JP2778071B2 - 耐摩滅層を持った記録／再生磁気ヘッド - Google Patents
耐摩滅層を持った記録／再生磁気ヘッドInfo
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は耐摩滅層を持った記録／再生磁気ヘッド、お
よびより特定的には、磁気記録媒体と接触するその表面
上に耐摩耗層を有する磁気ヘッドに関する。
よびより特定的には、磁気記録媒体と接触するその表面
上に耐摩耗層を有する磁気ヘッドに関する。
テープ速度が5m/sの現在のビデオ（VHS）または回転
デイジタル・オーデイオ・テープ（RDAT）として知られ
ている現在のデイジタル・ヘッド （3.32m/s）用の非常に高い鮮明度を持つフェライト
製基盤でできている磁気ヘッドは、徐々に侵食され、20
00時間使用すれば使えなくなる。このような作動時間の
全般にわたって、ヘッドは20ミクロンの高さが摩耗す
る。
デイジタル・オーデイオ・テープ（RDAT）として知られ
ている現在のデイジタル・ヘッド （3.32m/s）用の非常に高い鮮明度を持つフェライト
製基盤でできている磁気ヘッドは、徐々に侵食され、20
00時間使用すれば使えなくなる。このような作動時間の
全般にわたって、ヘッドは20ミクロンの高さが摩耗す
る。
この摩耗という問題の１つの解決策は、ヘッド上に耐
摩滅層を堆積することである。残念ながら、炭素のよう
な材料をフェライトに付着させるのは困難であり、ま
た、フェライト、アルミナ、ガラスのような、磁気ヘッ
ドを形成し得る材料の不均質性を考えると、炭素層を堆
積させるのは困難であろう。
摩滅層を堆積することである。残念ながら、炭素のよう
な材料をフェライトに付着させるのは困難であり、ま
た、フェライト、アルミナ、ガラスのような、磁気ヘッ
ドを形成し得る材料の不均質性を考えると、炭素層を堆
積させるのは困難であろう。
本発明は、磁気ヘッド上に、更に注目すべきことに、
磁気記録媒体と接触するヘッドの表面に、耐摩滅層を堆
積させるという問題の解決を可能にする。
磁気記録媒体と接触するヘッドの表面に、耐摩滅層を堆
積させるという問題の解決を可能にする。
従って、本発明は、非磁性体の材料でできているギャ
ップによって分離されている２つの磁極を有する記録／
再生磁気ヘッドに関わり、更に次のものを有することを
特徴とする： − 個々の磁極上に存在する、磁極上の高接着係数の磁
気材料の層で、ここでは炭素系の層が高い接着係数を持
つ； − 磁気材料およびギャップの全ての層上に存在する、
炭素系材料の耐摩滅層。
ップによって分離されている２つの磁極を有する記録／
再生磁気ヘッドに関わり、更に次のものを有することを
特徴とする： − 個々の磁極上に存在する、磁極上の高接着係数の磁
気材料の層で、ここでは炭素系の層が高い接着係数を持
つ； − 磁気材料およびギャップの全ての層上に存在する、
炭素系材料の耐摩滅層。
本発明による記録／再生ヘッドは例えば次の各工程に
より製造される。
より製造される。
− 磁気ヘッドの一方の磁極の活性面上に、第１の付着
層を作製する第１の段階； − 第１の付着層の上、ギャップの上および第２の磁極
の上に、非磁性体の層を作製する第２の段階； − 非磁性体材料の層の上に、第２の付着層を作製する
第３の段階； 第１の付着層に到達するまで、第２の接着層および非
磁性体材料の加工のための第４の段階；および、 − ２つの付着層の上およびこれらの層間に残留してい
る非磁性体材料の一部の上に、第１の付着層に達するま
で耐摩滅材料の層を作製する第５の段階。
層を作製する第１の段階； − 第１の付着層の上、ギャップの上および第２の磁極
の上に、非磁性体の層を作製する第２の段階； − 非磁性体材料の層の上に、第２の付着層を作製する
第３の段階； 第１の付着層に到達するまで、第２の接着層および非
磁性体材料の加工のための第４の段階；および、 − ２つの付着層の上およびこれらの層間に残留してい
る非磁性体材料の一部の上に、第１の付着層に達するま
で耐摩滅材料の層を作製する第５の段階。
本発明の別の目的および特徴は、添付された図面を参
