JPH04264082A - 新規なオキセタノシルマレイミド誘導体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は例えば抗ウイルス剤、制
癌剤等の医薬として期待される新規オキセタノシルマレ
イミド誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】制癌作用、抗ウイルス作用を示すＣ−ヌ
クレオシドとしてはオキザジノマイシン、ショウドマイ
シン、フォルマイシン等が知られており、又オキセタノ
シルＮ−ヌクレオシドとしては抗ウイルス作用を示すオ
キセタノシン類が知られているがオキセタノシルＣ−ヌ
クレオシドは全く知られていない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の抗ウイルス剤は
ウイルスに対する適応範囲が狭く、また溶解度、経口吸
収性、代謝等の要因により投与法が限られるなどの難点
を有している。さらに骨髄毒性等の副作用により投与量
、投与期間等に制限が生じてしまうものもある。一方予
後の極めて不良な後天性免疫不全症（ＡＩＤＳ）、ヒト
成人Ｔ細胞白血病（ＡＴＬ）や伝染性の高い風邪症候群
など有効な医薬、ワクチンのないウイルス性疾患は数多
くある。よって今後新たな抗ウイルス剤の開発が強く望
まれている。また制癌剤についてもその効果、副作用等
の面で必ずしも十分でなく、新たに制癌剤の開発が望ま
れている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１）

【化５】 〔式中Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ独立に水素原子又は
水酸基の保護基を示す〕で表される新規オキセタノシル
マレイミド誘導体に関する。水酸基の保護基としては一
般に保護基として使用されるものならば特に制限はなく
、エステル型保護基、例えばアセチル基、ベンゾイル基
等のアシル基、又はエーテル型保護基、例えばメトキシ
メチル基等の（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アル
キル基、テトラヒドロピラニル基等の環状アセタール基
、又はベンジル基、４−メトキシベンジル基、トリチル
基等の置換又は無置換フェニル基で一つ以上置換された
メチル基が挙げられる。

【０００５】本発明の一般式（１）で表される化合物は
、例えば一般式（２）

【化６】 〔式中Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ独立に水素原子又は
水酸基の保護基を、Ｒ３　はＣ１−Ｃ４の低級アルキル
基を示す〕で表される新規オキセタン化合物より反応式
１に示すごとくシヨウドマイシンの合成法〔例えばＧ．
Ｔｒｕｍｍｌｉｔｚ　ａｎｄ　Ｊ．　Ｇ．　Ｍｏｆｆａ
ｔｔ，　　ジャ−ナルオブ・オーガニック・ケミストリ
−（Ｊ．　Ｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．）３８，　１８４１−
１８４５，　１９７５，　及びＧ．　Ｊｕｓｔ　ｅｔ　
ａｌ，　　カナディアン・ジャーナル・オブ・ケミスト
リー（Ｃａｎ．　Ｊ．　Ｃｈｅｍ．）５８，２０２４　
−２０３３，　１９８０〕に従い製造することが出来る
。Ｃ１−Ｃ４の低級アルキル基としてはメチル、エチル
、プロピル基があげられる。例えば化合物（２）にＰｈ
３Ｐ＝ＣＨＣＯＮＨ２　のＷｉｔｔｉｎｇ　試薬の１−
５０当量、好ましくは１−２５当量をクロロホルム、ジ
クロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中−７８か
ら５０℃で３０分から３日間、好ましくは室温にて２時
間処理することにより行なわれる。

【０００６】反応式１

【化７】

【０００７】又、反応式１の製造原料となる一般式（２
）で表される化合物は、例えば以下の反応式２のように
製造することが出来る。反応式２において、一般式（３
）で表される化合物〔式中Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立
に水素原子又は水酸基の保護基を示す〕は公知化合物で
あり（特開平１−２４９７９２）、例えば既知の製造法
〔光学活性体の製造法としては、Ｍ．Ｎａｇａｉ　ｅｔ
　ａｌ，　　テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
）　４６，　７７０３，　１９９０．〕にて製造するこ
とが出来る。次に一般式（４）で表される化合物は、一
般式（３）で表される化合物に有機金属化合物、具体的
にビニルマグネシュウムプロミドをジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒中
反応させることにより製造できる。次に、得られた化合
物の水酸基に保護基をかけることにより一般式（５）で
表される化合物〔式中Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ４　はそれぞ
れ独立に水酸基の保護基を示す〕を得る。Ｒ４　の保護
基としては以下の反応に影響を受けず、しかも除去に際
して他の部位に影響を与えない保護基であれば全て使用
できる。例えばＲ１　、Ｒ２　が水素接触還元等により
除去される保護基の場合はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リル基等の保護基が最適である。次に、一般式（５）の
オレフィン部分を酸化することにより製造される一般式
（９）で表される化合物は一般式（６）、一般式（７）
、更に一般式（８）で表される中間体を経由して得るこ
とが出来る。酸化剤としては化合物（５）の他の部分に
影響を与えずに、オレフィンをアルデヒド基へ更にはカ
ルボキシル基へと酸化解裂させることが出来る酸化剤で
あれば全て使用できる。

