JPH02128333A - 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクおよび光ディスクの製造方法Info
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- JPH02128333A JPH02128333A JP63281759A JP28175988A JPH02128333A JP H02128333 A JPH02128333 A JP H02128333A JP 63281759 A JP63281759 A JP 63281759A JP 28175988 A JP28175988 A JP 28175988A JP H02128333 A JPH02128333 A JP H02128333A
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- Japan
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- gold
- titanium
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- sputtering
- optical disk
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Links
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
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- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画１文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画１文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
再生する光ディスクおよび光ディスクの製造方法に関す
るものである。
るものである。
従来の技術
一般に、光ディスクはその情報密度が大きいこと、ノイ
ズが少ないことなどから情報媒体として有望視され、ビ
デオディスク、ディジタルオーディオディスクとして商
品化されている。
ズが少ないことなどから情報媒体として有望視され、ビ
デオディスク、ディジタルオーディオディスクとして商
品化されている。
第５図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にビ
ット列状に記録され、半導体レーザ光により再生される
ものである。第４図において、１はディスク、２は樹脂
基板、３は樹脂基板２に刻まれたピット列状のディジタ
ル信号部、４はその表面に形成された反射膜、６は反射
膜４に設けられた保護膜、６は保護膜６に設けられたレ
ーベル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
ット列状に記録され、半導体レーザ光により再生される
ものである。第４図において、１はディスク、２は樹脂
基板、３は樹脂基板２に刻まれたピット列状のディジタ
ル信号部、４はその表面に形成された反射膜、６は反射
膜４に設けられた保護膜、６は保護膜６に設けられたレ
ーベル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
反射膜４はディジタル信号を再生するため、保護膜６は
反射膜を保護するため、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するために各々必要なものである。
反射膜を保護するため、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するために各々必要なものである。
従来は、反射膜としてアルミニウム薄膜が、反射率を十
分満足すること、反射膜を形成する薄膜形成装置の設備
費用が安くつくことなどにより、真空蒸着などの方法で
樹脂基板上に形成されていた。
分満足すること、反射膜を形成する薄膜形成装置の設備
費用が安くつくことなどにより、真空蒸着などの方法で
樹脂基板上に形成されていた。
また、イオンブレーティング蒸着法にて金（Ａｕ）薄膜
を反射膜として用いる方法が特開昭６３−２００３３７
号公報に示されている。
を反射膜として用いる方法が特開昭６３−２００３３７
号公報に示されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成では、一般にアルミニウ
ムは非常に酸化されよい材料であり、しかも保護膜とし
て紫外線硬化型樹脂が数μｍ設けられているだけである
ため、空気中の水分を吸収し、容易にアルミニウム反射
膜が酸化されるなどの課題を有していた。
ムは非常に酸化されよい材料であり、しかも保護膜とし
て紫外線硬化型樹脂が数μｍ設けられているだけである
ため、空気中の水分を吸収し、容易にアルミニウム反射
膜が酸化されるなどの課題を有していた。
特開昭６３−２００３３７号公報に示されている金の反
射膜は耐食性は大きいが、全単体であるため価格が高く
つくこと、設備費用がかかることなどの課題がある。
射膜は耐食性は大きいが、全単体であるため価格が高く
つくこと、設備費用がかかることなどの課題がある。
本発明は上記課題に鑑み、信頼性が高く、経時変化の少
ないディスクを提供するものである。
ないディスクを提供するものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明は、ディジタル信号が
形成された樹脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５
０ ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔ
ｉ）との合金薄膜で形成された反射膜を有するものであ
る。
形成された樹脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５
０ ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔ
ｉ）との合金薄膜で形成された反射膜を有するものであ
る。
作 用
本発明は上記した構成によって、ディジタル信号が形成
された樹脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０
ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチ２＝ウム（Ｔｉ）
との合金薄膜で形成された反射膜を有する光ディスクを
提供するものである。
された樹脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０
ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチ２＝ウム（Ｔｉ）
との合金薄膜で形成された反射膜を有する光ディスクを
提供するものである。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディスクについて図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
第１図は本発明の光ディスクを示す要部拡大図である。
２はピット列状の′ディジタル信号３が形成された樹脂
基板、８は上記樹脂基板２上に設けられた反射膜である
金（Ａｕ）の組成比が１〜５゜ａｔｏｍｉｃ％である金
（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｌ）との合金薄膜である。５
は反射膜４に設けられた保護膜、６は保護膜６に設けら
れたレーベル印刷膜である。
基板、８は上記樹脂基板２上に設けられた反射膜である
金（Ａｕ）の組成比が１〜５゜ａｔｏｍｉｃ％である金
（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｌ）との合金薄膜である。５
は反射膜４に設けられた保護膜、６は保護膜６に設けら
れたレーベル印刷膜である。
第２図は本発明の光ディスクの製造方法であるスパッタ
装置の断面図を示す。９はスパッタ装置であり、１０は
予備真空室、１１はスパッタ室、１２はディスク取出用
の予備真空室、１３は金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ
）とにより構成されたスパッタ用ターゲットである。ス
パッタ用ターゲット１３は、金（Ａｕ）の組成比が１〜
５０ ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチタニウム（
ＴＬ）との合金薄膜反射膜を形成するため、金（Ａｕ）
とチタニウム（Ｔｉ）との面積比を変化させている。
装置の断面図を示す。９はスパッタ装置であり、１０は
予備真空室、１１はスパッタ室、１２はディスク取出用
の予備真空室、１３は金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ
）とにより構成されたスパッタ用ターゲットである。ス
パッタ用ターゲット１３は、金（Ａｕ）の組成比が１〜
５０ ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチタニウム（
ＴＬ）との合金薄膜反射膜を形成するため、金（Ａｕ）
とチタニウム（Ｔｉ）との面積比を変化させている。
通常、金（Ａｕ）の方がチタニウム（Ｔｉ）に比べてス
パッタリング効率が高いため、金の面積（量）は所要の
組成比よりも少なくてすむという特長がある。
パッタリング効率が高いため、金の面積（量）は所要の
組成比よりも少なくてすむという特長がある。
実験例では、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との面積
比を１：１０にした場合、金の組成比は２Ｑａｔｏｍｉ
ｃ％であった。
比を１：１０にした場合、金の組成比は２Ｑａｔｏｍｉ
ｃ％であった。
まだ、この場合の反射率は８０％であった。
また、他の実験例として、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔ
ｉ）との面積比を可変し、金の組成比を順次変化させた
場合の測定値を示す。第３図に、コンパクトディスクに
金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との合金薄膜で形成さ
れた反射膜を設けた場合の反射率を示す。
ｉ）との面積比を可変し、金の組成比を順次変化させた
場合の測定値を示す。第３図に、コンパクトディスクに
金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との合金薄膜で形成さ
れた反射膜を設けた場合の反射率を示す。
金（Ａｕ）の組成比をＯａｔｏｍｉｃ％つまりチタニウ
ム（Ｔｉ）の場合の反射率は６０％、金の組成比を１
ａｔｏｍｉｃ％にした場合の反射率は６０％、金の組成
比を２０ ａｔｏｍｉｃ％にした場合の反射率は８０％
、金の組成比を１００％つまり金だけの場合は反射率は
９６％であった。
ム（Ｔｉ）の場合の反射率は６０％、金の組成比を１
ａｔｏｍｉｃ％にした場合の反射率は６０％、金の組成
比を２０ ａｔｏｍｉｃ％にした場合の反射率は８０％
、金の組成比を１００％つまり金だけの場合は反射率は
９６％であった。
反射率と、８゛０℃、９６％の環境における経時変化特
性、コスト面、およびスパッタ条件等とから、金（Ａｕ
）の組成比が１〜５０ ａｔｏｍｉｃ ％ テある、金
（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合金薄膜が反射膜
として適していることが判明した。
性、コスト面、およびスパッタ条件等とから、金（Ａｕ
）の組成比が１〜５０ ａｔｏｍｉｃ ％ テある、金
（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合金薄膜が反射膜
として適していることが判明した。
以上のように本発明の、ディジタル信号が形成された樹
脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０ａｔｏｍｉ
ｃ％である、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合
金薄膜で形成された反射膜を有する本発明の光ディスク
の欠陥を程度を示すエラーフラッグ数の、８０℃、９５
％の環境における経時変化を第４図に示す。
脂基板上に、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０ａｔｏｍｉ
ｃ％である、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合
金薄膜で形成された反射膜を有する本発明の光ディスク
の欠陥を程度を示すエラーフラッグ数の、８０℃、９５
％の環境における経時変化を第４図に示す。
第３図に示されるように、本発明の光ディスクは従来の
アルミニウム（Ａ４）反射膜と比べて、エラーフラッグ
数の増加が少なく、優れた経時変化特性を示すことが分
かる。
アルミニウム（Ａ４）反射膜と比べて、エラーフラッグ
数の増加が少なく、優れた経時変化特性を示すことが分
かる。
発明の効果
このように、ディジタル信号が形成された樹脂基板上に
、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０ ａｔｏｍｉｃ％であ
る金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合金薄膜で形
