JP2778815B2 - 誘電体磁器組成物及びその製造法並びにそれを用いた配線基板 - Google Patents
誘電体磁器組成物及びその製造法並びにそれを用いた配線基板Info
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Description
れを用いた配線基板に係り、特に高周波集積回路(MI
C)用の配線基板等に適する高周波用誘電体磁器組成物
や、それを製造する方法、更にはそれを用いて得られた
配線基板に関するものである。
されるMICにも、小型で高性能なものが要求されるよう
になってきている。そして、そのようなMIC配線基板に
必要な誘電体磁器には、以下のような特性が要求されて
いるのである。即ち、先ず、(1)比誘電率(εr)が
高いこと。この比誘電率が高いと、或る決まった周波数
で使用する場合、共振回路がインダクタンスやコンデン
サの小型化が可能になるのである。また、(2)Q値が
高いこと。磁器のQ値が高いと、これを使用した共振回
路やインダクタンスのQ値を高くすることが出来る。更
に、(3)誘電率の温度係数や形成した共振回路の共振
周波数の温度係数が小さいこと。そして、(4)導体配
線が多層構造に出来ること。また、(5)導体の抵抗が
小さいこと。この導体の抵抗が大きいと、共振回路やイ
ンダクタンスのQ値が小さくなり、導体線路の伝送損失
が大きくなるからである。
ては、例えば特公昭58−20905号公報には、BaO−TiO2系
若しくはその一部を他の元素で置換したものが、また特
公昭59−23048号公報には、Ba(Mg1/3Ta2/3)O3等を複
合ペロブスカイト構造を持った組成のものが、更に特公
昭54−35678号公報には、TiO2−ZrO2−SnO2若しくはそ
の一部を他の元素で置換したものが、更にまた特公昭56
−26321号公報には、BaO−TiO2−RE2O3系(RE:希土類金
属)のものが、それぞれ、明らかにされている。
電率が大きいものの、目的とする配線基板を得るべく、
その内部に導体路を多層構造に設けようとすると、導体
としてPt,Pd等の導通抵抗の大きな導体材料しか使用出
来ない問題があった。そのような誘電体磁器組成物は、
その焼成温度が高いために、融点の低いAg系やCu系やAu
系等の導通抵抗の小さな導体材料を使用することが出来
ないからである。
テアタイト或いはフォルステライト等のセラミックスか
らなる低価格なものも知られているが、それらは温度係
数が大きく、更に導体路を多層構造に設けようとする
と、上記と同様の理由によって、Pt,Pd,W,Mo等の導通抵
抗の大きな導体材料しか使用出来ないという問題を内在
するものであった。
されたものであって、その課題とするところは、誘電率
が大きく、且つ温度係数が小さい、しかも導通抵抗が小
さな導体を内蔵することが可能な誘電体磁器組成物を提
供することにあり、またそのような誘電体磁器組成物を
製造する方法、更にはそのような誘電体磁器組成物を用
いた配線基板を提供することにある。
多くの誘電体磁器の組成について種々検討した結果見い
出された事実に基づいて完成されたものであり、その要
旨とするところは、SiO2:25〜65重量%、MgO:7〜25重量
%、Al2O3:27〜45重量%、B2O3:0〜20重量%を少なくと
も含むコージェライト系組成のガラスとTiO2との混合粉
末を焼成してなり、生成したコージェライト結晶質母相
中に前記TiO2粒子が分散して存在する誘電体磁器組成物
にして、前記ガラスとTiO2とが、下式: 70≦x≦90 10≦y≦30 x+y=100 (但し、x:ガラスの重量% y:TiO2の重量%) を満足する割合において、用いられていることを特徴と
する誘電体磁器組成物にある。
得るために、上記の如き割合において二成分を均一に配
合して得られる混合粉末を用い、この混合粉末から成形
された成形体を、1100℃以下の温度で焼成し、緻密化す
ると共に、コージェライト系組成のガラス成分を結晶化
して、得られる誘電体磁器組成物中にコージェライト結
晶質相を母相として生成せしめることを特徴としてい
る。
電体磁器組成物)を誘電体として用い、この誘電体内
に、少なくとも一つの導体路を内蔵せしめてなる配線基
板をも、その要旨とするものである。
には、必要に応じて、その100重量部に対して、誘電率
が30以下のフィラー粉末が、合計量で30重量部を越えな
い割合において、更に配合せしめられることとなる。
える混合粉末は、コージェライト系組成のガラスとTiO2
の二成分を、前式を満足するような割合において配合せ
しめる必要があり、その範囲から外れると、本発明の目
的を充分に達成することが出来なくなる。即ち、コージ
ェライト系組成のガラス粉末の割合(x重量%)が70重
量%よりも少なくなり、一方、TiO2粉末の割合(y重量
%)が30重量%を越えたりすると、低温度での焼成が困
難となり、1100℃以下の焼成温度で混合粉末を充分に緻
密化することが困難となり、更には結晶化が困難となる
のである。
成のガラスは、得られる誘電体磁器組成物にコージェラ
イトの優れたマイクロ波誘電特性を付与すると共に、低
温焼結性を得るために用いられるものであって、主結晶