【０００８】反応式２

【化８】

【０００９】

【化９】

【００１０】

【化１０】

【００１１】例えば、化合物（５）を四酸化オスミウム
で酸化して一般式（６）で表されるジオール体とし、次
いでこのものを過ヨーソ酸ナトリウムで酸化して、一般
式（７　）で表されるアルデヒド体とし、更に過マンガ
ン酸カリウムで酸化して一般式（８）で表されるカルボ
キシル体に導くことが出来る。あるいは、化合物（５）
を四酸化オスミウム共存下過マンガン酸カリウムで処理
すると一工程でカルボキシル体（８）に変換することも
出来る。次いで、化合物（８）のカルボキシル基をメチ
ル、エチル、プロピル等の低級アルキルエステルに導き
一般式（９）で表される化合物とする。次いで、化合物
（９）の保護基Ｒ４を除去して、一般式（１０）で表さ
れる化合物への変換は、例えばＲ４がシリル基の場合、
テトラブチルアンモニウムフルオリド等のフッ素化合物
、鉱酸、有機酸等を用いて行なうことが出来る。次いで
、化合物（１０）の水酸基を酸化して、一般式（２）で
表される化合物への変換は、酸化剤としては化合物（１
０）の他の部分に影響を与えずに水酸基をカルボニル基
に変換できる酸化剤であれば全て使用でき、例えばＭｏ
ｆｆａｔｔ　酸化、Ｓｗｅｒｎ　酸化等が適している。

【００１２】

【発明の効果】本発明により、抗ウイルス活性、又は制
癌活性を有することが期待される化合物（１）が製造で
きた。

【００１３】

【実施例】次に各工程に於ける参考例及び実施例を挙げ
て本発明化合物の製造について具体的に説明する。 参考例１ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ヒドロキシ−２−プロペン）オキ
セタン〔一般式（４）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル〕の
製造アルゴン雰囲気下、（１β，２α，３β）１−アル
デヒト−２，　３−ビス（ベンジルオキシメチル）オキ
セタン〔一般式（３）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル〕（
２３３ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌｅ）を無水ＴＨＦ（５ｍ
ｌ）　に溶解し、−５０℃に冷却してビニルマグネシウ
ムブロミド（０．９８Ｍ　　ＴＨＦ溶液、２．５ｍｌ，
　２．４５ｍｍｏｌｅ）を加え、室温にゆっくりと戻し
ながら一晩攪拌する。反応液に飽和アンモニア水溶液（
１０ｍｌ）　を加え、酢酸エチル（５ｍｌｘ　２）で抽
出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。溶媒を減圧溜去し、得られる残渣
をシリカゲルクロマトグラフィ（溶出液、ヘキサン−酢
酸エチル＝１：１）で精製し、目的物（１３３ｍｇ，　
５３％）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）３４５０、１６４０、９８５、９２５
ｃｍ−１。

【００１４】参考例２ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２−プロペン）オキセタン〔一般式（５）、Ｒ
１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ４　＝ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル〕の製造 （１β，２α，３β）−２，　３−ビス（ベンジルオキ
シメチル）−１−（１−ヒドロキシ−２−プロペン）オ
キセタン（８７ｍｇ，　０．２５ｍｍｏｌｅ）を無水Ｄ
ＭＦ（２．５ｍｌ）　に溶解し、イミダゾール（６７９
ｍｇ，　９．９７ｍｍｏｌｅ）を加え、氷冷下にｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（５６５ｍｇ，　３
．７５ｍｍｏｌｅ）を加えた後、室温で２日間攪拌反応
させる。反応液を氷水（１０ｍｌ）　に注ぎ酢酸エチル
（１０ｍｌｘ　２）で抽出する。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減
圧溜去し、得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
（溶出液、ヘキサン−酢酸エチル＝３：１）で精製し、
目的物（１１３．１ｍｇ，　９７％）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）１６４０、９９０、９３０ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；０．０５
（６Ｈ，ｂｒ．ｓ）　、０．８８（９Ｈ，ｓ），２．９
８（１Ｈ，ｍ），５．０５−５．３５（２Ｈ，ｃｏｍｐ
ｌｅｘ），　５．５６−５．９２（１Ｈ，ｍ）。

【００１５】参考例３ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２，３−ジヒドロキシ−プロパン）オキセタン
〔一般式（６）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ４　＝
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル〕の製造 （１β，２α，３β）−２，　３−ビス（ベンジルオキ
シメチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２−プロペン）オキセタン（１１３ｍｇ，　
０．２４ｍｍｏｌｅ）を水（５ｍｌ）　、アセトン（２
ｍｌ）　、ｔｅｒｔ−ブタノール（１ｍｌ）　の混合溶
媒に溶解し、過剰量のＮ−メチルモルホリンＮ−オキシ
ドを加え、反応溶液が均一になったところで、触媒量の
四酸化オスミウム（ｔｅｒｔ−ブタノール溶液）を加え
室温にて２４時間反応させる。反応液を氷水（１０ｍｌ
）　に注ぎ酢酸エチル（１０ｍｌｘ　２）で抽出する。 有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥する。溶媒を減圧溜去し、得られる残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィ（溶出液、ヘキサン−酢酸エチル
＝１：３）で精製し、目的物（１１５．５ｍｇ，９６％
）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）３４５０ｃｍ−１。

【００１６】参考例４ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−ホルミルメチル）オキセタン」一般式（７
）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ４　＝ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル〕の製造 （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２，　３−ジヒドロキシ−プロパン）オキセタ
ン（１１５ｍｇ，　０．２３ｍｍｏｌｅ）をメタノール
（３ｍｌ）　に溶解し、過ヨーソ酸ナトリウム（９０ｍ
ｇ）　の水溶液（１ｍｌ）　を加え、炭酸カリウム水溶
液で反応液をｐＨ７に調整した後０℃一晩反応させる。 反応液を水（１０ｍｌ）　に注ぎ酢酸エチル（１０ｍｌ
ｘ　２）で抽出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧溜去し、
得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（溶出液、
ヘキサン−酢酸エチル＝１：１）で精製し、目的物（８
９．４ｍｇ，　８３％）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）１７３５ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；０．０６
（３Ｈ，　ｓ）、０．１０（３Ｈ，ｓ），０．８９（９
Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．１４（１Ｈ，ｍ），３．５１−３
．６６（４Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），　４　　．２４（１
Ｈ，ｍ），４．５２−４．８０（６Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ
），　７．３０（１０Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．６０（１Ｈ
，ｂｒ．ｓ）。

【００１７】参考例５ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−メトキシカルボニルメチル）オキセタン〔
一般式（９）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ３　＝メ
チル，Ｒ４　＝ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル〕の製
造（１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキ
シメチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−１−ホルミルメチル）オキセタン（９３．８
４ｍｇ，　０．２０ｍｍｏｌｅ）をｔｅｒｔ−ブタノー
ル（１．５ｍｌ）　に溶解し、リン酸緩衝液（ｐＨ＝７
）（１ｍｌ）　を加え、次いで過マンガン酸カリウム（
４２．２６ｍｇ，　０．２７ｍｍｏｌｅ）の水溶液を加
えて室温で３５分間攪拌する。反応液に亜硫酸ナトリウ
ム水溶液を加えて余剰の過マンガン酸カリウムを分解し
た後２Ｎ−塩酸でｐＨ＝３の酸性にして酢酸エチル（１
０ｍｌｘ　２）で抽出する。有機層を水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧溜
去し、得られる残渣〔一般式（８）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝
ベンジル、Ｒ４　＝ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル〕
をエーテル（３ｍｌ）　に溶解し、過剰量のジアゾメタ
ン（エーテル溶液）を加えて室温で１時間放置後、溶媒
を減圧溜去し、得られる残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィ（溶出液、ヘキサン−酢酸エチル＝２：１）で精製
し、目的物（５４．４ｍｇ，　５４％）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）１７２５ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；３．１５
（１Ｈ，　ｍ），３．５４（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），
　３．６２（３Ｈ，ｓ），３．６６（２Ｈ，ｃｏｍｐｌ
ｅｘ），　４．３４−４．７８（７Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ
），　７．３０（１０Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ）。

【００１８】参考例６ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ヒドロキシ−１−メトキシカルボ
ニルメチル）オキセタン〔一般式（１０）、Ｒ１　＝Ｒ
２　＝ベンジル、Ｒ３　＝メチル〕の製造 （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−１−メトキシカルボニルメチル）オキセタン（
５４．３５ｍｇ，　０．１１ｍｍｏｌｅ）を無水ＴＨＦ
（３ｍｌ）　に溶解し、氷冷下テトラブチルアンモニウ
ムフルオリド（１．０ＭＴＨＦ溶液，０．２ｍｌ）　を
加え、４５分間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、得られ
る残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（溶出液、ヘキサ
ン−酢酸エチル＝１：１）で精製し、目的物（３５．４
ｍｇ，　８３％）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）３４５０、１７４０ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；３．４４
（１Ｈ，　ｍ），３．５２−３．５７（３Ｈ，ｃｏｍｐ
ｌｅｘ），　３．６３（３Ｈ，ｓ）３．６６−３．７２
（１Ｈ，ｍ），４．３４（１Ｈ，ｂｒ．），　４．４９
（２Ｈ，ｓ），４．６４（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），４
．６８（１Ｈ，ｍ），４．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ３．２
，６．６Ｈｚ），７．３４（１０Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ）
。

【００１９】実施例１ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−オキセタノシルピルビン酸メチルエステ
ル〔一般式（２）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ３　
＝メチル〕の製造 （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−（１−ヒドロキシ−１−メトキシカルボ
ニルメチル）オキセタン（３５．３４ｍｇ，　０．０９
２ｍｍｏｌｅ）をＤＭＳＯ（６ｍｌ）　と無水酢酸（４
ｍｌ）　に溶解し、室温にて一晩攪拌する。反応液にク
ロロホルム（１０ｍｌ）　と飽和炭酸ナトリウム水溶液
（１０ｍｌ）　を加えて１０分間攪拌する。有機層を水
、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。溶媒を減圧溜去し、得られる残渣〔一般式（２）、Ｒ
１　＝Ｒ２　＝ベンジル、Ｒ３　＝メチル〕は不安定の
ため精製することなく次の反応に用いる。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）１７４０ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；５．４４
（１Ｈ，　ｄ，Ｊ７Ｈｚ）。

【００２０】実施例２ （１β，２α，３β）−２，　３−ビス（ベンジルオキ
シメチル）−１−オキセタノシルマレイミド〔一般式（
１）、Ｒ１　＝Ｒ２　＝ベンジル〕の製造実施例１で得
られた残渣をクロロホルム（３ｍｌ）　に溶解し、Ｐｈ
３Ｐ＝ＣＨＣＯＮＨ２　（５４．３８ｍｇ，　０．１７
ｍｍｏｌｅ）を加えて、４０分間攪拌する。反応液を減
圧濃縮し、得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
（溶出液、ヘキサン−酢酸エチル＝１：１）で精製し、
目的物（８．５ｍｇ，　２４％　　２段階で）を得る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）３２５０、１７８０（ｓｈ）、１７３
０、１６４０ｃｍ−１。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　、ＴＭＳ）δ；３．１０
（１Ｈ，　ｍ），３．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ４．２，１
１．５Ｈｚ），３．６４−３．６９（２Ｈ，ｃｏｍｐｌ
ｅｘ），３．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ５．９，１０．０Ｈ
ｚ），４．５４−４．６２（４Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），
４．９１（１Ｈ，ｍ）５．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ２．０
，６．８Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ２．０Ｈｚ）
，７．１０（１Ｈ，ｂｒ．），７．３３（１０Ｈ，ｃｏ
ｍｐｌｅｘ）。

【００２１】実施例３ （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−１−オキセタノシルマレイミド〔一般式（１）、
Ｒ１　＝Ｒ２　＝Ｈ〕の製造 （１β，２α，３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシ
メチル）−１−オキセタノシルマレイミド（２．７５ｍ
ｇ，　０．００７ｍｍｏｌｅ）をメタノール（２．５ｍ
ｌ）　に溶解し、９８％ギ酸（０．６ｍｌ）　とＰｄ−
ブラック（５ｍｇ）　を加えて室温で３５分間攪拌する
。触媒を瀘別し、瀘液を減圧濃縮し、得られる残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィ（溶出液、クロロホルムーメ
タノール＝３：１）で精製し、目的物（０．３５ｍｇ，
　２４％）を得る。 １　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３　ＯＤ）δ；２．９２（１Ｈ，
　ｍ），３．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ４．６，１２．９Ｈ
ｚ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ３．１，１２．９Ｈｚ
），３．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ４．６，１１．６Ｈｚ）
，３．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ５．６，１１．６Ｈｚ），
４．７５（１Ｈ，ｍ），５．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ２．
０，７．１Ｈｚ），６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ２．０Ｈｚ
）。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（１） 【化１】 〔式中Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ独立に水素原子又は
   水酸基の保護基を示す〕で表される新規オキセタノシル
   マレイミド誘導体。
2. 【請求項２】　　一般式（２） 【化２】 〔式中Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ独立に水素原子又は
   水酸基の保護基を、Ｒ３　はＣ１−Ｃ４の低級アルキル
   基を示す〕で表される新規オキセタン誘導体。
3. 【請求項３】　　一般式（２） 【化３】 で表されるα−ケトエステル体にｗｉｔｔｉｇ試薬を反
   応させることによりマレイミド誘導体を構築し、得られ
   る化合物に保護基が存在する場合には所望によりそれら
   の保護基を除去することを特徴とする一般式（１）【化
   ４】 〔式中Ｒ１　及びＲ２　は水素原子〕で表される新規オ
   キセタノシルマレイミド誘導体の製造法。