JP2773118B2 - 光学活性なアリルアルコール誘導体 - Google Patents
光学活性なアリルアルコール誘導体Info
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、後述する〔Ｉ〕〜〔IV〕式で示される光学
活性な新規アリルアルコール誘導体に関するものであ
る。 本発明の光学活性なアリルアルコール誘導体は強い生
理活性を有するロイコトリエンB4（LTB4），リポキシ
ン，ヒドロキシエイコサテトラエン（HETE）等の生理活
性化合物の合成中間体として有用である。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕 従来より、ロイコトリエンB4等の生理活性化合物が注
目されており、これら化合物を合成する方法も種々提案
されている。しかし、これらの合成法は問題が多い。例
えば、ロイコトリエンB4の合成法は各種知られている
が、大部分は糖由来の光学活性中間体を使用して煩雑な
工程を経由する合成方法である。これに対し、糖由来の
光学活性中間体を用いない方法としては次のものが知ら
れている。 （１）インオン誘導体を光学活性な水素化ホウ素試剤で
不斉水素還元して得られる光学活性なインオール誘導体
を出発原料とする方法（Nicolaou等,J.A.C.S.,106,3548
（1984））。 （２）酵素による不斉還元や不斉加水分解を利用して得
られる光学活性なα−オキシアルデヒドを出発原料とす
る方法（C.J.Sin等,J.O.C.,51,1253（1986））。 しかし、上述の（１），（２）の方法はいずれも高価
な不斉還元剤を必要としたり、不斉反応の収率及び選択
率が悪かったりして、高純度のロイコトリエンを大量に
製造する方法としては実用的でない。 本発明は上記従来技術の問題点を解決し、ロイコトリ
エン等の生理活性化合物を有利に合成できる新規中間体
として有用な光学活性アリルアルコール誘導体を提供す
ることを目的とする。 〔問題点を解決するための手段及び作用〕 本発明者は、種々の光学活性アリルアルコール誘導体
につき鋭意検討を行なった結果、後述する反応方法に従
うことにより、下記一般式〔Ｉ〕〜〔IV〕 （式中、Ａは−Ｃ≡Ｃ−SiR1R2R3を示し、R1、R2及びR3
は炭素数１〜５のアルキル基である。 ＹはＨ又はOZ′を示し、Ｚ及びＺ′はそれぞれＨ又は
水酸基の保護基である。Ｒはアルコキシカルボニル基置
換炭素数１〜10のアルキル基又はカルボキシル基置換炭
素数１〜10のアルキル基を示す。） で表わされる光学活性な新規アリルアルコール誘導体が
得られると共に、これらアリルアルコール誘導体がロイ
コトリエンB4などの生理活性化合物の合成中間体として
有用であり、これらアリルアルコール誘導体を経由する
ことにより、ロイコトリエンB4などの生理活性化合物を
高収率で合成し得ることを知見し、本発明を完成するに
至ったものである。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 本発明に係る新規アリルアルコール誘導体は、上記式
〔Ｉ〕〜〔IV〕で示されるものである。 ここで、これら式〔Ｉ〕〜〔IV〕において、Ｚ又は
Ｚ′で示した水酸基の保護基としては、トリアルキルシ
リル基（例えばトリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基）、アルコキシ
アルキル基（例えばメトキシメチル基、エトキシエチル
基、テトラヒドロピラニル基）、アラルキルオキシアル
キル基（例えばベンジルオキシメチル基）、トリチル
基、更にはアシル基（例えばアセチル基、ｐ−ニトロベ
ンゾイル基、2,4−ジニトロフェニルカルボニル基）等
が挙げられる。 なお、Ｒの具体例としては、 （式中R4は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を示し、
n1は１〜10の整数である。） 等が挙げられる。 上述したアリルアルコール誘導体において、Ａは−Ｃ
≡Ｃ−SiR1R2R3であるが、本発明のアリルアルコール誘
導体は、ＡがR1R2R3Sn、ハロゲン原子である化合物を経
て合成できる。この場合、置換基ＡがR1R2R3Snである化
合物は例えば下記反応式ａ〜ｄに従って合成できる。 （但し、R1,R2,R3はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基
を示す。） この反応式ａ〜ｄの合成法に従うと全てトランス型の
化合物が合成できる。この場合、これら合成法の条件と
しては、〔1a〕〜〔4a〕の化合物とR1R2R3SnLiとを反応
させるに当り、R1R2R3SnLiが〔1a〕〜〔4a〕の化合物に
対し小過剰モルになるように用いることが好ましい。反
応温度は特に制限されないが、−40℃〜80℃で反応させ
ることが好適であり、通常室温で１〜５時間で反応は完
了する。反応溶媒は反応に直接関与しない溶媒、例えば
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン等のエーテル系溶媒に、必要に応じヘキサンやヘキ
サメチルホスホトリアミドやジメチルスルホキシドを添
加した溶媒を用いることができる。 なお、得られた化合物が水酸基の保護基やカルボキシ
ル基の保護基（上述したZ,Z′,R4,R5で示した基）を有
する場合、これら保護基を上記の反応の後、常法に従
い、脱保護或いは加水分解処理によって水素原子に変換
することもできる。また逆に、水酸基やカルボキシル基
を保護或いはエステル化することもできる。 次に、置換基Ａがハロゲンである化合物は、例えば上
述した置換基ＡがR1R2R3Snである化合物〔I a〕〜〔IV
a〕から下記反応式ｅ〜ｈに従って合成することができ
る。 この反応式ｅ〜ｈの合成法に従うとトランス体の化合
物からはトランス体、シス体の化合物からはシス体を合
成することができる。 これらの合成法において、反応条件としては〔I a〕
〜〔IV a〕の化合物とハロゲン分子（X2）とを反応させ
るにあたり、ハロゲン分子が小過剰モルになるように用
いることが好ましく、反応温度は−80℃〜40℃として反
応させることが好適であり、通常−20℃〜20℃において
0.1〜２時間で反応は完了する。反応溶媒は、反応に直
接関与しない溶媒で、後処理の容易さなどからなるべく
低沸点の溶媒が好ましく用いられ、例えばジエチルエー
テル、ジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、塩化メ
チレン、ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼ
ン等の芳香族溶媒などが挙げられる。 なお、水酸基の保護基やカルボキシル基の保護基を有
する化合物の場合、上記反応の後、上述したように脱保
護或いは加水分解処理によってＨに変換することもでき
る。また逆に水酸基やカルボキシル基を保護或いはエス
テル化することもできる。 更に、置換基Ａがハロゲンである化合物は、下記式の
如く合成することもできる。 本合成法に従うと、トランス体の化合物からはシス
体、シス体の化合物からはトランス体を合成することが
できる。 これらの合成法において、反応条件としては、〔1b〕
〜〔4b〕の化合物とハロゲン分子（X2）とを反応させる
に当り、ハロゲン分子が小過剰モルになるように用いる
ことが好ましい。反応温度は−80℃〜40℃が好適で、通
常−20℃〜20℃において0.1〜２時間で反応は完了す
る。反応溶媒は、反応に直接関与しない溶媒で、後処理
の容易さなどからなるべく低沸点の溶媒が用いられ、例
えばジエチルエーテル、ジメチルエーテルなどのエーテ
ル系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタンなどのハロゲ
ン系溶媒、ベンゼン等の芳香族溶媒などが挙げられる。 また、置換基がR1R2R3Si−Ｃ≡Ｃ−である化合物は、
例えば置換基ＡがＸである化合物からトリアルキルシリ
ルアセチレン（R1R2R3SiC≡CH）を用いて下記反応式ｍ
