JP2775313B2 - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
光ディスクおよびその製造方法Info
- Publication number
- JP2775313B2 JP2775313B2 JP1243143A JP24314389A JP2775313B2 JP 2775313 B2 JP2775313 B2 JP 2775313B2 JP 1243143 A JP1243143 A JP 1243143A JP 24314389 A JP24314389 A JP 24314389A JP 2775313 B2 JP2775313 B2 JP 2775313B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thickness
- alloy
- low
- melting point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光ディスクおよびその製造方法に関し、特
に低融点、低熱伝導率の層と高反射率の層とを交互に複
数回積層してC/N比（キャリア信号対雑音比）やS/N比
（信号対雑音比）を高めた優れた記録膜を持つ光ディス
クを得ることを特徴とする光ディスクおよびその製造方
法に関する。
に低融点、低熱伝導率の層と高反射率の層とを交互に複
数回積層してC/N比（キャリア信号対雑音比）やS/N比
（信号対雑音比）を高めた優れた記録膜を持つ光ディス
クを得ることを特徴とする光ディスクおよびその製造方
法に関する。
［従来技術］ 光ディスクは、基板と記録膜とから構成されている。
原盤記録用のフォトレジスト盤は、記録後現像、蒸着、
メッキするため記録膜がむきだしの基板構成となってい
るが、通常、オフィス環境等での使用のため、記録膜の
上に透明カバーを施すことによって記録膜の保護を行
い、光ディスクの特徴である基板越しの記録・再生を行
っている。
原盤記録用のフォトレジスト盤は、記録後現像、蒸着、
メッキするため記録膜がむきだしの基板構成となってい
るが、通常、オフィス環境等での使用のため、記録膜の
上に透明カバーを施すことによって記録膜の保護を行
い、光ディスクの特徴である基板越しの記録・再生を行
っている。
光ディスクを計算機用ファイルメモリとして用いる場
合には、情報をブロック単位に記録する必要があるた
め、トラック１周を複数のセクタに分割し、各セクタの
先頭には、セクタの番地や同期をとるための信号が、凹
凸ピットの形で設けられている。これはトラック案内溝
と一緒に、ディスク基板作製時に、ディスク原盤から複
製転写され、記録膜は、セクタ・ヘッダのピットやトラ
ック案内溝が形成されたディスク基板上に蒸着やスパッ
タリングによってつけられている。
合には、情報をブロック単位に記録する必要があるた
め、トラック１周を複数のセクタに分割し、各セクタの
先頭には、セクタの番地や同期をとるための信号が、凹
凸ピットの形で設けられている。これはトラック案内溝
と一緒に、ディスク基板作製時に、ディスク原盤から複
製転写され、記録膜は、セクタ・ヘッダのピットやトラ
ック案内溝が形成されたディスク基板上に蒸着やスパッ
タリングによってつけられている。
上記各種の光ディスク製造に際し、ディスク基板上に
設ける記録膜としては、主としてTe、In、Se等の低融点
低熱伝導率を有する材料が用いられてきたが、近年は、
これらの金属にPb、Ag、Sn等を加えて合金化させ、C/N
比やS/N比の向上を図ることが行われている。
設ける記録膜としては、主としてTe、In、Se等の低融点
低熱伝導率を有する材料が用いられてきたが、近年は、
これらの金属にPb、Ag、Sn等を加えて合金化させ、C/N
比やS/N比の向上を図ることが行われている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら上述のように単にTe、In、Se等の低融
点、低熱伝導率を有する材料あるいはそれらを合金化さ
せたものから作製されただけの記録膜は、反射率が低い
ため、C/N比やS/N比を所望通りに向上させることが難し
いという問題があった。
点、低熱伝導率を有する材料あるいはそれらを合金化さ
せたものから作製されただけの記録膜は、反射率が低い
ため、C/N比やS/N比を所望通りに向上させることが難し
いという問題があった。
このため何らかの手段でより高いC/N比やS/N比が得ら
れるようにした記録膜の作製方法が求められていた。
れるようにした記録膜の作製方法が求められていた。
［課題を解決するための手段］ 本発明者等を斯る課題を解決するために鋭意研究した
ところ、記録膜をビット形成させるための低融点、低熱
伝導率の層（以下単に「低融点膜」ということがあ
る。）と低融点膜の1/100〜1/10の厚さの極薄の高反射
率の層（高反射膜）とを交互に幾層も積層し、該積層の
全体としての厚みを１μｍ前後に制御することによって
C/N比やS/N比の高められた記録膜を得ることが可能であ
ることを見い出し、本発明を達成することができた。
ところ、記録膜をビット形成させるための低融点、低熱
伝導率の層（以下単に「低融点膜」ということがあ
る。）と低融点膜の1/100〜1/10の厚さの極薄の高反射
率の層（高反射膜）とを交互に幾層も積層し、該積層の
全体としての厚みを１μｍ前後に制御することによって
C/N比やS/N比の高められた記録膜を得ることが可能であ
ることを見い出し、本発明を達成することができた。
すなわち本発明は、光ディスク基板上に低融点、低熱
伝導率を有する金属または合金からなる低融点膜をたと
えば0.03〜0.15μｍの厚さに成膜し、次いで該膜上に、
Cu、Al、Agのうちから選んだ少なくとも１種の金属から
なる高反射膜をたとえば0.005〜0.01μｍの厚さに成膜
することを交互に複数回繰り返して全体としての厚さが
0.05〜1.2μｍの積層型記録膜を成したことを特徴とす
る光ディスクおよびその製造方法を提供するものであ
る。
