JP2769628B2 - 光開始剤としての共重合体 - Google Patents
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- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 61
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 C 1 to 12 - alkenyl Chemical group 0.000 description 14
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- XNLHQURWXIWCDF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2,4-dihydroxy-2,4-dimethyl-3-oxo-5-[4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)phenyl]pentyl]phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCCOC(=O)C=C)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 XNLHQURWXIWCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAZZXSGFOQDWIO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 9-oxothioxanthene-4-carboxylate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(=O)OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C2 OAZZXSGFOQDWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VOXFWBDWBNLOSX-UHFFFAOYSA-N 2-(9-oxothioxanthen-2-yl)sulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(SCCOC(=O)C=C)=CC=C3SC2=C1 VOXFWBDWBNLOSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYCUCYKNOQSLPT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-prop-2-enoxyphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCC=C)C=C1 YYCUCYKNOQSLPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003828 free initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- UTHDGOQKIWLLCO-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(O)OC(=O)C=C UTHDGOQKIWLLCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWELXMXBBYAGPS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 AWELXMXBBYAGPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006325 2-propenyl amino group Chemical group [H]C([H])=C([H])C([H])([H])N([H])* 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanopropyl(trimethoxy)silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]#[C-] BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004848 alkoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000006363 carbonyl oxy alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも2種の異なる単量体単位から構
成され、そのうちの少なくとも1種の単量体単位が、光
開始作用を有する構造単位を有している共重合体に関す
るものである。このタイプの重合化合物は、エチレン系
不飽和化合物またはこのような化合物を含有する系の重
合におけるフリーラジカル形成光開始剤として使用され
る。共重合体は、通常の単量体光開始剤またはそれから
誘導された単独重合体光開始剤と比較して、予期されな
い多数の利点を示す。
成され、そのうちの少なくとも1種の単量体単位が、光
開始作用を有する構造単位を有している共重合体に関す
るものである。このタイプの重合化合物は、エチレン系
不飽和化合物またはこのような化合物を含有する系の重
合におけるフリーラジカル形成光開始剤として使用され
る。共重合体は、通常の単量体光開始剤またはそれから
誘導された単独重合体光開始剤と比較して、予期されな
い多数の利点を示す。
光化学的に誘起された重合反応は、工業上、特に例え
ば紙、木材、金属およびプラスチツク上のペイント塗膜
およびプラスチツク塗膜の硬化または印刷インキの乾燥
におけるような薄層の急速な硬化が重要である場合に、
非常な重要性を有する。現在、光開始剤の存在下におけ
る放射線−硬化は、従来の塗膜の乾燥または硬化方法に
比較して、原料およびエネルギーの節約、基質の低熱荷
重および特に高速度によって特徴づけられる。しかしな
がら、相当する不飽和単量体出発物質の重合による重合
物質それ自体の製造も、また、溶液重合および乳化重合
のような普通の方法を使用して、しばしば光化学的にそ
して光開始剤を使用して実施される。
ば紙、木材、金属およびプラスチツク上のペイント塗膜
およびプラスチツク塗膜の硬化または印刷インキの乾燥
におけるような薄層の急速な硬化が重要である場合に、