照している以下の説明を読めばより明確になるであろ
う。
照している以下の説明を読めばより明確になるであろ
う。
− 第１図は、本発明に従った磁気ヘッドの実施例であ
る。
る。
− 第２図は、第１図に依る磁気ヘッドの変更例であ
る。
る。
− 第３図は、本発明に従ったプレーナ磁気ヘッドの平
面図である。
面図である。
− 第４図は、薄い層の中の磁気ヘッドの断面図であ
る。
る。
− 第５図から第７図は、本発明に従った磁気ヘッドの
製造方法の異なった段階である。
製造方法の異なった段階である。
第１図を参照し、本発明に従った磁気ヘッドの実施例
を最初に述べる。
を最初に述べる。
この磁気ヘッドは、フェライト系の磁性体でできた２
つの磁極P1およびP2を持っている。２つの磁極P1および
P2は、アルミナ（A12 A3）系または珪素（SiO2）系の非
磁性体でできているギャップE1によって分離されてい
る。
つの磁極P1およびP2を持っている。２つの磁極P1および
P2は、アルミナ（A12 A3）系または珪素（SiO2）系の非
磁性体でできているギャップE1によって分離されてい
る。
このタイプの磁気ヘッドは、耐摩滅性の硬い材料で覆
わなければならない。このタイプの層は、できれば、炭
素系の化合物であることが望ましい。しかし、炭素はフ
ェライトによく接着しない。
わなければならない。このタイプの層は、できれば、炭
素系の化合物であることが望ましい。しかし、炭素はフ
ェライトによく接着しない。
本発明に従えば、第１図に示すように、磁極P1および
P2の個々の上に、磁性体でできている付着層S1およびS2
を付着させるようになっている。
P2の個々の上に、磁性体でできている付着層S1およびS2
を付着させるようになっている。
層S1およびS2を形成する材料は、自身が磁極S1および
S2のフェライトによく付着し、また、耐摩滅層C1もこの
材料によく付着するような組成になっている。
S2のフェライトによく付着し、また、耐摩滅層C1もこの
材料によく付着するような組成になっている。
層S1およびS2上に、炭素系の層のような耐摩滅層C1が
堆積されている。
堆積されている。
本発明は、重要なことであるが、さらにギャップを形
成することを防止するために、磁性体で作製される層S1
およびS2を提供する。これらの層は、磁極に効果的に接
着される特性を持ち、また、炭素系の耐摩滅層もこれら
の層S1およびS2に効果的に接着されることが望ましい。
成することを防止するために、磁性体で作製される層S1
およびS2を提供する。これらの層は、磁極に効果的に接
着される特性を持ち、また、炭素系の耐摩滅層もこれら
の層S1およびS2に効果的に接着されることが望ましい。
本発明に従えば、層S1およびS2は、センダスト（Send
ust）という名称で先行技術では知られている材料系の
ものである。センダストとは次の一般式をもつ磁性体で
ある。
ust）という名称で先行技術では知られている材料系の
ものである。センダストとは次の一般式をもつ磁性体で
ある。
FexSiyAlz ここで例えば、 − ｘは70と85との間の値（例えば約80）、 − ｙは５と15との間の値（例えば約10）、および、 − ｄは５と15との間の値（例えば10）である。
センダストは、炭素がセンダストに付着するように、
フェライトによく付着することが実験的に観察され検証
されている。上記の組成においては、センダストはフェ
ライトの磁気特性を有する。しかし、いかなる中間的な
組成も可能である。注目すべきことは、次の一般式を持
つ、炭素のような第４番目の元素を追加することが可能
である。
フェライトによく付着することが実験的に観察され検証
されている。上記の組成においては、センダストはフェ
ライトの磁気特性を有する。しかし、いかなる中間的な
組成も可能である。注目すべきことは、次の一般式を持
つ、炭素のような第４番目の元素を追加することが可能
である。
FexSiyAlzCt ここで、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｔ＝100であり、また鉄、珪素
およびアルミの化合物は前記のものと実質的に同一であ
り、ｔは０と15の間の値である。
およびアルミの化合物は前記のものと実質的に同一であ
り、ｔは０と15の間の値である。
層S1およびS2はまた、上記の接着特性を持つ別の磁生
体でできていてもよい。例えば、この材料はパーマロイ
（Ni Fe）でもよい。
体でできていてもよい。例えば、この材料はパーマロイ
（Ni Fe）でもよい。
付着層S1およびS2によって覆われ、耐摩滅層C1が層S1
およびS2を覆い、フェライトでできている磁極P1および
P2によって、磁気ヘッドは、ヘッドの前を走り耐摩滅層
C1を摩擦する磁気テープT1のような磁気記録媒体に依る
摩耗から保護される。
およびS2を覆い、フェライトでできている磁極P1および
P2によって、磁気ヘッドは、ヘッドの前を走り耐摩滅層
C1を摩擦する磁気テープT1のような磁気記録媒体に依る
摩耗から保護される。
第１図を見れば分かるように、付着層S1およびS2は、
ギャップE2を形成する空間によって、ギャップE1の所で
分離されている。従って、耐摩滅層C1がこのギャップを
埋める。
ギャップE2を形成する空間によって、ギャップE1の所で
分離されている。従って、耐摩滅層C1がこのギャップを
埋める。
第１図に示すように、耐摩滅層C1がギャップE2におい
てくぼみを持つことを防止するために、耐摩滅層C1をみ
がくよいうになっている。更に、第２図の変更例に従え
ば、ギャップE2は、アルミナ（A1203）もしくは珪素（S
iO2）ような材料またはこれらのいずれかの化合物系の
材料からできているようになっている。これによって、
耐摩滅層C1の表面は平らになる。
てくぼみを持つことを防止するために、耐摩滅層C1をみ
がくよいうになっている。更に、第２図の変更例に従え
ば、ギャップE2は、アルミナ（A1203）もしくは珪素（S
iO2）ような材料またはこれらのいずれかの化合物系の
材料からできているようになっている。これによって、
耐摩滅層C1の表面は平らになる。
第３図はプレーナ磁気ヘッドの平面図である。
２つの磁極P1およびP2は、基盤上に位置しているが、
互いに向い合っており、ギャップE1によって分離されて
いる。
互いに向い合っており、ギャップE1によって分離されて
いる。
既に述べたように、磁極は、付着層S1およびS2によっ
て覆われている。これらの層はギャップE2によって分離
されており、これらはセットになって耐摩滅層によって
覆われている。
て覆われている。これらの層はギャップE2によって分離
されており、これらはセットになって耐摩滅層によって
覆われている。
しかし、このタイプのプレーナ・ヘッドは、基盤のギ
ャップ幅より小さいギャップ幅Ｌ（１ミクロンから３ミ
クロン）を持つことが望ましい。従って、磁極は、第３
図に示すようにギャップの端部において狭い部分を持
つ。付着層S1およびS2は、磁極だけを覆うべきではな
く、磁生体でできているこれらの付着層S1およびS2がギ
ャップE1の幅Ｌを増大すること又はギャップE1を短絡す
ることを防止するために、磁極を支えている基盤にまで
延びるべきではない。狭い部分のいずれかの側におい
て、磁極P1およびP2によって覆われていない区域は、従
って、珪素（SiO2）系またはアルミナ（A1203）系の材
料のような非磁性体材料によって占められる。この材料
は付着層S1およびS2の上部と同じ高さであり、これによ
って平滑で平坦な表面が形成される。
ャップ幅より小さいギャップ幅Ｌ（１ミクロンから３ミ
クロン）を持つことが望ましい。従って、磁極は、第３
図に示すようにギャップの端部において狭い部分を持
つ。付着層S1およびS2は、磁極だけを覆うべきではな
く、磁生体でできているこれらの付着層S1およびS2がギ
ャップE1の幅Ｌを増大すること又はギャップE1を短絡す
ることを防止するために、磁極を支えている基盤にまで
延びるべきではない。狭い部分のいずれかの側におい
て、磁極P1およびP2によって覆われていない区域は、従
って、珪素（SiO2）系またはアルミナ（A1203）系の材
料のような非磁性体材料によって占められる。この材料
は付着層S1およびS2の上部と同じ高さであり、これによ
って平滑で平坦な表面が形成される。
付着層S1およびS2並びに非磁生体（V1,V2）のセット
は、第２図に表示されているように耐摩滅層C1（第３図
には図示されていない）によって覆われている。完全に
平滑であり平坦なプレーナ磁気ヘッド表面および、記録
媒体に対する摩擦に依るいかなる摩耗に対しても高い抵
抗力が得られる。
は、第２図に表示されているように耐摩滅層C1（第３図
には図示されていない）によって覆われている。完全に
平滑であり平坦なプレーナ磁気ヘッド表面および、記録
媒体に対する摩擦に依るいかなる摩耗に対しても高い抵
抗力が得られる。
第１図および第２図の磁気ヘッドは、ギャップのいず
れのか側において、MIG（metal in gap:ギャップ内金
属）タイプの金属層を持つタイプのものであってもよ
い。本発明は、このタイプの磁気ヘッドに同様に適用可
能である。
れのか側において、MIG（metal in gap:ギャップ内金
属）タイプの金属層を持つタイプのものであってもよ
い。本発明は、このタイプの磁気ヘッドに同様に適用可
能である。
本発明はまた、第４図に示すように、薄い層内の磁気
ヘッドにも適用可能である。第４図の磁気ヘッドは２つ
の磁性体層P1およびP2を持ち、これによって磁極を形成
している。これらの層P1およびP2は、アルミナのような
支持材料A1およびA2に堅固に結合されており、また、ギ
ャップE1によって分離されている。磁気ヘッドの活性部
分は、ギャップE2によって分離されている例えばセンダ
ストからできている２つの付着層S1およびS2を支持して
おり、また、ギャップE2は耐摩滅層C1によって覆われて
いる。
ヘッドにも適用可能である。第４図の磁気ヘッドは２つ
の磁性体層P1およびP2を持ち、これによって磁極を形成
している。これらの層P1およびP2は、アルミナのような
支持材料A1およびA2に堅固に結合されており、また、ギ
ャップE1によって分離されている。磁気ヘッドの活性部
分は、ギャップE2によって分離されている例えばセンダ
ストからできている２つの付着層S1およびS2を支持して
おり、また、ギャップE2は耐摩滅層C1によって覆われて
いる。
第５図から第７図を参照しながら、付着層S1およびS2
並びに耐摩滅層C1を作製する方法を説明する。
並びに耐摩滅層C1を作製する方法を説明する。
以下の説明は、上記のいかなる磁気ヘッドに対しても
適用される。
適用される。
第１の段階においては、ギャップE1によって分離され
ている２つの磁極P1およびP2を持つ磁気ヘッドの活性表
面上において、より特定的には磁極P1の活性表面上にお
いて、上記のタイプの組成を持った付着層S1が作製され
る。
ている２つの磁極P1およびP2を持つ磁気ヘッドの活性表
面上において、より特定的には磁極P1の活性表面上にお
いて、上記のタイプの組成を持った付着層S1が作製され
る。
第２の段階においては、層S1および磁極P2が非磁性体
の層E3によって覆われる。このようにして、第５図に示
す構造体を得る。
の層E3によって覆われる。このようにして、第５図に示
す構造体を得る。
第３の段階においては、層P3が、第６図に示すよう
に、層S2と同一な材料からできている層S2によって覆わ
れている。
に、層S2と同一な材料からできている層S2によって覆わ
れている。
第４の段階においては、層E3および層S2は、層S1に達
するまで加工される。この時点において、磁極S1の上に
は層E3の材料はなにも残っていない。一方、層S1と層S2
との間には層E3の一部が残留し、これによって層S1とS2
との間にギャップE2を形成する。
するまで加工される。この時点において、磁極S1の上に
は層E3の材料はなにも残っていない。一方、層S1と層S2
との間には層E3の一部が残留し、これによって層S1とS2
との間にギャップE2を形成する。
第５の段階においては、このセットは耐摩滅層C1によ
って覆われる。このようにして、第７図に示すような構
造体を得る。
って覆われる。このようにして、第７図に示すような構
造体を得る。
ひとつの変更例に従うと、もし層E3の材料が磁極P2上
に残留することを防止することが望まれる場合、層E3を
作製する第２の段階の後で、層E3をエッチングする段階
を設け、これによってギャップE2を作製するに必要とさ
れる材料のみを残し、例えば第２図および第４図に従っ
た実施例が得られる。
に残留することを防止することが望まれる場合、層E3を
作製する第２の段階の後で、層E3をエッチングする段階
を設け、これによってギャップE2を作製するに必要とさ
れる材料のみを残し、例えば第２図および第４図に従っ
た実施例が得られる。
例として、センダスト系の付着層の厚さ100オングス
トロームであり、また、炭素系の耐摩滅層の厚さも100
オングストロームであってもよい。
トロームであり、また、炭素系の耐摩滅層の厚さも100
オングストロームであってもよい。
上述の説明が非制限的な例としてのみ述べられたこと
は全く明かである。他の変更例を、本発明の範囲を逸脱
することなく述べることが可能である。デイジタル式の
例は、説明を例証するためにのみ与えられたものであ
る。
は全く明かである。他の変更例を、本発明の範囲を逸脱
することなく述べることが可能である。デイジタル式の
例は、説明を例証するためにのみ与えられたものであ
る。
フロントページの続き (72)発明者 ローラン ジャン‐ルック フランス国 75014 パリ ル フロワ ドボー，71番地 (56)参考文献 特開 昭60−28012（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−83829（ＪＰ，Ａ) 実開 昭55−141324（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/127 - 5/255 G11B 5/31
Claims (5)
- 【請求項１】非磁性体によるギャップ（E1）により分離
される２つのフェライト磁極（P1、P2）を有し、 該磁極（P1、P2）の媒体と対向する表面の上に、 フィライト磁極（P1、P2）と接着性のよい磁性材による
第１の層（S1、S2）をもうけ、 該第１の層と前記ギャップの上に炭素をふくむ第２の層
を耐摩耗層としてもうけ、 前記第１の層の磁性体がFexSiyAlzCt系のものであり、 −ｘ＝70％から85％の鉄； −ｙ＝５％から15％の珪素； −ｚ＝５％から15％のアルミニウム； −ｔが０と15％の間（ｔ≠０）の値である炭素の比率を
有し；また、 −ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｔの和が100に等しく、 前記第１の層は前記第２の層と良好な接着性をもつ材料
であることを特徴とする記録／再生磁気ヘッド。 - 【請求項２】前記フェライト磁極（P1、P2）は基盤（A
1、A2）の上に薄い層に堆積され、ギャップ（E1）によ
り分離され、前記第２の層は媒体と対向するゾーンの前
記基盤の磁極（P1、P2）により覆われない部分及びギャ
ップ（Ｅ）の部分をも覆う、請求項１記載の記録／再生
磁気ヘッド。 - 【請求項３】フェライト磁極（P1、P2）を覆う第１の層
（S1、S2）は第２の非磁性材（E2）により分離されてい
る、請求項１記載の記録／再生磁気ヘッド。 - 【請求項４】第２の非磁性材が珪素をふくむ材料である
請求項３記載の記録／再生磁気ヘッド。 - 【請求項５】第２の非磁性材がアルミナをふくむ材料で
ある請求項３記載の記録／再生磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8714823A FR2622338B1 (fr) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | Tete magnetique d'enregistrement-lecture a couche anti-abrasion et procede de realisation |
| FR87/14823 | 1987-10-27 | ||
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