伝導率を有する金属または合金からなる低融点膜をたと
えば0.03〜0.15μｍの厚さに成膜し、次いで該膜上に、
Cu、Al、Agのうちから選んだ少なくとも１種の金属から
なる高反射膜をたとえば0.005〜0.01μｍの厚さに成膜
することを交互に複数回繰り返して全体としての厚さが
0.05〜1.2μｍの積層型記録膜を成したことを特徴とす
る光ディスクおよびその製造方法を提供するものであ
る。
［作用］ 本発明において低融点膜を形成するための低融点・低
熱伝導率を有する材料として使用できるものには、たと
えばTe、In、Se等の金属グループおよびTe-In-Sb、Te-I
n-Pb、Te-Ag等の合金グループから選ばれる少なくとも
１種の金属または合金があり、前記低融点膜はこれらの
グループから選んだ少なくとも１種を用いてスパッタ装
置で0.03〜0.15μｍの厚さに成膜することにより形成で
きる。
熱伝導率を有する材料として使用できるものには、たと
えばTe、In、Se等の金属グループおよびTe-In-Sb、Te-I
n-Pb、Te-Ag等の合金グループから選ばれる少なくとも
１種の金属または合金があり、前記低融点膜はこれらの
グループから選んだ少なくとも１種を用いてスパッタ装
置で0.03〜0.15μｍの厚さに成膜することにより形成で
きる。
また、高反射膜を形成するための材料としては、たと
えばCu、Al、Agのうちから選ばれる少なくとも１種の金
属を用いることができ、前記高反射膜はこれを用いてス
パッタ装置でたとえば0.005〜0.01μｍの厚さに成膜し
て形成することができる。
えばCu、Al、Agのうちから選ばれる少なくとも１種の金
属を用いることができ、前記高反射膜はこれを用いてス
パッタ装置でたとえば0.005〜0.01μｍの厚さに成膜し
て形成することができる。
本発明の特徴は、上記の低融点・低熱伝導率材料から
形成される低融点膜と高反射率の材料から形成される高
反射膜とを交互に複数層積層させることにあるが、高反
射膜の厚さを低融点膜の厚さの1/100〜1/10という極薄
にしその積層全体の厚さを、0.05〜1.2μｍ、好ましく
は１μｍ以下に制御することが、C/N比またはS/N比向上
の見地から最も好ましいことが実験で確認された。
形成される低融点膜と高反射率の材料から形成される高
反射膜とを交互に複数層積層させることにあるが、高反
射膜の厚さを低融点膜の厚さの1/100〜1/10という極薄
にしその積層全体の厚さを、0.05〜1.2μｍ、好ましく
は１μｍ以下に制御することが、C/N比またはS/N比向上
の見地から最も好ましいことが実験で確認された。
以下、実施例をもって詳細に説明する。
［実施例１］ 光ディスク基板上に保護膜として、SiO2４インチター
ゲットを用いて、スパッタ法によりパワー120W、ガス圧
５×10-3ton、Ar:O2＝3:1のガス雰囲気という条件下で
予め2,000ÅのSiO2膜を形成したものを本発明の光ディ
スク基板として用いた。
ゲットを用いて、スパッタ法によりパワー120W、ガス圧
５×10-3ton、Ar:O2＝3:1のガス雰囲気という条件下で
予め2,000ÅのSiO2膜を形成したものを本発明の光ディ
スク基板として用いた。
該基板上に、Te-In-Ag（原子比1:0.2:0.05）の組成か
らなるTe系４インチターゲット材を用いて、スパッタ法
によりパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの
雰囲気という条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜
した。
らなるTe系４インチターゲット材を用いて、スパッタ法
によりパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの
雰囲気という条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜
した。
次いで該低融点膜上にAl4インチターゲット材を用い
て、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガスのみの雰囲気という条件下で高反射膜を50Å
の厚さに成膜した。
て、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガスのみの雰囲気という条件下で高反射膜を50Å
の厚さに成膜した。
同様にして、低融点膜と高反射膜とを交互に形成する
ことを繰り返し、全体としての形成膜の厚さが0.5μｍ
程度となったとき成膜を終了して、光ディスク用記録膜
と成した。
ことを繰り返し、全体としての形成膜の厚さが0.5μｍ
程度となったとき成膜を終了して、光ディスク用記録膜
と成した。
このようにして得られた記録膜のC/N比を、スペクト
ラムアナライザーで1MHzのキャリア信号について測定し
たところ40dBであった。
ラムアナライザーで1MHzのキャリア信号について測定し
たところ40dBであった。
［実施例２］ 実施例１と同様に予め準備した光ディスク基板上に、
In-Sb-Pb（原子比1.0:0.3:0.5）の組成からなるIn系４
インチターゲット材を用いて、スパッタ法によりパワー
150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの雰囲気という
条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜した。
In-Sb-Pb（原子比1.0:0.3:0.5）の組成からなるIn系４
インチターゲット材を用いて、スパッタ法によりパワー
150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの雰囲気という
条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜した。
次いで該低融点膜上に、Cu4インチターゲット材を用