がコージェライトとなるガラス組成であれば、基本的に
は問題なく、公知の各種のコージェライト系組成のガラ
スを用いることが出来るが、本発明では、SiO2:25〜65
重量%、MgO:7〜25重量%、Al2O3:27〜45重量%、B2O3:
0〜20重量%なる組成のガラスが有利に用いられる。か
かる範囲内のSiO2,MgO,Al2O3の採用によって、1100℃以
下での焼成、緻密化がより効果的に行なわれ得るからで
あり、またB2O3の割合が20重量%を越えるようになる
と、焼結体の耐水性が悪くなるからである。なお、これ
らの成分の他にも、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土
類金属の酸化物、ZrO2、ZnO、PbO等の金属酸化物が、必
要に応じて、焼結性を向上させるために、また、Mn,Cr,
Fe,Co,Ni,Cuや希土類金属の酸化物が着色するために、
それぞれ、ガラス成分として添加され得、更に結晶化促
進の核生成剤として、TiO2がガラス成分に加えられて
も、何等差支えない。また、そのようなガラス成分の他
にも、或る程度の不純物が、ガラスの製造工程から考え
て、混入するようになる。
知の各種のガラス化手法によって調製され得るものであ
り、通常、各原料成分を目的とするコージェライト系組
成を与える割合で配合してなる混合物を溶融せしめ、そ
の溶融物を急冷却してガラス化することによって得ら
れ、そしてそれが粉砕されて、用いられることとなる。
また、このようなコージェライト系組成のガラス粉末
は、その焼結性を高めるために、その粒径を小さくする
ことが望ましく、一般に20μm以下、特に1〜10μm程
度の粒度の粉末として用いられることが望ましい。
組成物の誘電率や共振周波数の温度係数を変化させるた
めに添加される。このTiO2を添加することによって、共
振周波数の温度係数は、その添加量に応じてプラス側に
変化する。従って、誘電体磁器組成物がコージェライト
系組成のみからなる場合には、その共振周波数の温度係
数は、おおよそ−80〜−40ppm/℃となるのであるが、Ti
O2を添加することによって、その温度係数を高めること
が出来、更にはプラス側に大きくすることが出来る。ま
た、TiO2は、誘電率が約100と大きいところから、それ
の添加により、誘電体磁器組成物の誘電率を大きくする
ことが出来るのである。
あるところから、コージェライト系組成のガラスの焼結
性を妨げ易く、そのために、かかるTiO2を15重量%以上
添加する場合にあっては、予め仮焼して、その粒径を或
る程度大きくしておくことが望ましい。例えば、そのよ
うな仮焼によって、BET比表面積が2m2/g程度以下となる
ような粒子とされるのである。
とTiO2との所定割合の混合粉末を用いて、目的とする誘
電体磁器組成物を得るものであるが、またかかる混合粉
末には、必要に応じて、更に所定のフィラー粉末を配合
せしめることが可能である。そのようなフィラー粉末と
しては、アルミナ,石英,ムライト,フォルステライ
ト,石英ガラス等を挙げることが出来る。中でも、アル
ミナ,石英,ムライト,フォルステライト等の誘電率が
30以下の結晶質のものは、誘電率が小さいため、添加し
ても、得られる誘電体磁器組成物の誘電率を余り大きく
することは出来ないが、アルミナは強度を高めることが
出来、また石英,ムライト,フォルステライトは、熱膨
張係数を調節することが出来るところから、必要に応じ
て添加されることとなる。また、石英ガラスのような耐
火性の高いガラスは、上記の誘電率が30以下の結晶質の
ものと同等に扱うことが出来る。なお、このようなフィ
ラー粉末の添加量は、それらの合計量において、混合粉
末の100重量部に対して30重量部以下となるようにされ
る。そのようなフィラー粉末の配合量が多くなると、11
00℃以下の温度で充分に緻密化しなくなるからである。
ライト系組成のガラスとTiO2とを所定割合において配合
せしめ、更に必要に応じて所定のフィラー粉末を添加し
て均一に配合して得られる混合粉末を用い、この混合粉
末から常法に従って成形された成形体を、焼成して緻密
化せしめ、更にコージェライト系組成のガラス成分を結
晶化させて、コージェライト結晶質相を生成せしめるこ
とにより、かかる生成コージェライト結晶質母相中にTi
O2粒子が分散して存在する誘電体磁器組成物を得るので
ある。
温度が採用され、その焼成によって緻密化されて、一般
に気孔率が6%程度以下の緻密な焼結体とされる。ま
た、かかる焼成温度の下限は800℃程度である。更に、
かかる焼結体中におけるコージェライト系組成のガラス
成分の結晶化は、焼成温度で保持することにより、焼成
操作と同時に或いはそれに引き続いて行なうことが出来
る。この結晶化のための温度としては、850℃〜1100℃
程度の温度が採用される。そして、このようなコージェ
ライト系組成のガラス成分の結晶化により、目的とする
誘電体磁器組成物、即ちコージェライト結晶質母相中に
TiO2粒子が分散して存在する磁器が得られることとなる
のである。勿論、コージェライト系組成のガラス成分の
結晶化により生ずる主結晶はコージェライトであるが、