〜ｐに従って合成することができる。 本合成法に従うとトランス体の化合物からはトランス
体、シス体の化合物からはシス体を合成することができ
る。 この場合、これら合成法において、〔I c〕〜〔IV
c〕の化合物とトリアルキルシリルアセチレン（R1R2R3S
iC≡CH）とを反応させるにあたり、トリアルキルシリル
アセチレンが小過剰になるように用いることが好まし
く、反応温度は−80℃〜40℃とすることが好適で、通常
−20℃〜20℃において0.1〜100時間で反応は完了する。
反応溶媒はベンゼン等の芳香族溶媒を使用することがで
きる。 なお、水酸基の保護基やカルボキシル基の保護基或い
は水酸基やカルボキシル基の処理は上記と同様である。 更に、上記置換基ＡがR1R2R3Si−Ｃ≡Ｃ−の化合物
は、Ａが−Ｃ≡CHである化合物を得ることができる。即
ち、置換基が−Ｃ≡CHである化合物は、置換基ＡがR1R2
R3Si−Ｃ≡Ｃ−である上記〔I c〕〜〔IV c〕の化合物
から下記式の如く製造することができる。 本合成法に従うとトランス体の化合物からはトランス
体、シス体の化合物からはシス体を合成することができ
る。 これらの合成法において、反応条件としては〔I c〕
〜〔IV c〕の化合物の−Ｃ−SiR1R2R3基の脱シリル化の
条件が一般的に用いられるが、ＺやＺ′の保護基の種類
によっては、それらに影響を与えない方法や逆に場合に
よってはそれらを同時に脱保護させる方法が選ばれる。
一例としては、〔I c〕〜〔IV c〕の化合物のテトラヒ
ドロフラン：エタノール：水＝1:1:1溶液を調製し、０
℃で硝酸銀、次いでシアン化カリを加え、撹拌する方法
により、ＺやＺ′に影響を与えないで化合物〔I d〕〜
〔IV d〕を得ることができる。 本発明の光学活性なアリルアルコール誘導体は、ロイ
コトリエンB4、リポキシン、HETE等の生理活性物質の合
成中間体として有用で、これらアリルアルコール誘導体
を経由することにより、これらの生理活性物質を高収率
で合成することができる。 例えば、ロイコトリエンB4は次の如く合成することが
できる。 〔発明の効果〕 本発明に係る新規化合物は、ロイコトリエンB4,リポ
キシン,HETE等の生理活性物質の合成中間体として有用
である。 以下、実施例と参考例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではな
い。 なお、下記の例において、Meはメチル基、Etはエチル
基、Prはプロピル基、Buはブチル基、Amはアミル基、Ph
はフェニル基を示す。 参考例１ 化合物（１）（7.0g,54mmol）のTHF溶液（30ml）を−
78℃に冷却した。この溶液に化合物（２）のTHF−ｎ−
ヘキサン溶液を滴下した。−78℃で30分間かきまぜた
後、水層をベンゼンで抽出した。集めたベンゼン溶液を
MgSO4上で乾燥し、減圧下濃縮した。粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン:Et2O＝3
0:1→3:1）で精製すると化合物（３）が6.92g（収率55.
9％）得られた。 〔化合物（３）の特性値〕 IR（neat）:3400,1727,842cm-1 'H−NMR（CCl4）δ:5.97（dd,J＝18.3,3.6Hz,1H）,5.
77（d,J＝18.3Hz,1H）,4.08−3.86（m,1H）,3.58（S,3
H）,3.02（brs,1H）,2.26（t,J＝7Hz,2H）2.05−1.25
（m,4H）,0.07（S,9H）13C−NMR（CDCl3）δ:174.0,148.3,129.4,74.0,51.4,
36.2,33.8,20.8,−1.4 化合物（３）（4.0g,17.4mmol）,Ti（Ｏ−jPr）
４（5.18ml,17.4mmol）,D（−）酒石酸ジイソプロピル
（4.43ml,20.9mmol）,t−ブチルハイドロパーオキサイ
ド（6.9ml,CH2Cl2中3.78モル,26.1mmol）,CH2Cl2（120m
l）を用い、不斉エポキシ化反応と同じ操作を行い（−2
1℃,20h;ワークアップ:Me2S（2.6ml,34.8mmol）,10％酒
石酸（〜8ml）,Et2O（120ml）,NaF（30g））、化合物
（４）を1.71g（42.8％）並びにエポキシド（５）を1.9
3g（45.1％）を得た。 〔化合物（４）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋6.78゜（C 1.15,CHCl3）1H−NMR,IRは化合物（３）と同じ。 〔化合物（５）の特性値〕 IR（neat）:3410,1726,1248,843cm-1 1H−NMR（CDCl3）δ：−0.08（S,9H）,1.2−1.8（m,4
H）,2.08−2.28（m,3H）,2.62（t,J＝5.1Hz,1H）,2.82
（br d,J＝2.4Hz,1H）,3.46（S,3H）,3.40−3.62（m,1
H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.4,69.5,58.1,50.9,47.5,3
3.6,33.0,20.5,−4.1 ▲〔α〕25 D▼：＋6.74゜（C 1.75,CHCl3） ０℃に冷却した化合物（４）（1.71g,7.43mmol）のCH
2Cl2溶液（30ml）に臭素（0.39ml,7.5mmol）を滴下し
た。10分後TLCで化合物（４）が消失したことを確認し
た。この溶液をNa2S2O3水溶液及び飽和NaHCO3水溶液の
混合水溶液に注いだ。生成物をｎ−ヘキサンで２回抽出
した。ヘキサン層をMgSO4上で乾燥し、濃縮すると臭素
の付加物が得られた。 上で得た粗生成物をTHF（15ml）に溶かし、０℃に冷
却した。この溶液にｎ−Bu4NF（14ml,8.8mmol,THF中0.6
3mol）を滴下し、10分間かきまぜた。原料の消失を確認
した後、飽和NaCl水溶液に注いだ。生成物はエーテルで
３回抽出した。集めた有機層をMgSO4上で乾燥し、濃縮
すると化合物（６）が1.7g得られた（収率100％）。こ
のものは精製することなしに次の反応に供した。なお、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する
と、次のようなデーターを得られた。 〔化合物（６）の特性値〕 1H−NMR（CCl4）δ:1.23−1.88（m,7H）,2.17−2.38
（m,2H）,3.56（S,3H）,4.37−4.61（m,1H）,5.82−6.3
8（m,2H） 参考例２ 化合物（６）（1.7g）をDMF（20ml）に溶かし、０℃
に冷却した。この溶液にイミダゾール（1.52g,22.3mmo
l）並びにｔ−ブチルジメチルクロルシラン（以下、TBS
Clと記す）（1.68g,11.1mmol）を加え、室温で一夜かき
まぜた。DMF溶液を飽和NaHCO3水溶液に注ぎ、生成物を
ｎ−ヘキサンで３回抽出した。ヘキサン層をMgSO4上で
乾燥し、濃縮すると化合物（７）の粗生成物が得られ
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製す
ると化合物（７）が1.92g（化合物（４）からの収率73.
6％）得られた。 〔化合物（７）の特性値〕 IR（neat）:1737,1249,1088,836,779cm-1 1H−NMR（CCl4）δ:0.02（S,3H）,0.07（S,3H）,0.88
（S,9H）,1.18−1.84（m,4H）,2.11−2.38（m,2H）,3.5
8（S,3H）,4.36−4.69（m,1H）,5.93−6.18（m,2H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.4,138.5,106.1,70.6,51.1,
36.4,33.9,25.8,20.5,18.0,−4.5,−4.9 実施例１ アルゴン雰囲気下、化合物（７）（1.54g,4.39mmo
l）、Me3SiC≡CH（1.25ml,8.78mmol）、ｎ−PrNH2（1.0
8ml,13.2mmol）のベンゼン溶液（20ml）にCuI（58mg,0.