成された反射膜を有することを特徴とする光ディスク、
および（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）とにより構成さ
れたスパッタ用ターゲットを用い、金（Ａｕ）とチタニ
ウム（τｌ）との面積比を変化させ、スパッタリング法
により、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との合金薄膜
反射膜を形成する光デイスク製造方法は、全単体の蒸着
に比°べて、金の量が少なくてすむこと、設備費用が安
くつくこと、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合
金薄膜反射膜の耐食性が優れていることなど、安価に信
頼性が高い光ディスクを提供することができる。
、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０ ａｔｏｍｉｃ％であ
る金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合金薄膜で形
成された反射膜を有することを特徴とする光ディスク、
および（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）とにより構成さ
れたスパッタ用ターゲットを用い、金（Ａｕ）とチタニ
ウム（τｌ）との面積比を変化させ、スパッタリング法
により、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との合金薄膜
反射膜を形成する光デイスク製造方法は、全単体の蒸着
に比°べて、金の量が少なくてすむこと、設備費用が安
くつくこと、金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ ）との合
金薄膜反射膜の耐食性が優れていることなど、安価に信
頼性が高い光ディスクを提供することができる。
第１図は本発明の光ディスクを示す要部断面拡大図、第
２図は本発明の光ディスクの製造方法であるスパッタ装
置の断面図、第３図は同光ディスクの反射率の組成変化
による特性図、第４図はエラーフラッグ数の８０℃、９
５％の環境における経時変化特性図、第６図ａ、ｂ、ｃ
は光ディスクの一種であるコンパクトディスクの平面図
、断面図および要部拡大図である。 ２・・・・・・樹脂基板、３・・・・・・ディジタル信
号、８・・・・・・金（Ａｕ）とチタニウＬ（Ｔｉ）と
の合金薄膜、９・・・・・・スパッタ装置、１０・・・
・・・予備真空室、１１・・・・・・スパッタ室、１２
・・・・・・ディスク取出用の予備真空室、１３・・・
・・・金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）とにより構成さ
れたスパッタ用ターゲット。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名２−
−− ヂ ａ 基 版 ３−・ 乎 イ ジ タ Ｊし 化 号５
・−一 保 ｆｆ 震 ６− レーベル岨＃Ｊ膜 １ど 第 図 ？ υ ／ｆｌＸ＋ 金 （ａｔｏｒｒｕ Ｃ％ ） 第 図 Ｍ境テスト時間（ル〕 弔 図
２図は本発明の光ディスクの製造方法であるスパッタ装
置の断面図、第３図は同光ディスクの反射率の組成変化
による特性図、第４図はエラーフラッグ数の８０℃、９
５％の環境における経時変化特性図、第６図ａ、ｂ、ｃ
は光ディスクの一種であるコンパクトディスクの平面図
、断面図および要部拡大図である。 ２・・・・・・樹脂基板、３・・・・・・ディジタル信
号、８・・・・・・金（Ａｕ）とチタニウＬ（Ｔｉ）と
の合金薄膜、９・・・・・・スパッタ装置、１０・・・
・・・予備真空室、１１・・・・・・スパッタ室、１２
・・・・・・ディスク取出用の予備真空室、１３・・・
・・・金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）とにより構成さ
れたスパッタ用ターゲット。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名２−
−− ヂ ａ 基 版 ３−・ 乎 イ ジ タ Ｊし 化 号５
・−一 保 ｆｆ 震 ６− レーベル岨＃Ｊ膜 １ど 第 図 ？ υ ／ｆｌＸ＋ 金 （ａｔｏｒｒｕ Ｃ％ ） 第 図 Ｍ境テスト時間（ル〕 弔 図
Claims (2)
- （１）ディジタル信号が形成された樹脂基板上に、金（
Ａｕ）の組成比が１〜５０ａｔｏｍｉｃ％である、金（
Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）との合金薄膜で形成された
反射膜を有することを特徴とする光ディスク。 - （２）金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）とにより構成さ
れたスパッタ用ターゲットを用い、金（Ａｕ）とチタニ
ウム（Ｔｉ）との面積比を変化させ、樹脂基板上に、ス
パッタリング法により、金（Ａｕ）の組成比が１〜５０
ａｔｏｍｉｃ％である金（Ａｕ）とチタニウム（Ｔｉ）
との合金薄膜反射膜を形成することを特徴とする光ディ
スクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281759A JPH02128333A (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281759A JPH02128333A (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02128333A true JPH02128333A (ja) | 1990-05-16 |
Family
ID=17643580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63281759A Pending JPH02128333A (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02128333A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0254442A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報担体ディスク |
-
1988
- 1988-11-08 JP JP63281759A patent/JPH02128333A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0254442A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報担体ディスク |
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