ガラスの組成によっては、更にムライト,フォルステラ
イト,スピネル等の結晶質が析出する場合があり、また
若干の非晶質相が残るのは避け得ない。
を誘電体とする配線基板を製造するに際しては、前述の
如きコージェライト系組成のガラスとTiO2との所定割合
の混合粉末を用いて、従来と同様にして行なわれること
となるが、一般に、かかる混合粉末から得られたグリー
ンシートを用い、それに、適当な導体ペーストを用いて
所定パターンの導体路を印刷等の手法によって形成する
一方、そのようなグリーンシートを積層して、一体化せ
しめ、そしてそれらグリーンシートが導体路(導体ペー
スト)を同時焼成することによって、目的とする配線基
板を得ることが出来る。特に、本発明にあっては、前記
混合粉末を用いたグリーンシートの焼成、更には結晶化
が1100℃以下で行なわれ得るところから、導体として、
Ag,Ag−Pt,Ag−Pd,Ag−Pt−Pd等のAg系や、公知の各種
のCu系の導体、更にはAu,Au−Pt,Au−Pd,Au−Pt−Pd等
のAu系の導体を用いることが出来るのである。従って、
このような導通抵抗の小さなAg系やCu系やAu系の導体
は、1100℃以下の焼成条件下では溶融することがなく、
誘電体磁器組成物と同時焼成することが出来るところか
ら、低抵抗の導体の内蔵化が可能となるのである。
構造の一例が示されている。そこにおいて、2は、コー
ジェライト系組成のガラスとTiO2との混合粉末から形成
された誘導体磁器組成物からなる誘電体であり、この誘
電体2の内外に、各種の導体路、例えばその内部に位置
する内蔵導体路4、その表面に位置する表面導体路6、
更にはアース導体路8が積層形態において設けられてい
る。また、かかる誘電体2の内外には、従来と同様に、
抵抗10も設けられている。
は、誘電体2を与える材料として、1100℃以下での焼成
及び結晶化が可能な混合粉末を用いるものであるところ
から、導体路(4,6,8)の材料として、導通抵抗の小さ
な低融点導体、例えばAg系導体やCu系導体等を用い、誘
電体2と共に、同時焼成することが出来、以て低抵抗の
導体路(4,8)を内蔵した配線基板が有利に実現され得
ることとなったのである。
に明らかにすることとするが、本発明が、そのような実
施例の記載によって何等の制約をも受けるものでないこ
とは、言うまでもないところである。
記の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない限
りにおいて、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修
正、改良等を加え得るものであることが、理解されるべ
きである。
うに、酸化マグネシウム(MgO)、石英(SiO2)、アル
ミナ(Al2O3)、硼酸(H3BO3)等の成分原料をそれぞれ
秤量し、アルミナ乳鉢により充分混合した。次いで、こ
の得られた混合物を、白金ルツボ中において、1600℃の
温度で溶融せしめた後、水中に投下して急冷することに
より、各種のコージェライト系組成のガラスを得た。そ
の後、それらガラスを、アルミナポット及びアルミナボ
ールを使用して、それぞれ湿式粉砕した後、乾燥せし
め、以下の誘電体磁器製造用ガラス粉末とした。
のガラス粉末とTiO2粉末とを、下記第2表に示される重
量比となるように秤量して、ポリエチレンポット及びア
ルミナボールを使用して、それぞれ湿式混合せしめた。
次いで、この得られた混合物を、それぞれ乾燥した後、
バインダとしてPVAを加え、よく混合して、40メッシュ
の篩を通すことにより、造粒した。このようにして調製
して得られた各種粉体を、それぞれ、プレス成形機を使
い、面圧:1ton/cm2にて、20mmφ×12mmtのサイズの円板
状のサンプルを成形した。次いで、このようにして成形
した各サンプルを、空気中において、900〜1000℃の温
度で、30分間焼成した。更に、この焼成して得られた各
サンプルを、研磨によって、16mmφ×8mmtの大きさに整
えた。
率と無負荷Qを、公知の平行導体板型誘電体共振器法に
よってそれぞれ測定し、またその共振周波数の温度係数
(τf)を−25℃〜75℃の範囲で測定し、その結果を、
下記第2表に示した。なお、測定周波数は8〜12GHzで
あった。また、第2表中において、Qは、10GHzでの値
に換算してある。
うNo.1〜24の誘電体磁器組成物にあっては、何れも、90
0〜1000℃の温度下での焼成にて緻密化された焼結体と
なり、誘電率、無負荷Q、共振周波数の温度係数
(τf)において、改善され得ることが認められる。こ
れに対して、比較例であるNo.25及びNo.26の誘電体磁器
組成物にあっては、900〜1000℃の焼成温度では、充分
な緻密化を行なうことが出来なかった。
の混合粉末を用い、これと、アクリル系有機バインダ、
可塑剤、トルエン及びアルコール系溶剤とを、アルミナ
ポット及びアルミナボールを用いてよく混合し、スラリ
ーとした後、このスラリーから、ドクターブレード法に
よって0.1mm〜1.0mm厚みのグリーンテープを作製した。
ネオール系有機溶剤を、三本ローラを用いた混練機によ
りよく混練せしめ、印刷用の導体ペーストを調製した。