31mmol）、Pd（PPh3）４（152mg,0.13mmol）を加えた。
室温下、暗所で20時間かきまぜた後、飽和NH4Cl水溶液
中に注いだ。ヘキサンで３回抽出し、MgSO4上で乾燥し
た後、濃縮すると化合物（８）が得られた。このものは
精製することなしに次の反応に供した。なお、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製すると次のようなデ
ータが得られた。 〔化合物（８）の特性値〕 1H−NMR（CCl4）δ:0.01（S,3H）,0.06（S,3H）,0.18
（S,9H）,0.88（S,3H）,1.30−1.82（m,4H）,2.11−2.3
8（m,2H）,3.58（S,3H）,4.48−4.76（m,1H）,5.39（d,
J＝11.1Hz,1H）,5.80（dd,J＝8.4,11.1Hz,1H） 参考例３ 化合物（８）をTHF（15ml）、EtOH（15ml）、H2O（15
ml）に溶かし、０℃に冷却した。この中にAgNO3（2.98
g,17.6mmol）を加えた。約15分後、KCN（2.0g,30.7mmo
l）を少しづつ加えていった。０℃で約３時間かきまぜ
た後、飽和NaCl水溶液に注いだ。生成物はヘキサンで３
回抽出した。ヘキサン層を１つに集め、MgSO4上で乾燥
した。溶媒を留去し、得られた残液をシリカゲルカラム
グロマトグラフィーで生成すると化合物（９）が1.24g
（化合物（７）からの収率95.4％）得られた。 〔化合物（９）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋49.6゜（C 1.15,CHCl3） IR（neat）:3290,1737,1249,1083,838,774cm-1 1H−NMR（CCl4）δ:0.01（S,3H）,0.04（S,3H）,0.88
（S,9H）,1.37−1.83（m,4H）,2.08−2.34（m,2H）,2.9
9（d,J＝3.0Hz,1H）,3.57（S,3H）,4.47−4.73（m,1
H）,5.38（dd,J＝3.0,11.1Hz,1H）,5.87（dd,J＝8.4,1
1.1Hz,1H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.0,148.0,107.4,82.5,79.5,
70.2,50.8,36.8,33.6,25.7,20.4,17.9,−4.6,−5.1 参考例４ アルゴン雰囲気下、（Ｅ）−１−トリ−ｎ−ブチル錫
−２−トリメチルシリルエテン6.2g（16mmol）のTHF溶
液（25ml）を−78℃に冷却後、ｎ−BuLi（10ml,15.3mmo
l）を滴下し、１時間撹拌した。この溶液に化合物（1
0）（1.2g,8.2mmol）を加え、１時間撹拌後、飽和NH4Cl
水溶液（10ml）を加えた有機層をｎ−ヘキサン（50ml×
２）で抽出した。集めた混合溶液をMgSO4上で乾燥し、
減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン/Et2O＝20/1→3/1）で精製すると
化合物（11）が1.69g（7.0mmol,86％）得られた。 〔化合物（11）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.10（S,9H）,0.90（t,J＝6.
6Hz,3H）,1.1−1.6（m,6H）,1.86−2.14（m,2H）,2.22
（t,2H,J＝6Hz）,3.98（dt,J＝4Hz,6Hz,1H）,5.14−5.6
0（m,2H）,5.75（d,J＝18.6Hz,1H）,6.02（dd,J＝18.6H
z,3.8Hz,1H） IR（neat）:3340,1610,1240,830cm-1 13C−NMR（CDCl3）δ:148.0,133.3,129.2,124.5,73.
8,35.1,31.5,29.3,27.4,22.4,14.0,−1.4 アルゴン雰囲気下、Ti（OPrj）４（0.65ml,2.18mmo
l）のCH2Cl2（15ml）溶液を−21℃に冷却後、Ｌ−
（＋）−酒石酸ジイソプロピル（0.55ml,2.61mmol）を
加えた。更に10分撹拌した後、化合物（11）（522mg,3.
3ml）のCH2Cl2溶液（4ml）を加えた。10分撹拌後、TBHP
（3.397M/CH2Cl2）を0.95ml（3.26mmol）を加え、−21
℃で3.5時間撹拌した。反応混合液にMe2S（0.5ml）を加
え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸を0.5ml加え
た反応液をセライト過して減圧下濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製
し、化合物（12）（230mg,44％）及び化合物（13）（24
3mg,44％）を得た。 〔化合物（12）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋7.59゜（C 1.37,CHCl3） 1H−NMR,IR,13C−NMRは化合物（11）と同じ。 〔化合物（13）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.05（S,9H）,0.90（t,J＝6H
z,3H）,1.1−1.7（m,6H）,1.87−2.18（m,2H）,2.15−
2.38（m,3H）,2.63（brs 1H）,2.73（t,J＝3Hz,1H）,2.
65（dt,J＝4Hz,6Hz,1H）,5.20−5.70（m,2H） IR（neat）:3420,1243,840cm-1 ▲〔α〕25 D▼：＋4.23゜（C 1.13,CHCl3） アルゴン雰囲気下、3Aモレキュラーシーブ（1g）、CH
2Cl2（15ml）、Ti（OPrj）４（1.4ml,4.7mmol）を−20
℃に冷却した。Ｄ（−）−酒石酸ジイソプロピル（1.2m
l、5.7mmol）を加え、10分間撹拌後、化合物（12）（3.
65g,15mmol）のCH2Cl2溶液（8ml）を加えた。混合液を
−40℃に冷却後、TBHP（4.09M/CH2Cl2）（7.5ml,30.6mm
ol）を滴下した。混合液を−21℃で４時間撹拌後、Me2S
（4ml）,10％酒石酸水溶液（4ml）を加え、セライト
過した。溶媒を減圧下留去し、粗精製物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン/Et2O＝10/1→3/1,0.5
％Et3N）により精製し、化合物（14）（3.3g,85％）を
得た。 〔化合物（14）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−4.25゜（C 1.15,CHCl3） 1H−NMR,IRは化合物（13）と同じ。 化合物（14）（2.78g,10.8mmol）、イミダゾール（1.
5g,22mmol）、DMF（20ml）を０℃に冷却し、ｔ−ブチル
ジメチルクロロシラン（2.5g,16.5ml）を加えた。混合
液を室温で３時間撹拌後、飽和NaHCO3水溶液（30ml）を
加えた。ｎ−ヘキサン（50ml×２）で抽出した後、生成
物をMgSO4上で乾燥した。濃縮後、得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン/E
t2O＝50/1→10/1,0.5％,Et3N）により精製し、化合物
（15）（4.04g,〜100％）を得た。 〔化合物（15）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−0.18゜（C 1.11,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.03（S,6H）,0.06（S,9H）,
0.88（m,12H）,1.1−1.7（m,6H）,1.90−2.16（m,2H）,
2.02（d,J＝3Hz,1H）,2.26（t,J＝5Hz,2H）,2.59（dd,J
＝4Hz,5Hz,1H）,3.46（q,J＝5Hz,1H）,5.18−5.70（m,2
H） IR（neat）:1250,1090,840cm-1 jPr2NH（4.2ml,30mmol）とnBuLi（11.0ml,20mmol）よ
り調製したリチウムジイソプロピルアミドのTHF（20m
l）溶液に０℃でBu2SnH（3.5ml,13.0mmol）を加え、30
分撹拌した。混合液に化合物（15）（4.04g,10.8mmol）
を加え、有機層をｎ−ヘキサン（40ml）で抽出した。溶
媒を減圧下留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製し、化合物（16）（5.68g,92
％）を得た。 〔化合物（16）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.07（S,9H）,0.92（m,24
H）,1.10−2.3（ｍ）,3.89−4.13（m,1H）,5.27−5.47
（m,2H）,5.95（m,2H） IR（neat）:1605,1070,840cm-1 参考例５ 化合物（16）（2.21g,3.88mmol）のEt2O（20ml）溶液
を０℃に冷却し、沃素（1.40g,4.09mmol）を加えて30分
撹拌した混合液に飽和Na2S2O3水溶液（20ml）を加え、
生成物をｎ−ヘキサン（30ml）で抽出し、3N−NaOH水溶
液（10ml）で洗浄し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を減圧
下留去し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィ
ー（ｎ−ヘキサン→ｎ−ヘキサン/Et2O＝10/1）により
精製し、化合物（17）（1.52g,96％）を得た。 〔化合物（17）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋7.15゜（C 2.06,CHCl3）1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.06（S,9H）,0.88（m,12
H）,1.10−1.7（m,6H）,1.88−2.12（m,2H）,2.22（t,J
＝6Hz,2H）,4.07（q,J＝6Hz,1H）,5.12−5.63（m,2H）,
6.16（d,J＝15Hz,1H）,6.47（dd,J＝6Hz,15Hz,1H） IR（neat）:1605,1250,1080cm-1 13C−NMR（CDCl3）δ:148.8,132.6,124,2,75.6,75.1,
35.8,31.6,29.3,27.5,25.8,22.6,18.2,14.0,−4.6,−4.