いて、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガス雰囲気という条件下で高反射膜を50Åの厚さ
に成膜した。
いて、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガス雰囲気という条件下で高反射膜を50Åの厚さ
に成膜した。
上記の成膜を交互に繰り返し積層することによって得
られた全体の厚さ1.0μｍの記録膜のC/N比を実施例１の
場合と同様の方法で調べたところ38dBであった。
られた全体の厚さ1.0μｍの記録膜のC/N比を実施例１の
場合と同様の方法で調べたところ38dBであった。
［実施例３］ 実施例１と同様にして予め準備した光ディスク基板上
に、Te4インチターゲット材を用いて、スパッタ法によ
りパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの雰囲
気という条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜し
た。
に、Te4インチターゲット材を用いて、スパッタ法によ
りパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガスのみの雰囲
気という条件下で低融点膜を0.1μｍの厚さに成膜し
た。
次いで該低融点膜上にAg4インチターゲット材を用い
て、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガス雰囲気という条件下で高反射膜を50Åの厚さ
に成膜した。
て、スパッタ法によりパワー150W、ガス圧５×10-3to
n、Arガス雰囲気という条件下で高反射膜を50Åの厚さ
に成膜した。
上記の成膜を交互に繰り返して実施例１と同様に積層
化することにより、得られた厚さ1.2μｍの記録膜のC/N
比を実施例１と同様の方法で調べたところ40dBであっ
た。
化することにより、得られた厚さ1.2μｍの記録膜のC/N
比を実施例１と同様の方法で調べたところ40dBであっ
た。
［比較例１］ 実施例１と同様にして予め準備した光ディスク基板上
に、Te4インチターゲット材のみを用いて、スパッタ法
によりパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガス雰囲気
という条件下で低融点膜を0.5μｍ成膜して、これを光
ディスク用記録膜とした。
に、Te4インチターゲット材のみを用いて、スパッタ法
によりパワー150W、ガス圧５×10-3ton、Arガス雰囲気
という条件下で低融点膜を0.5μｍ成膜して、これを光
ディスク用記録膜とした。
該記録膜のC/N比を、実施例１と同様に検査したとこ
ろ35dBであり、本発明法で得られたものに比較すると格
段に値が低いことがわかった。
ろ35dBであり、本発明法で得られたものに比較すると格
段に値が低いことがわかった。
［発明の効果］ 本発明によれば、上述のように低融点膜の1/100〜1/1
0の厚さの極めて薄い高反射膜を間にはさんで低融点膜
を幾層も積層させたものからなる記録膜とすることによ
って改善された強度の反射光と高いC/N比またはS/N比の
記録膜を持つ光ディスクを得ることができる。
0の厚さの極めて薄い高反射膜を間にはさんで低融点膜
を幾層も積層させたものからなる記録膜とすることによ
って改善された強度の反射光と高いC/N比またはS/N比の
記録膜を持つ光ディスクを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−261552（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−151151（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−183044（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−167637（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−266039（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/24
Claims (5)
- 【請求項１】基板上に低融点物質からなる金属性低融点
膜と高反射率物質からなる金属性高反射膜とを交互に複
数層積層した記録膜を有してなり、前記高反射膜の厚さ
が前記低融点膜の厚さの1/100〜1/10であることを特徴
とする光ディスク。 - 【請求項２】前記高反射膜の厚さが100Å以下であり、
前記低融点膜の厚さが１μｍ以下である請求項１記載の
光ディスク。 - 【請求項３】前記高反射膜がAl、CuおよびAgからなる群
より選ばれる少なくとも１種の金属からなり、前記低融
点膜がInおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも１
種の金属またはその合金からなる請求項１または２記載
の光ディスク。 - 【請求項４】基板上に低融点、低熱伝導率の金属または
合金の薄膜を0.03〜0.15μｍの厚さに成膜し、次いで該
膜上に、Cu、AlおよびAgからなる群より選ばれる少なく
とも１種の金属からなる高反射膜を0.005〜0.01μｍの
厚さに成膜することを交互に複数回繰り返して全体とし
ての厚さが0.05〜1.2μｍとなるように記録膜を形成す
ることを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項５】前記低融点、低熱伝導率金属または合金
が、Te、InおよびSeからなる群より選ばれる少なくとも
１種の金属またはTe-In-Sb合金、Te-In-Pb合金およびTe
-Ag合金からなる群より選ばれる少なくとも１種の合金
または前記金属と前記合金との組合せであることを特徴