なお、抵抗ペーストとしては、市販の厚膜回路用のもの
を準備した。
ープ上に導体配線パターンやアース層及び抵抗を印刷し
た。また、コンデンサのパターンや分布定数回路での原
理に従い、ストリップライン型やリング型の共振回路や
インダクタンスになるように導体パターンを印刷した。
そして、これらの導体パターンが印刷されたグリーンテ
ープを、所定の順番で重ねた後、100℃の温度で100kg/c
m2の圧力を加えて、積層一体化せしめた。なお、各導体
層の接続は、グリーンテープにパンチング等により形成
したスルーホールに導体ペーストを充填して、実現し
た。その後、かかる積層一体化物を500℃の温度で脱バ
インダした後、900℃×30分間の条件で焼成し、同時に
コージェライト系組成のガラス成分の結晶化を行ない、
第1図に示される如き構造の配線基板を得た。
パターンは、パターン精度、接着強度、耐ハンダ性を考
慮して、基板の焼成後、新たに表面パターン用の導体ペ
ーストを印刷し、焼成することにより、形成した。この
場合、表面用の導体ペーストには、市販の厚膜回路用の
Ag/Pt系やAg/Pd系を使用し、また市販のCuペーストも使
用した。
されたMIC回路用の配線基板が得られ、しかもそのよう
な基板においては、導体(Ag系)の抵抗が小さいため
に、損失の小さな共振回路、コンデンサ若しくはインダ
クタンスや伝送損失の小さな伝送線路が得られることに
なり、これによって、高周波特性の極めて優れた多層MI
C基板を実現することが出来た。
電率が大きく、しかも温度係数が小さい、導通抵抗の小
さな導体を内蔵することが可能な誘電体磁器組成物を得
ることが出来、またそのような誘電体磁器組成物を主と
して構成するコージェライト系組成のセラミックは、マ
イクロ波誘電特性が優れているところから、優れた性能
のMIC配線基板を実現することが出来るのである。
す断面図である。 2:誘電体、4:内部導体路 6:表面導体路、8:アース導体路 10:抵抗
Claims (7)
- 【請求項1】SiO2:25〜65重量%、MgO:7〜25重量%、Al
2O3:27〜45重量%、B2O3:0〜20重量%を少なくとも含む
コージェライト系組成のガラスとTiO2との混合粉末を焼
成してなり、生成したコージェライト結晶質母相中に前
記TiO2粒子が分散して存在する誘電体磁器組成物にし
て、 前記ガラスとTiO2とが、下式: 70≦x≦90 10≦y≦30 x+y=100 (但し、x:ガラスの重量% y:TiO2の重量%) を満足する割合において、用いられていることを特徴と
する誘電体磁器組成物。 - 【請求項2】前記混合粉末の100重量部に対して、誘電
率が30以下のフィラー粉末が、合計量で30重量部を越え
ない割合において、更に配合せしめられていることを特
徴とする請求項(1)記載の誘電体磁器組成物。 - 【請求項3】SiO2:25〜65重量%、MgO:7〜25重量%、Al
2O3:27〜45重量%、B2O3:0〜20重量%を少なくとも含む
コージェライト系組成のガラスとTiO2とを、下式: 70≦x≦90 10≦y≦30 x+y=100 (但し、x:ガラスの重量% y:TiO2の重量%) を満足する割合において均一に配合して得られる混合粉
末を用い、この混合粉末から成形された成形体を、1100
℃以下の温度で焼成し、緻密化すると共に、前記ガラス
を結晶化して、コージェライト結晶質相を生成せしめる
ことを特徴とする誘電体磁器組成物の製造法。 - 【請求項4】前記混合粉末の100重量部に対して、誘電
率が30以下のフィラー粉末が、合計量で30重量部を越え
ない割合において、更に配合せしめられている請求項
(3)記載の誘電体磁器組成物の製造法。 - 【請求項5】誘電体と、該誘電体内に設けられた少なく
とも一つの導体路とを有する配線基板において、 該誘電体を、SiO2:25〜65重量%、MgO:7〜25重量%、Al
2O3:27〜45重量%、B2O3:0〜20重量%を少なくとも含む
コージェライト系組成のガラスの割合をx重量%、TiO2
の割合をy重量%としたとき、それら二成分が、下式: 70≦x≦90 10≦y≦30 x+y=100 を満足するような割合にて配合せしめられてなる混合粉
末を焼成することにより形成され、且つ生成したコージ
ェライト結晶質母相中に前記TiO2粒子が分散して存在せ
しめられてなる磁器にて構成したことを特徴とする配線
基板。 - 【請求項6】前記混合粉末の100重量部に対して、誘電
率が30以下のフィラー粉末が、合計量で30重量部を越え
ない割合において、更に配合せしめられている請求項
(5)記載の配線基板。 - 【請求項7】前記導体路が、Ag系導体またはCu系導体ま
たはAu系導体にて形成されている請求項(5)または
(6)記載の配線基板。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2196529A JP2778815B2 (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 誘電体磁器組成物及びその製造法並びにそれを用いた配線基板 |
US07/733,633 US5262595A (en) | 1990-07-25 | 1991-07-22 | Dielectric ceramic body including TiO2 dispersion in crystallized cordierite matrix phase, method of producing the same, and circuit board using the same |
DE69120615T DE69120615T2 (de) | 1990-07-25 | 1991-07-25 | Dielektrischer keramischer Körper, Verfahren zu dessen Herstellung und Schaltungsplatte unter dessen Verwendung |
EP91306826A EP0474354B1 (en) | 1990-07-25 | 1991-07-25 | Dielectric ceramic body, method of producing the same and circuit board using the same |
US08/361,710 US5556585A (en) | 1990-07-25 | 1994-12-22 | Dielectric ceramic body including TIO2 dispersion in crystallized cordierite matrix phase, method of producing the same, and circuit board using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2196529A JP2778815B2 (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 誘電体磁器組成物及びその製造法並びにそれを用いた配線基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0483737A JPH0483737A (ja) | 1992-03-17 |
JP2778815B2 true JP2778815B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=16359258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2196529A Expired - Lifetime JP2778815B2 (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 誘電体磁器組成物及びその製造法並びにそれを用いた配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2778815B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3761289B2 (ja) * | 1996-09-26 | 2006-03-29 | 日本特殊陶業株式会社 | 誘電体材料及びその製造方法並びにそれを用いた回路基板及び多層回路基板 |
JP3393775B2 (ja) * | 1996-12-24 | 2003-04-07 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器組成物および誘電体共振器 |
JP4830223B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2011-12-07 | 宇部興産株式会社 | 高周波用誘電体磁器組成物の製造方法 |
JP4645935B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2011-03-09 | 日立金属株式会社 | 低温焼成磁器組成物およびその製造方法 |
JP4655715B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2011-03-23 | Tdk株式会社 | 低温焼成基板材料及びそれを用いた多層配線基板 |
WO2020023205A1 (en) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | Corning Incorporated | Magnesium aluminosilicate glass ceramics |
CN114835480B (zh) * | 2022-05-09 | 2023-03-21 | 成都理工大学 | 一种超低介电常数且近零谐振频率温度系数的堇青石系微波介电材料及其制备方法 |
-
1990
- 1990-07-25 JP JP2196529A patent/JP2778815B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0483737A (ja) | 1992-03-17 |
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