8 参考例６ ジエチルアゾジカルボン酸（0.20ml,1.27mmol）、 （0.22g,1.31mmol）、THF（3ml）を０℃に冷却後、Ph3P
（350mg、1.33mmol）、化合物（13）（230mg,0.90mmo
l）のTHF（2ml）溶液を加え、30分撹拌した。混合液に
飽和NaHCO3水溶液（5ml）を加え、生成物をｎ−ヘキサ
ン（10ml×２）で抽出し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を
減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より粗生成物を精製し、化合物（18）（340mg,93％）を
得た。 〔化合物（18）の特性値〕 1H−NMR（CDl4,PhH）δ:0.06（S,9H）,0.86（t,J＝5H
z,3H）,1.10−1.70（m,6H）,1.89−2.22（m,3H）,2.35
−2.67（m,2H）,2.97（dd,J＝3Hz,7Hz,1H）,4.78（q,J
＝7Hz,1H）,5.16−5.66（m,2H）,8.17（brs,4H） 化合物（18）（340mg,0.83mmol）、THF（2ml）、MeOH
（2ml）を０℃に冷却後、2N−NaOH（2ml）を加え、１時
間撹拌した。混合液にNH4Cl水溶液（5ml）を加え、ｎ−
ヘキサン（10ml×３）で生成物を抽出し、チオ硫酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、
化合物（19）（214mg,100％）を得た。 〔化合物（19）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−7.40゜（C 1.27,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.05（S,9H）,0.88（t,J＝6H
z,3H）,1.10−1.60（m,6H）,1.90−2.19（m,2H）,2.09
（d,J＝4Hz,1H）,2.18−2.42（m,2H）,2.75（t,J＝5Hz,
2H）,3.10−3.45（m,2H）,5.18−5.62（m,2H） IR（neat）:3420,1240,840cm-1 化合物（19）（214mg,0.83mmol）、DMF（2ml）、イミ
ダゾール（120mg,1.76mmol）を０℃に冷却し、TBSCl（1
90mg,1.26mmol）を加え、室温で３時間撹拌した。混合
液に飽和NaHCO3水溶液（5ml）を加え、ｎ−ヘキサン（2
0ml）で抽出し、MgSO4上で乾燥した。得られた粗生成物
をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物
（20）（285mg,92％）を得た。 〔化合物（20）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.06（S,15H）,0.91（m,12
H）,1.15−1.7（m,6H）,1.86−2.33（m,5H）,2.62（dd,
J＝3Hz,7Hz,1H）,3.14（q,J＝7Hz,1H）,5.13−5.58（m,
2H） IR（neat）:1250,1090,840cm-1 jPr2NH（1.75ml,12.5mmol）とnBuLi（5.3ml,8.2mmo
l）より調製したリチウムジイソプロピルアミドのTHF
（10ml）溶液に０℃でBu3SnH（1.3ml,4.83mmol）を加
え、１時間撹拌した。化合物（20）（1.54g,4.1mmol）
を加え、室温で２時間撹拌した。混合液に食塩水（10m
l）を加え、有機層をｎ−ヘキサンで抽出し、MgSO4上で
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗生成物をシ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（1
6）（2.22g,95％）を得た。 参考例７ BH3のTHF溶液（1M）並びに２−メチル−２−ブデンの
THF溶液（2M）より調製したジサイアミルボランのTHF溶
液（8.7ml,0.5M,4.38mmol）を０℃に冷却した化合物４
（863mg,2.92mmol）のTHF溶液（25ml）に滴下した。０
℃で１時間かきまぜ、薄層クロマトグラフィーで化合物
（９）が消失したことを確認した後、2N−NaOH水溶液
（8.75ml,17.5mmol）をゆっくり加えた。10分後、化合
物（17）（1.67g,4.09mmol）並びにPd（PPh3）４（168m
g,0.15mmol）を加えた。この混合物を約50℃に加熱しな
がら16時間激しくかきまぜた後、飽和NH4Cl水溶液に注
ぎ、生成物をエーテルで３回抽出した。エーテル層を集
め、MgSO4上で乾燥した。エーテルを留去し、残液を脱
酸素したシリカゲルカラムで精製すると、化合物（21）
が1.16g（収率70.4％）得られた。 〔化合物（21）の特性値〕 IR（neat）:3000,1706,1252,1080,836,774cm-1 1H−NMR（90MHz,CDCl3）δ:0.02（S,3H）,0.04（S,9
H）,0.85（S,12H）,0.88（S,9H）,1.1−2.5（m,16H）,
3.16（q,J＝6.5Hz,1H）,4.36−4.67（m,1H）,5.2−6.7
（m,8H）， 1H−NMR（500MHz,CDCl3）δ:0.02（S,3H）,0.05（S,6
H）,0.07（S,3H）,0.88（t,3H）,0.88（S,9H）,0.91
（S,9H）,1.23−1.78（m,10H）,2.01（q,J＝7Hz,2H）,
2.22−2.38（m,4H）,4.18（q,J＝7Hz,1H）,4.57（q,J＝
7Hz,1H）,5.38（m,2H）,5.44（dt,J＝12.7Hz,1H）,5.72
（dd,J＝7,14Hz,1H）,5.96（t,J＝12Hz,1H）,6.19（m,2
H）,6.36（dd,J＝12,14Hz,1H） 13C−NMR（22.5MHz,CDCl3）δ： 179.8,137.8,134.9,133.8,132.0,129.3,128.1,127.1,12
5.2,73.3,68.8,37.8,36.5,34.1,31.6,29.4,27.5,26.0,2
2.6,20.7,18.3,18.2,14.1,−4.1,−4.3,−4.7 ▲〔α〕25 D▼：＋4.33゜（C 0.60,CHCl3） 参考例８ アルゴン雰囲気下、化合物（21）（648mg,1.15mmol）
のTHF溶液（15ml）中に、ｎ−Bu4NF（11.5ml,11.5mmol,
THF中１モル）を加え、室温下で18時間かきまぜた。反
応溶液をMoIlvaineの緩衝液（pH〜４）中に注ぎ、エー
テルで抽出した。この有機層をもう一度緩衝液で洗い、
最後に飽和食塩水で洗った。新たにエーテルを用意し、
上で使用した緩衝液、飽和食塩水を逆抽出した。この操
作を３回行い、エーテル溶液を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製すると、ロイコトリ
エンB4が310mg得られた（80.2％）。 〔ロイコトリエンB4の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋13.1゜（C 0.26,CDCl3） lit▲〔α〕25 D▼＋12.6゜（C 0.46,CDCl3）:JOC,51,
1253（1986）
活性な新規アリルアルコール誘導体に関するものであ
る。 本発明の光学活性なアリルアルコール誘導体は強い生
理活性を有するロイコトリエンB4（LTB4），リポキシ
ン，ヒドロキシエイコサテトラエン（HETE）等の生理活
性化合物の合成中間体として有用である。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕 従来より、ロイコトリエンB4等の生理活性化合物が注
目されており、これら化合物を合成する方法も種々提案
されている。しかし、これらの合成法は問題が多い。例
えば、ロイコトリエンB4の合成法は各種知られている
が、大部分は糖由来の光学活性中間体を使用して煩雑な
工程を経由する合成方法である。これに対し、糖由来の
光学活性中間体を用いない方法としては次のものが知ら
れている。 （１）インオン誘導体を光学活性な水素化ホウ素試剤で
不斉水素還元して得られる光学活性なインオール誘導体
を出発原料とする方法（Nicolaou等,J.A.C.S.,106,3548
（1984））。 （２）酵素による不斉還元や不斉加水分解を利用して得
られる光学活性なα−オキシアルデヒドを出発原料とす
る方法（C.J.Sin等,J.O.C.,51,1253（1986））。 しかし、上述の（１），（２）の方法はいずれも高価
な不斉還元剤を必要としたり、不斉反応の収率及び選択
率が悪かったりして、高純度のロイコトリエンを大量に
製造する方法としては実用的でない。 本発明は上記従来技術の問題点を解決し、ロイコトリ
エン等の生理活性化合物を有利に合成できる新規中間体
として有用な光学活性アリルアルコール誘導体を提供す
ることを目的とする。 〔問題点を解決するための手段及び作用〕 本発明者は、種々の光学活性アリルアルコール誘導体
につき鋭意検討を行なった結果、後述する反応方法に従
うことにより、下記一般式〔Ｉ〕〜〔IV〕 （式中、Ａは−Ｃ≡Ｃ−SiR1R2R3を示し、R1、R2及びR3
は炭素数１〜５のアルキル基である。 ＹはＨ又はOZ′を示し、Ｚ及びＺ′はそれぞれＨ又は
水酸基の保護基である。Ｒはアルコキシカルボニル基置
換炭素数１〜10のアルキル基又はカルボキシル基置換炭
素数１〜10のアルキル基を示す。） で表わされる光学活性な新規アリルアルコール誘導体が
得られると共に、これらアリルアルコール誘導体がロイ
コトリエンB4などの生理活性化合物の合成中間体として
有用であり、これらアリルアルコール誘導体を経由する
ことにより、ロイコトリエンB4などの生理活性化合物を
高収率で合成し得ることを知見し、本発明を完成するに
至ったものである。 以下、本発明につき更に詳しく説明する。 本発明に係る新規アリルアルコール誘導体は、上記式
〔Ｉ〕〜〔IV〕で示されるものである。 ここで、これら式〔Ｉ〕〜〔IV〕において、Ｚ又は
Ｚ′で示した水酸基の保護基としては、トリアルキルシ
リル基（例えばトリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基）、アルコキシ
アルキル基（例えばメトキシメチル基、エトキシエチル
基、テトラヒドロピラニル基）、アラルキルオキシアル
キル基（例えばベンジルオキシメチル基）、トリチル
基、更にはアシル基（例えばアセチル基、ｐ−ニトロベ
ンゾイル基、2,4−ジニトロフェニルカルボニル基）等
が挙げられる。 なお、Ｒの具体例としては、 （式中R4は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を示し、
n1は１〜10の整数である。） 等が挙げられる。 上述したアリルアルコール誘導体において、Ａは−Ｃ
≡Ｃ−SiR1R2R3であるが、本発明のアリルアルコール誘
導体は、ＡがR1R2R3Sn、ハロゲン原子である化合物を経
て合成できる。この場合、置換基ＡがR1R2R3Snである化
合物は例えば下記反応式ａ〜ｄに従って合成できる。 （但し、R1,R2,R3はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基
を示す。） この反応式ａ〜ｄの合成法に従うと全てトランス型の
化合物が合成できる。この場合、これら合成法の条件と
しては、〔1a〕〜〔4a〕の化合物とR1R2R3SnLiとを反応
させるに当り、R1R2R3SnLiが〔1a〕〜〔4a〕の化合物に
対し小過剰モルになるように用いることが好ましい。反
応温度は特に制限されないが、−40℃〜80℃で反応させ
ることが好適であり、通常室温で１〜５時間で反応は完
了する。反応溶媒は反応に直接関与しない溶媒、例えば
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン等のエーテル系溶媒に、必要に応じヘキサンやヘキ
サメチルホスホトリアミドやジメチルスルホキシドを添
加した溶媒を用いることができる。 なお、得られた化合物が水酸基の保護基やカルボキシ
ル基の保護基（上述したZ,Z′,R4,R5で示した基）を有
する場合、これら保護基を上記の反応の後、常法に従
い、脱保護或いは加水分解処理によって水素原子に変換
することもできる。また逆に、水酸基やカルボキシル基
を保護或いはエステル化することもできる。 次に、置換基Ａがハロゲンである化合物は、例えば上
述した置換基ＡがR1R2R3Snである化合物〔I a〕〜〔IV
a〕から下記反応式ｅ〜ｈに従って合成することができ
る。 この反応式ｅ〜ｈの合成法に従うとトランス体の化合
物からはトランス体、シス体の化合物からはシス体を合
成することができる。 これらの合成法において、反応条件としては〔I a〕
〜〔IV a〕の化合物とハロゲン分子（X2）とを反応させ
るにあたり、ハロゲン分子が小過剰モルになるように用
いることが好ましく、反応温度は−80℃〜40℃として反
応させることが好適であり、通常−20℃〜20℃において
0.1〜２時間で反応は完了する。反応溶媒は、反応に直
接関与しない溶媒で、後処理の容易さなどからなるべく
低沸点の溶媒が好ましく用いられ、例えばジエチルエー
テル、ジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒、塩化メ
チレン、ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ベンゼ
ン等の芳香族溶媒などが挙げられる。 なお、水酸基の保護基やカルボキシル基の保護基を有
する化合物の場合、上記反応の後、上述したように脱保
護或いは加水分解処理によってＨに変換することもでき
る。また逆に水酸基やカルボキシル基を保護或いはエス
テル化することもできる。 更に、置換基Ａがハロゲンである化合物は、下記式の
如く合成することもできる。 本合成法に従うと、トランス体の化合物からはシス
体、シス体の化合物からはトランス体を合成することが
できる。 これらの合成法において、反応条件としては、〔1b〕
〜〔4b〕の化合物とハロゲン分子（X2）とを反応させる
に当り、ハロゲン分子が小過剰モルになるように用いる
ことが好ましい。反応温度は−80℃〜40℃が好適で、通
常−20℃〜20℃において0.1〜２時間で反応は完了す
る。反応溶媒は、反応に直接関与しない溶媒で、後処理
の容易さなどからなるべく低沸点の溶媒が用いられ、例
えばジエチルエーテル、ジメチルエーテルなどのエーテ
ル系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタンなどのハロゲ
ン系溶媒、ベンゼン等の芳香族溶媒などが挙げられる。 また、置換基がR1R2R3Si−Ｃ≡Ｃ−である化合物は、
例えば置換基ＡがＸである化合物からトリアルキルシリ
ルアセチレン（R1R2R3SiC≡CH）を用いて下記反応式ｍ
〜ｐに従って合成することができる。 本合成法に従うとトランス体の化合物からはトランス
体、シス体の化合物からはシス体を合成することができ
る。 この場合、これら合成法において、〔I c〕〜〔IV
c〕の化合物とトリアルキルシリルアセチレン（R1R2R3S
iC≡CH）とを反応させるにあたり、トリアルキルシリル
アセチレンが小過剰になるように用いることが好まし
く、反応温度は−80℃〜40℃とすることが好適で、通常
−20℃〜20℃において0.1〜100時間で反応は完了する。
反応溶媒はベンゼン等の芳香族溶媒を使用することがで
きる。 なお、水酸基の保護基やカルボキシル基の保護基或い
は水酸基やカルボキシル基の処理は上記と同様である。 更に、上記置換基ＡがR1R2R3Si−Ｃ≡Ｃ−の化合物
は、Ａが−Ｃ≡CHである化合物を得ることができる。即
ち、置換基が−Ｃ≡CHである化合物は、置換基ＡがR1R2
R3Si−Ｃ≡Ｃ−である上記〔I c〕〜〔IV c〕の化合物
から下記式の如く製造することができる。 本合成法に従うとトランス体の化合物からはトランス
体、シス体の化合物からはシス体を合成することができ
る。 これらの合成法において、反応条件としては〔I c〕
〜〔IV c〕の化合物の−Ｃ−SiR1R2R3基の脱シリル化の
条件が一般的に用いられるが、ＺやＺ′の保護基の種類
によっては、それらに影響を与えない方法や逆に場合に
よってはそれらを同時に脱保護させる方法が選ばれる。
一例としては、〔I c〕〜〔IV c〕の化合物のテトラヒ
ドロフラン：エタノール：水＝1:1:1溶液を調製し、０
℃で硝酸銀、次いでシアン化カリを加え、撹拌する方法
により、ＺやＺ′に影響を与えないで化合物〔I d〕〜
〔IV d〕を得ることができる。 本発明の光学活性なアリルアルコール誘導体は、ロイ
コトリエンB4、リポキシン、HETE等の生理活性物質の合
成中間体として有用で、これらアリルアルコール誘導体
を経由することにより、これらの生理活性物質を高収率
で合成することができる。 例えば、ロイコトリエンB4は次の如く合成することが
できる。 〔発明の効果〕 本発明に係る新規化合物は、ロイコトリエンB4,リポ
キシン,HETE等の生理活性物質の合成中間体として有用
である。 以下、実施例と参考例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではな
い。 なお、下記の例において、Meはメチル基、Etはエチル
基、Prはプロピル基、Buはブチル基、Amはアミル基、Ph
はフェニル基を示す。 参考例１ 化合物（１）（7.0g,54mmol）のTHF溶液（30ml）を−
78℃に冷却した。この溶液に化合物（２）のTHF−ｎ−
ヘキサン溶液を滴下した。−78℃で30分間かきまぜた
後、水層をベンゼンで抽出した。集めたベンゼン溶液を
MgSO4上で乾燥し、減圧下濃縮した。粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン:Et2O＝3
0:1→3:1）で精製すると化合物（３）が6.92g（収率55.