とする請求項４記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243143A JP2775313B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243143A JP2775313B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03105738A JPH03105738A (ja) | 1991-05-02 |
| JP2775313B2 true JP2775313B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=17099429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1243143A Expired - Fee Related JP2775313B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2775313B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06139621A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録媒体 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5934519B2 (ja) * | 1974-05-25 | 1984-08-23 | キヤノン株式会社 | ヒ−トモ−ド記録媒体 |
| JP2537165B2 (ja) * | 1984-04-25 | 1996-09-25 | 株式会社東芝 | 情報記録媒体 |
| JPH0762917B2 (ja) * | 1986-01-20 | 1995-07-05 | ソニー株式会社 | 光学式記録媒体 |
| JPS62183044A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-11 | Canon Inc | 光記録媒体 |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1243143A patent/JP2775313B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03105738A (ja) | 1991-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002518596A (ja) | 光蓄積媒体の反射層または半反射層のための合金 | |
| JP2000109943A (ja) | 薄膜形成用スパッタリングターゲット材およびそれを用いて形成されて成る薄膜、および光学記録媒体 | |
| KR20060031641A (ko) | 광기록매체 및 이를 제조하기 위한 방법, 및 광기록매체상에 데이터를 기록하기 위한 방법 및 광기록매체로부터데이터를 재생하는 방법 | |
| JP2775313B2 (ja) | 光ディスクおよびその製造方法 | |
| JPH09134544A (ja) | 低吸収材料を用いた記録可能な光学的要素及びその製造プロセス | |
| JP3034124B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2537165B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2850713B2 (ja) | 光学的情報記録用媒体 | |
| JPH0426757A (ja) | Ａｌ合金薄膜及び溶製Ａｌ合金スパッタリングターゲット | |
| EP0365610A1 (en) | Method for producing rigid magnetic recording disks | |
| JP2003030899A (ja) | 情報記録媒体、情報の記録再生方法および情報の記録再生装置 | |
| JP2003030901A (ja) | 光記録ディスク反射膜形成用アルミニウム合金 | |
| JPH042436B2 (ja) | ||
| JP2974510B2 (ja) | 光磁気記録素子及びその製造方法 | |
| JPH10289478A (ja) | 光学式情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2967949B2 (ja) | 光学的情報記録用媒体 | |
| JP3600177B2 (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2699690B2 (ja) | 光学的情報記録用媒体 | |
| JP5600632B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH10334507A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0649391B2 (ja) | Ｄｒａｗ用光記録媒体 | |
| EP0613129A1 (en) | High stability gold based alloy reflectors for use in a writable compact disk | |
| JPH01229438A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH02152046A (ja) | 光磁気メディア | |
| JPH02128333A (ja) | 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080501 Year of fee payment: 10 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080501 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |