＳ3 を圧下位置制御装置
13へ、またΔＶ1 ／Ｖ1 をロール速度制御装置31へ、更
にΔＶ2 ／Ｖ2 をロール速度制御装置32へ夫々出力す
る。
【００４５】同様に、例えば板厚検出装置SE6 にて検出
した板厚はフィードバック板厚制御装置55へ入力され、
該フィードバック板厚制御装置55にて第５スタンド＃５
出側の板厚偏差を求め、この板厚偏差に比例積分演算を
施した後、(4) 式類似の式に従って第５スタンド＃５で
の圧下位置制御量ΔＳ5 を求め、また(5) 式類似の式に
従って第１〜第４スタンド＃１〜＃４夫々でのロール速
度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を夫々演算し、圧
下位置制御量ΔＳ5 を圧下位置制御装置15へ、また各ロ
ール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を各ロール
速度制御装置31〜34へ出力する。
した板厚はフィードバック板厚制御装置55へ入力され、
該フィードバック板厚制御装置55にて第５スタンド＃５
出側の板厚偏差を求め、この板厚偏差に比例積分演算を
施した後、(4) 式類似の式に従って第５スタンド＃５で
の圧下位置制御量ΔＳ5 を求め、また(5) 式類似の式に
従って第１〜第４スタンド＃１〜＃４夫々でのロール速
度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を夫々演算し、圧
下位置制御量ΔＳ5 を圧下位置制御装置15へ、また各ロ
ール速度制御量ΔＶ1 ／Ｖ1 〜ΔＶ4 ／Ｖ4 を各ロール
速度制御装置31〜34へ出力する。
【００４６】つまり、板厚検出装置SE2 〜SE6 の出力に
各フィードバック板厚制御装置51〜55にて比例積分演算
を施し、該演算結果に従って制御出力量を演算し、該制
御出力量に基づいて板厚検出装置よりも上流側に位置す
るスタンドの圧下位置制御装置を制御すると同時に、前
記制御出力量に基づいて前記スタンドよりも上流側に位
置する全スタンドのロール速度制御装置を制御する。勿
論逆に当該スタンドを含み、これよりも下流側の全スタ
ンドのロール速度制御装置を制御することとしてもよ
い。
各フィードバック板厚制御装置51〜55にて比例積分演算
を施し、該演算結果に従って制御出力量を演算し、該制
御出力量に基づいて板厚検出装置よりも上流側に位置す
るスタンドの圧下位置制御装置を制御すると同時に、前
記制御出力量に基づいて前記スタンドよりも上流側に位
置する全スタンドのロール速度制御装置を制御する。勿
論逆に当該スタンドを含み、これよりも下流側の全スタ
ンドのロール速度制御装置を制御することとしてもよ
い。
【００４７】なお第１スタンド＃１のロール速度修正量
を、同じ修正量を符号を反転して第２〜第５スタンド＃
２〜＃５にサクセシブに入力しても効果は同じである。
また実施例１，２の板厚検出装置11〜15については通常
Ｘ線板厚計を用いるが、これに代えて板速計を用いて求
めたマスフロー板厚、或いは圧延荷重を用いて求めたゲ
ージメータ板厚をそのまま用いてもよい。
を、同じ修正量を符号を反転して第２〜第５スタンド＃
２〜＃５にサクセシブに入力しても効果は同じである。
また実施例１，２の板厚検出装置11〜15については通常
Ｘ線板厚計を用いるが、これに代えて板速計を用いて求
めたマスフロー板厚、或いは圧延荷重を用いて求めたゲ
ージメータ板厚をそのまま用いてもよい。
【００４８】
【発明の効果】本発明にあっては、板厚の偏差に比例積
分演算を施し、この演算結果から圧下位置制御装置、ロ
ール速度制御装置の制御出力量を求め、これに圧延条件
によって定まるパラメータを乗じた値に従って上流側の
圧下位置制御装置を動作させると同時に、圧延条件によ
って定まるパラメータを乗じた値に従って上流側又は下
流側の全スタンドのロール速度制御装置を動作させるこ
ととしたから、圧延スタンドの入側板厚偏差が圧延スタ
ンドの出側板厚に与える影響を除去出来ると共に、スタ
ンド間張力変動をも防止し得て高精度の板厚制御が可能
となる。
分演算を施し、この演算結果から圧下位置制御装置、ロ
ール速度制御装置の制御出力量を求め、これに圧延条件
によって定まるパラメータを乗じた値に従って上流側の
圧下位置制御装置を動作させると同時に、圧延条件によ
って定まるパラメータを乗じた値に従って上流側又は下
流側の全スタンドのロール速度制御装置を動作させるこ
ととしたから、圧延スタンドの入側板厚偏差が圧延スタ
ンドの出側板厚に与える影響を除去出来ると共に、スタ
ンド間張力変動をも防止し得て高精度の板厚制御が可能
となる。
【図１】本発明者等が行った実験結果を示すグラフであ
る。
る。
【図２】本発明者等が行った実験結果を示すグラフであ
る。
る。
【図３】本発明者等が行った実験結果を示すグラフであ
る。
る。
【図４】本発明者等が行った実験結果を示すグラフであ
る。
る。
【図５】本発明者等が行った実験結果を示すグラフであ
る。
る。
【図６】本発明に係るタンデムミルの板厚制御方法の実
施装置をその制御系と共に示す模式図である。
施装置をその制御系と共に示す模式図である。
【図７】本発明の他の実施例を示す模式図である。
【図８】従来の板厚制御方法の実施状態を示す模式図で
ある。
ある。
【図９】従来の板厚制御方法の他の実施状態を示す模式
図である。
図である。
＃１〜＃５ 第１〜第５スタンド 11〜15 圧下位置制御装置 31〜35 ロール速度制御装置 41〜45 フィードフォワード板厚制御装置 51〜55 フィードバック板厚制御装置 SE1 〜SE6 板厚検出装置 Ｓ ストリップ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−149015（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−123727（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−220915（ＪＰ，Ａ) 特公 昭53−2141（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B21B 37/16 - 37/20
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の圧延スタンドを備え、少なくとも
１以上の圧延スタンドに圧下位置制御装置，板厚制御装
置，ロール速度制御装置を備え、またスタンド間に板厚
検出装置を備えたタンデムミルにおいて、 前記板厚検出装置の出力に比例積分演算を施し、該演算
結果に従って前記板厚制御装置で制御出力量を演算し、
該制御出力量に、圧延条件によって定まるパラメータを
乗じた値に従って前記板厚検出装置よりも上流側に位置
するスタンドの圧下位置制御装置を動作させると同時
に、前記制御出力量に、圧延条件によって定まるパラメ
ータを乗じた値に従って前記スタンドより上流側に位置
する全スタンド又は前記スタンドを含み、それよりも下
流側の全スタンドのロール速度制御装置を動作させるこ
とを特徴とするタンデムミルの板厚制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4328214A JP2797872B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | タンデムミルの板厚制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4328214A JP2797872B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | タンデムミルの板厚制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06170429A JPH06170429A (ja) | 1994-06-21 |
| JP2797872B2 true JP2797872B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=18207730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4328214A Expired - Lifetime JP2797872B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | タンデムミルの板厚制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2797872B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008142728A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Hitachi Ltd | 圧延機制御装置、圧延機制御システム及び圧延機制御方法 |
| DE102010014350A1 (de) | 2009-04-10 | 2011-02-17 | Hitachi, Ltd. | Walzstrasse, Walzvorrichtung und Steuerverfahren dafür |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6340825A (ja) * | 1986-08-07 | 1988-02-22 | Terumo Corp | 電子体温計 |
| AU607725B2 (en) * | 1986-11-19 | 1991-03-14 | Terumo Kabushiki Kaisha | Electronic thermometer |
| JPH0795004B2 (ja) * | 1986-12-24 | 1995-10-11 | テルモ株式会社 | 生体の温度測定装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522704B2 (ja) * | 1973-06-20 | 1977-01-24 | ||
| JPH05123727A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-21 | Kawasaki Steel Corp | 冷間タンデム圧延機の板厚制御方法 |
-
1992
- 1992-12-08 JP JP4328214A patent/JP2797872B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008142728A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Hitachi Ltd | 圧延機制御装置、圧延機制御システム及び圧延機制御方法 |
| DE102010014350A1 (de) | 2009-04-10 | 2011-02-17 | Hitachi, Ltd. | Walzstrasse, Walzvorrichtung und Steuerverfahren dafür |
| DE102010014350B4 (de) * | 2009-04-10 | 2012-12-27 | Hitachi, Ltd. | Walzstraße, Walzvorrichtung und Steuerverfahren dafür |
| DE102010014350B9 (de) * | 2009-04-10 | 2013-03-14 | Hitachi, Ltd. | Walzstraße, Walzvorrichtung und Steuerverfahren dafür |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06170429A (ja) | 1994-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2797872B2 (ja) | タンデムミルの板厚制御方法 | |
| US5600982A (en) | Method for suppressing the influence of roll eccentricities on the control of the rolled product thickness in a roll stand | |
| JP2011147957A (ja) | 冷間タンデム圧延機の制御方法 | |
| JP3201301B2 (ja) | 被圧延材の厚さ制御方法及びその装置 | |
| JPH0545325B2 (ja) | ||
| JP3826762B2 (ja) | 板厚制御方法 | |
| JP2006110588A (ja) | 板厚・形状制御方法 | |
| JP2000140919A (ja) | 板厚変動解析装置、および板厚制御装置とその制御方法、並びに板厚制御装置を備えた圧延機 | |
| JP3348540B2 (ja) | タンデムミルの制御方法 | |
| JP2710863B2 (ja) | 圧延機の板厚制御方法 | |
| JP3348538B2 (ja) | タンデムミルの制御方法 | |
| JP3321051B2 (ja) | 圧延材の形状制御方法および装置 | |
| JPH07328709A (ja) | タンデムミルの板厚制御方法 | |
| JP5557726B2 (ja) | 圧延機の板厚制御方法及び板厚制御装置 | |
| JP3300202B2 (ja) | 鋼帯の調質圧延における圧下力制御方法 | |
| JP2583815B2 (ja) | 冷間圧延機の板厚制御装置 | |
| JP3504154B2 (ja) | 圧延機の自動板厚制御方法及びその装置 | |
| JP3299162B2 (ja) | タンデム圧延機のスリップ防止方法および制御装置 | |
| SU1013009A1 (ru) | Устройство дл стабилизации толщины проката | |
| JPH0475711A (ja) | 圧延機の板厚制御装置 | |
| JPH02151313A (ja) | 仕上圧延機の圧下制御方法 | |
| JPH03216208A (ja) | 板圧延時の蛇行制御方法 | |
| JP3495846B2 (ja) | 連続圧延機の制御装置 | |
| JPH0390207A (ja) | 板圧延時の蛇行制御方法 | |
| JPH06304629A (ja) | 圧延機の自動板厚制御方法及びその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070703 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080703 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090703 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090703 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100703 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110703 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110703 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703 Year of fee payment: 15 |