9％）得られた。 〔化合物（３）の特性値〕 IR（neat）:3400,1727,842cm-1 'H−NMR（CCl4）δ:5.97（dd,J＝18.3,3.6Hz,1H）,5.
77（d,J＝18.3Hz,1H）,4.08−3.86（m,1H）,3.58（S,3
H）,3.02（brs,1H）,2.26（t,J＝7Hz,2H）2.05−1.25
（m,4H）,0.07（S,9H）13C−NMR（CDCl3）δ:174.0,148.3,129.4,74.0,51.4,
36.2,33.8,20.8,−1.4 化合物（３）（4.0g,17.4mmol）,Ti（Ｏ−jPr）
４（5.18ml,17.4mmol）,D（−）酒石酸ジイソプロピル
（4.43ml,20.9mmol）,t−ブチルハイドロパーオキサイ
ド（6.9ml,CH2Cl2中3.78モル,26.1mmol）,CH2Cl2（120m
l）を用い、不斉エポキシ化反応と同じ操作を行い（−2
1℃,20h;ワークアップ:Me2S（2.6ml,34.8mmol）,10％酒
石酸（〜8ml）,Et2O（120ml）,NaF（30g））、化合物
（４）を1.71g（42.8％）並びにエポキシド（５）を1.9
3g（45.1％）を得た。 〔化合物（４）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋6.78゜（C 1.15,CHCl3）1H−NMR,IRは化合物（３）と同じ。 〔化合物（５）の特性値〕 IR（neat）:3410,1726,1248,843cm-1 1H−NMR（CDCl3）δ：−0.08（S,9H）,1.2−1.8（m,4
H）,2.08−2.28（m,3H）,2.62（t,J＝5.1Hz,1H）,2.82
（br d,J＝2.4Hz,1H）,3.46（S,3H）,3.40−3.62（m,1
H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.4,69.5,58.1,50.9,47.5,3
3.6,33.0,20.5,−4.1 ▲〔α〕25 D▼：＋6.74゜（C 1.75,CHCl3） ０℃に冷却した化合物（４）（1.71g,7.43mmol）のCH
2Cl2溶液（30ml）に臭素（0.39ml,7.5mmol）を滴下し
た。10分後TLCで化合物（４）が消失したことを確認し
た。この溶液をNa2S2O3水溶液及び飽和NaHCO3水溶液の
混合水溶液に注いだ。生成物をｎ−ヘキサンで２回抽出
した。ヘキサン層をMgSO4上で乾燥し、濃縮すると臭素
の付加物が得られた。 上で得た粗生成物をTHF（15ml）に溶かし、０℃に冷
却した。この溶液にｎ−Bu4NF（14ml,8.8mmol,THF中0.6
3mol）を滴下し、10分間かきまぜた。原料の消失を確認
した後、飽和NaCl水溶液に注いだ。生成物はエーテルで
３回抽出した。集めた有機層をMgSO4上で乾燥し、濃縮
すると化合物（６）が1.7g得られた（収率100％）。こ
のものは精製することなしに次の反応に供した。なお、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する
と、次のようなデーターを得られた。 〔化合物（６）の特性値〕 1H−NMR（CCl4）δ:1.23−1.88（m,7H）,2.17−2.38
（m,2H）,3.56（S,3H）,4.37−4.61（m,1H）,5.82−6.3
8（m,2H） 参考例２ 化合物（６）（1.7g）をDMF（20ml）に溶かし、０℃
に冷却した。この溶液にイミダゾール（1.52g,22.3mmo
l）並びにｔ−ブチルジメチルクロルシラン（以下、TBS
Clと記す）（1.68g,11.1mmol）を加え、室温で一夜かき
まぜた。DMF溶液を飽和NaHCO3水溶液に注ぎ、生成物を
ｎ−ヘキサンで３回抽出した。ヘキサン層をMgSO4上で
乾燥し、濃縮すると化合物（７）の粗生成物が得られ
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製す
ると化合物（７）が1.92g（化合物（４）からの収率73.
6％）得られた。 〔化合物（７）の特性値〕 IR（neat）:1737,1249,1088,836,779cm-1 1H−NMR（CCl4）δ:0.02（S,3H）,0.07（S,3H）,0.88
（S,9H）,1.18−1.84（m,4H）,2.11−2.38（m,2H）,3.5
8（S,3H）,4.36−4.69（m,1H）,5.93−6.18（m,2H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.4,138.5,106.1,70.6,51.1,
36.4,33.9,25.8,20.5,18.0,−4.5,−4.9 実施例１ アルゴン雰囲気下、化合物（７）（1.54g,4.39mmo
l）、Me3SiC≡CH（1.25ml,8.78mmol）、ｎ−PrNH2（1.0
8ml,13.2mmol）のベンゼン溶液（20ml）にCuI（58mg,0.
31mmol）、Pd（PPh3）４（152mg,0.13mmol）を加えた。
室温下、暗所で20時間かきまぜた後、飽和NH4Cl水溶液
中に注いだ。ヘキサンで３回抽出し、MgSO4上で乾燥し
た後、濃縮すると化合物（８）が得られた。このものは
精製することなしに次の反応に供した。なお、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製すると次のようなデ
ータが得られた。 〔化合物（８）の特性値〕 1H−NMR（CCl4）δ:0.01（S,3H）,0.06（S,3H）,0.18
（S,9H）,0.88（S,3H）,1.30−1.82（m,4H）,2.11−2.3
8（m,2H）,3.58（S,3H）,4.48−4.76（m,1H）,5.39（d,
J＝11.1Hz,1H）,5.80（dd,J＝8.4,11.1Hz,1H） 参考例３ 化合物（８）をTHF（15ml）、EtOH（15ml）、H2O（15
ml）に溶かし、０℃に冷却した。この中にAgNO3（2.98
g,17.6mmol）を加えた。約15分後、KCN（2.0g,30.7mmo
l）を少しづつ加えていった。０℃で約３時間かきまぜ
た後、飽和NaCl水溶液に注いだ。生成物はヘキサンで３
回抽出した。ヘキサン層を１つに集め、MgSO4上で乾燥
した。溶媒を留去し、得られた残液をシリカゲルカラム
グロマトグラフィーで生成すると化合物（９）が1.24g
（化合物（７）からの収率95.4％）得られた。 〔化合物（９）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋49.6゜（C 1.15,CHCl3） IR（neat）:3290,1737,1249,1083,838,774cm-1 1H−NMR（CCl4）δ:0.01（S,3H）,0.04（S,3H）,0.88
（S,9H）,1.37−1.83（m,4H）,2.08−2.34（m,2H）,2.9
9（d,J＝3.0Hz,1H）,3.57（S,3H）,4.47−4.73（m,1
H）,5.38（dd,J＝3.0,11.1Hz,1H）,5.87（dd,J＝8.4,1
1.1Hz,1H） 13C−NMR（CDCl3）δ:173.0,148.0,107.4,82.5,79.5,
70.2,50.8,36.8,33.6,25.7,20.4,17.9,−4.6,−5.1 参考例４ アルゴン雰囲気下、（Ｅ）−１−トリ−ｎ−ブチル錫
−２−トリメチルシリルエテン6.2g（16mmol）のTHF溶
液（25ml）を−78℃に冷却後、ｎ−BuLi（10ml,15.3mmo
l）を滴下し、１時間撹拌した。この溶液に化合物（1
0）（1.2g,8.2mmol）を加え、１時間撹拌後、飽和NH4Cl
水溶液（10ml）を加えた有機層をｎ−ヘキサン（50ml×
２）で抽出した。集めた混合溶液をMgSO4上で乾燥し、
減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン/Et2O＝20/1→3/1）で精製すると
化合物（11）が1.69g（7.0mmol,86％）得られた。 〔化合物（11）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.10（S,9H）,0.90（t,J＝6.
6Hz,3H）,1.1−1.6（m,6H）,1.86−2.14（m,2H）,2.22
（t,2H,J＝6Hz）,3.98（dt,J＝4Hz,6Hz,1H）,5.14−5.6
0（m,2H）,5.75（d,J＝18.6Hz,1H）,6.02（dd,J＝18.6H
z,3.8Hz,1H） IR（neat）:3340,1610,1240,830cm-1 13C−NMR（CDCl3）δ:148.0,133.3,129.2,124.5,73.
8,35.1,31.5,29.3,27.4,22.4,14.0,−1.4 アルゴン雰囲気下、Ti（OPrj）４（0.65ml,2.18mmo
l）のCH2Cl2（15ml）溶液を−21℃に冷却後、Ｌ−
（＋）−酒石酸ジイソプロピル（0.55ml,2.61mmol）を
加えた。更に10分撹拌した後、化合物（11）（522mg,3.
3ml）のCH2Cl2溶液（4ml）を加えた。10分撹拌後、TBHP
（3.397M/CH2Cl2）を0.95ml（3.26mmol）を加え、−21
℃で3.5時間撹拌した。反応混合液にMe2S（0.5ml）を加
え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸を0.5ml加え
た反応液をセライト過して減圧下濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製
し、化合物（12）（230mg,44％）及び化合物（13）（24
3mg,44％）を得た。 〔化合物（12）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋7.59゜（C 1.37,CHCl3） 1H−NMR,IR,13C−NMRは化合物（11）と同じ。 〔化合物（13）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.05（S,9H）,0.90（t,J＝6H
z,3H）,1.1−1.7（m,6H）,1.87−2.18（m,2H）,2.15−
2.38（m,3H）,2.63（brs 1H）,2.73（t,J＝3Hz,1H）,2.
65（dt,J＝4Hz,6Hz,1H）,5.20−5.70（m,2H） IR（neat）:3420,1243,840cm-1 ▲〔α〕25 D▼：＋4.23゜（C 1.13,CHCl3） アルゴン雰囲気下、3Aモレキュラーシーブ（1g）、CH
2Cl2（15ml）、Ti（OPrj）４（1.4ml,4.7mmol）を−20
℃に冷却した。Ｄ（−）−酒石酸ジイソプロピル（1.2m
l、5.7mmol）を加え、10分間撹拌後、化合物（12）（3.
65g,15mmol）のCH2Cl2溶液（8ml）を加えた。混合液を
−40℃に冷却後、TBHP（4.09M/CH2Cl2）（7.5ml,30.6mm
ol）を滴下した。混合液を−21℃で４時間撹拌後、Me2S
（4ml）,10％酒石酸水溶液（4ml）を加え、セライト
過した。溶媒を減圧下留去し、粗精製物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン/Et2O＝10/1→3/1,0.5
％Et3N）により精製し、化合物（14）（3.3g,85％）を
得た。 〔化合物（14）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−4.25゜（C 1.15,CHCl3） 1H−NMR,IRは化合物（13）と同じ。 化合物（14）（2.78g,10.8mmol）、イミダゾール（1.
5g,22mmol）、DMF（20ml）を０℃に冷却し、ｔ−ブチル
ジメチルクロロシラン（2.5g,16.5ml）を加えた。混合
液を室温で３時間撹拌後、飽和NaHCO3水溶液（30ml）を
加えた。ｎ−ヘキサン（50ml×２）で抽出した後、生成
物をMgSO4上で乾燥した。濃縮後、得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン/E
t2O＝50/1→10/1,0.5％,Et3N）により精製し、化合物
（15）（4.04g,〜100％）を得た。 〔化合物（15）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−0.18゜（C 1.11,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.03（S,6H）,0.06（S,9H）,
0.88（m,12H）,1.1−1.7（m,6H）,1.90−2.16（m,2H）,
2.02（d,J＝3Hz,1H）,2.26（t,J＝5Hz,2H）,2.59（dd,J
＝4Hz,5Hz,1H）,3.46（q,J＝5Hz,1H）,5.18−5.70（m,2
H） IR（neat）:1250,1090,840cm-1 jPr2NH（4.2ml,30mmol）とnBuLi（11.0ml,20mmol）よ
り調製したリチウムジイソプロピルアミドのTHF（20m
l）溶液に０℃でBu2SnH（3.5ml,13.0mmol）を加え、30
分撹拌した。混合液に化合物（15）（4.04g,10.8mmol）
を加え、有機層をｎ−ヘキサン（40ml）で抽出した。溶
媒を減圧下留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製し、化合物（16）（5.68g,92
％）を得た。 〔化合物（16）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.07（S,9H）,0.92（m,24
H）,1.10−2.3（ｍ）,3.89−4.13（m,1H）,5.27−5.47
（m,2H）,5.95（m,2H） IR（neat）:1605,1070,840cm-1 参考例５ 化合物（16）（2.21g,3.88mmol）のEt2O（20ml）溶液
を０℃に冷却し、沃素（1.40g,4.09mmol）を加えて30分
撹拌した混合液に飽和Na2S2O3水溶液（20ml）を加え、
生成物をｎ−ヘキサン（30ml）で抽出し、3N−NaOH水溶
液（10ml）で洗浄し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を減圧
下留去し、得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィ
ー（ｎ−ヘキサン→ｎ−ヘキサン/Et2O＝10/1）により
精製し、化合物（17）（1.52g,96％）を得た。 〔化合物（17）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋7.15゜（C 2.06,CHCl3）1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.06（S,9H）,0.88（m,12
H）,1.10−1.7（m,6H）,1.88−2.12（m,2H）,2.22（t,J
＝6Hz,2H）,4.07（q,J＝6Hz,1H）,5.12−5.63（m,2H）,
6.16（d,J＝15Hz,1H）,6.47（dd,J＝6Hz,15Hz,1H） IR（neat）:1605,1250,1080cm-1 13C−NMR（CDCl3）δ:148.8,132.6,124,2,75.6,75.1,
35.8,31.6,29.3,27.5,25.8,22.6,18.2,14.0,−4.6,−4.
8 参考例６ ジエチルアゾジカルボン酸（0.20ml,1.27mmol）、 （0.22g,1.31mmol）、THF（3ml）を０℃に冷却後、Ph3P
（350mg、1.33mmol）、化合物（13）（230mg,0.90mmo
l）のTHF（2ml）溶液を加え、30分撹拌した。混合液に
飽和NaHCO3水溶液（5ml）を加え、生成物をｎ−ヘキサ
ン（10ml×２）で抽出し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を
減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より粗生成物を精製し、化合物（18）（340mg,93％）を
得た。 〔化合物（18）の特性値〕 1H−NMR（CDl4,PhH）δ:0.06（S,9H）,0.86（t,J＝5H
z,3H）,1.10−1.70（m,6H）,1.89−2.22（m,3H）,2.35
−2.67（m,2H）,2.97（dd,J＝3Hz,7Hz,1H）,4.78（q,J
＝7Hz,1H）,5.16−5.66（m,2H）,8.17（brs,4H） 化合物（18）（340mg,0.83mmol）、THF（2ml）、MeOH
（2ml）を０℃に冷却後、2N−NaOH（2ml）を加え、１時
間撹拌した。混合液にNH4Cl水溶液（5ml）を加え、ｎ−
ヘキサン（10ml×３）で生成物を抽出し、チオ硫酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、
化合物（19）（214mg,100％）を得た。 〔化合物（19）の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：−7.40゜（C 1.27,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.05（S,9H）,0.88（t,J＝6H
z,3H）,1.10−1.60（m,6H）,1.90−2.19（m,2H）,2.09
（d,J＝4Hz,1H）,2.18−2.42（m,2H）,2.75（t,J＝5Hz,
2H）,3.10−3.45（m,2H）,5.18−5.62（m,2H） IR（neat）:3420,1240,840cm-1 化合物（19）（214mg,0.83mmol）、DMF（2ml）、イミ
ダゾール（120mg,1.76mmol）を０℃に冷却し、TBSCl（1
90mg,1.26mmol）を加え、室温で３時間撹拌した。混合
液に飽和NaHCO3水溶液（5ml）を加え、ｎ−ヘキサン（2
0ml）で抽出し、MgSO4上で乾燥した。得られた粗生成物
をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物
（20）（285mg,92％）を得た。 〔化合物（20）の特性値〕 1H−NMR（CCl4,PhH）δ:0.06（S,15H）,0.91（m,12
H）,1.15−1.7（m,6H）,1.86−2.33（m,5H）,2.62（dd,
J＝3Hz,7Hz,1H）,3.14（q,J＝7Hz,1H）,5.13−5.58（m,
2H） IR（neat）:1250,1090,840cm-1 jPr2NH（1.75ml,12.5mmol）とnBuLi（5.3ml,8.2mmo
l）より調製したリチウムジイソプロピルアミドのTHF
（10ml）溶液に０℃でBu3SnH（1.3ml,4.83mmol）を加
え、１時間撹拌した。化合物（20）（1.54g,4.1mmol）
を加え、室温で２時間撹拌した。混合液に食塩水（10m
l）を加え、有機層をｎ−ヘキサンで抽出し、MgSO4上で
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗生成物をシ
リカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（1
6）（2.22g,95％）を得た。 参考例７ BH3のTHF溶液（1M）並びに２−メチル−２−ブデンの
THF溶液（2M）より調製したジサイアミルボランのTHF溶
液（8.7ml,0.5M,4.38mmol）を０℃に冷却した化合物４
（863mg,2.92mmol）のTHF溶液（25ml）に滴下した。０
℃で１時間かきまぜ、薄層クロマトグラフィーで化合物
（９）が消失したことを確認した後、2N−NaOH水溶液
（8.75ml,17.5mmol）をゆっくり加えた。10分後、化合
物（17）（1.67g,4.09mmol）並びにPd（PPh3）４（168m
g,0.15mmol）を加えた。この混合物を約50℃に加熱しな
がら16時間激しくかきまぜた後、飽和NH4Cl水溶液に注
ぎ、生成物をエーテルで３回抽出した。エーテル層を集
め、MgSO4上で乾燥した。エーテルを留去し、残液を脱
酸素したシリカゲルカラムで精製すると、化合物（21）
が1.16g（収率70.4％）得られた。 〔化合物（21）の特性値〕 IR（neat）:3000,1706,1252,1080,836,774cm-1 1H−NMR（90MHz,CDCl3）δ:0.02（S,3H）,0.04（S,9
H）,0.85（S,12H）,0.88（S,9H）,1.1−2.5（m,16H）,
3.16（q,J＝6.5Hz,1H）,4.36−4.67（m,1H）,5.2−6.7
（m,8H）， 1H−NMR（500MHz,CDCl3）δ:0.02（S,3H）,0.05（S,6
H）,0.07（S,3H）,0.88（t,3H）,0.88（S,9H）,0.91
（S,9H）,1.23−1.78（m,10H）,2.01（q,J＝7Hz,2H）,
2.22−2.38（m,4H）,4.18（q,J＝7Hz,1H）,4.57（q,J＝
7Hz,1H）,5.38（m,2H）,5.44（dt,J＝12.7Hz,1H）,5.72
（dd,J＝7,14Hz,1H）,5.96（t,J＝12Hz,1H）,6.19（m,2
H）,6.36（dd,J＝12,14Hz,1H） 13C−NMR（22.5MHz,CDCl3）δ： 179.8,137.8,134.9,133.8,132.0,129.3,128.1,127.1,12
5.2,73.3,68.8,37.8,36.5,34.1,31.6,29.4,27.5,26.0,2
2.6,20.7,18.3,18.2,14.1,−4.1,−4.3,−4.7 ▲〔α〕25 D▼：＋4.33゜（C 0.60,CHCl3） 参考例８ アルゴン雰囲気下、化合物（21）（648mg,1.15mmol）
のTHF溶液（15ml）中に、ｎ−Bu4NF（11.5ml,11.5mmol,
THF中１モル）を加え、室温下で18時間かきまぜた。反
応溶液をMoIlvaineの緩衝液（pH〜４）中に注ぎ、エー
テルで抽出した。この有機層をもう一度緩衝液で洗い、
最後に飽和食塩水で洗った。新たにエーテルを用意し、
上で使用した緩衝液、飽和食塩水を逆抽出した。この操
作を３回行い、エーテル溶液を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製すると、ロイコトリ
エンB4が310mg得られた（80.2％）。 〔ロイコトリエンB4の特性値〕 ▲〔α〕25 D▼：＋13.1゜（C 0.26,CDCl3） lit▲〔α〕25 D▼＋12.6゜（C 0.46,CDCl3）:JOC,51,
1253（1986）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ.
（1984），Ｖｏｌ．106，Ｐ．5736−
5738
Ｐｈｙｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
（1976），Ｖｏｌ．15，Ｎｏ．11，Ｐ.
1673−1679
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ （1986），Ｎ
ｏ．６，Ｐ．453−461
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ （1986），Ｎ
ｏ．４，Ｐ．344−347
Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．（1970），Ｖｏ
ｌ．103，Ｎｏ．11，Ｐ．3419−3426
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏ
ｐ．，（1984），Ｎｏ．４，Ｐ．103
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ，（1986），Ｖｏｌ．27，Ｎｏ.
48，Ｐ．5853−5856
(58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名)
C07C 33/00
C07C 59/00
C07C 69/732
C07F 7/08
C07F 7/18
C07F 7/22
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．下記一般式［Ｉ］、［II］、［III］及び［IV］ （式中、Ａは−Ｃ≡Ｃ−SiR1R2R3を示し、R1、R2及びR3
は炭素数１〜５のアルキル基である。 ＹはＨ又はOZ′を示し、Ｚ及びＺ′はそれぞれＨ又は水
酸基の保護基である。Ｒはアルコキシカルボニル基置換
炭素数１〜10のアルキル基又はカルボキシル基置換炭素
数１〜10のアルキル基を示す。） で表わされる光学活性なアリルアルコール誘導体。
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| JP62170299A JP2773118B2 (ja) | 1987-07-08 | 1987-07-08 | 光学活性なアリルアルコール誘導体 |
| CA000571379A CA1329809C (en) | 1987-07-08 | 1988-07-07 | Optically active allyl alcohol and process for producing leucotriene b_ using thereof |
| EP88306244A EP0298756B1 (en) | 1987-07-08 | 1988-07-08 | Optically active allyl alcohol and process for producing leucotriene B4 using thereof |
| DE3856074T DE3856074T2 (de) | 1987-07-08 | 1988-07-08 | Optisch aktive Allylalkohol und Verfahren zur Herstellung von Leucotrien-B4, das sie verwendet |
| US07/216,336 US5049681A (en) | 1987-07-08 | 1988-07-08 | Optically active allyl alcohol and process for producing leucotriene B.sub.4 |
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|---|---|
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-
1987
- 1987-07-08 JP JP62170299A patent/JP2773118B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (7)
| Title |
|---|
| Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．（１９７０），Ｖｏｌ．１０３，Ｎｏ．１１，Ｐ．３４１９−３４２６ |
| Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９８４），Ｖｏｌ．１０６，Ｐ．５７３６−５７３８ |
| Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．，（１９８４），Ｎｏ．４，Ｐ．１０３ |
| Ｐｈｙｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ （１９７６），Ｖｏｌ．１５，Ｎｏ．１１，Ｐ．１６７３−１６７９ |
| Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ （１９８６），Ｎｏ．４，Ｐ．３４４−３４７ |
| Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ （１９８６），Ｎｏ．６，Ｐ．４５３−４６１ |
| Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，（１９８６），Ｖｏｌ．２７，Ｎｏ．４８，Ｐ．５８５３−５８５６ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01279852A (ja) | 1989-11-10 |
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