非常な重要性を有する。現在、光開始剤の存在下におけ
る放射線−硬化は、従来の塗膜の乾燥または硬化方法に
比較して、原料およびエネルギーの節約、基質の低熱荷
重および特に高速度によって特徴づけられる。しかしな
がら、相当する不飽和単量体出発物質の重合による重合
物質それ自体の製造も、また、溶液重合および乳化重合
のような普通の方法を使用して、しばしば光化学的にそ
して光開始剤を使用して実施される。
更に、光開始剤は、しばしば、特に半導体電子工学お
よび光電子工学におけるネガテイブフオトレジストにお
けるような写真平版用の光重合性組成物に使用される。
よび光電子工学におけるネガテイブフオトレジストにお
けるような写真平版用の光重合性組成物に使用される。
一般に、前述した反応において光化学的に活性な放射
線を十分に吸収することのできる反応剤はないので、投
射された高−エネルギー放射線、通常は、紫外線、を吸
収しそして同時に光重合を開始する活性な開始剤である
フリーラジカルを形成することができるかあるいは、フ
リーラジカル形成のための吸収エネルギーを重合性反応
剤の1つに伝達することのできる光開始剤を添加しなけ
ればならない。この開始剤は、通常は、実際の重合反応
には関係しない。
線を十分に吸収することのできる反応剤はないので、投
射された高−エネルギー放射線、通常は、紫外線、を吸
収しそして同時に光重合を開始する活性な開始剤である
フリーラジカルを形成することができるかあるいは、フ
リーラジカル形成のための吸収エネルギーを重合性反応
剤の1つに伝達することのできる光開始剤を添加しなけ
ればならない。この開始剤は、通常は、実際の重合反応
には関係しない。
これらの目的に適した光開始剤は、主に、芳香族ケト
ン型の化合物、例えばベンゾフエノン、ベンゾインエー
テル、ベンジルモノケタール、ジアルコキシアセトフエ
ノン、チオキサントン、ビスアシルホスフインオキシド
またはヒドロキシアルキルフエノン、またはこれらの型
の構造から誘導された誘導体である。西独特許2,722,26
4号(特公昭60−26403号公報参照)および欧州特許3,00
2号に記載されているようなヒドロキシアルキルフエノ
ン光開始剤は、主としてその高度な反応性のために、そ
してまた、これらの開示剤を添加した放射線−硬化性系
の暗所におけるすぐれた保存寿命およびこれらの系を使
用して硬化した層の低い黄色化傾向のために、特に有利
であることが判明している。
ン型の化合物、例えばベンゾフエノン、ベンゾインエー
テル、ベンジルモノケタール、ジアルコキシアセトフエ
ノン、チオキサントン、ビスアシルホスフインオキシド
またはヒドロキシアルキルフエノン、またはこれらの型
の構造から誘導された誘導体である。西独特許2,722,26
4号(特公昭60−26403号公報参照)および欧州特許3,00
2号に記載されているようなヒドロキシアルキルフエノ
ン光開始剤は、主としてその高度な反応性のために、そ
してまた、これらの開示剤を添加した放射線−硬化性系
の暗所におけるすぐれた保存寿命およびこれらの系を使
用して硬化した層の低い黄色化傾向のために、特に有利
であることが判明している。
重合物質を使用する被覆技術の分野において方法およ
び生成物が次第に多様化し、特殊化するに伴い、また、
特別の問題の解決に対する要求が次第に増大するに伴
い、光開始剤に対してもより大なるそして、より特別の
要求がなされるに至っている。これらの要求は、在来の
光開始剤によっては、現在、満足していないかまたは少
なくとも最善の方法としては満足していないことが多
い。光開始剤は、ただ、単に、光重合または光架橋結合
のみを開始するフリーラジカルを形成することができる
という以上のものでなければならないということが次第
に強く要求されてきている。本質的な問題の領域は、広
範囲の種々な系、特に、ある材料性質を達成するために
非−光重合性成分をも含有する系(いわゆるハイブリツ
ド系)に対する許容性および更に、光重合された最終生
成物への光開始剤またはその光分解生成物の移行−抵抗
性混和である。同時に、これらの性質は、開始剤の光反
応性に影響を与えないものでなければならない。同様
に、開始剤を与えた系の暗所における長い保存寿命は、
実際に使用性能に対して高度に重要である。
び生成物が次第に多様化し、特殊化するに伴い、また、
特別の問題の解決に対する要求が次第に増大するに伴
い、光開始剤に対してもより大なるそして、より特別の
要求がなされるに至っている。これらの要求は、在来の
光開始剤によっては、現在、満足していないかまたは少
なくとも最善の方法としては満足していないことが多
い。光開始剤は、ただ、単に、光重合または光架橋結合
のみを開始するフリーラジカルを形成することができる
という以上のものでなければならないということが次第
に強く要求されてきている。本質的な問題の領域は、広
範囲の種々な系、特に、ある材料性質を達成するために
非−光重合性成分をも含有する系(いわゆるハイブリツ
ド系)に対する許容性および更に、光重合された最終生
成物への光開始剤またはその光分解生成物の移行−抵抗
性混和である。同時に、これらの性質は、開始剤の光反
応性に影響を与えないものでなければならない。同様
に、開始剤を与えた系の暗所における長い保存寿命は、
実際に使用性能に対して高度に重要である。
更にこれらの方向における開発は、主として、光反応
性に関して特に高度な性能を有するヒドロキシアルキル
フエノン光開始剤から出発して既に実施されている。す
なわち、例えば、西独特許公開3,512,179号(公表公報
昭62−502403号参照)に記載されている光開始剤は、特
に水性系に使用するのに適している。不飽和官能を具備
した西独特許公開3,534,645号(特開昭62−81345号公報
参照)および欧州特許公開161,463号の光開始剤および
特に西独特許出願P3,707,891号およびP3,738,567号(特
開昭63−254105号公報参照)の多能な共反応性光開始剤
は、実際の光重合前、光重合中または光重合後の、広範
囲の種々な系成分との、それ自体とのまたは基質との光
化学的および非光化学的に誘起された共反応によって、
生成物への移行−抵抗性混和を可能にする。
性に関して特に高度な性能を有するヒドロキシアルキル
フエノン光開始剤から出発して既に実施されている。す
なわち、例えば、西独特許公開3,512,179号(公表公報
昭62−502403号参照)に記載されている光開始剤は、特
に水性系に使用するのに適している。不飽和官能を具備
した西独特許公開3,534,645号(特開昭62−81345号公報
参照)および欧州特許公開161,463号の光開始剤および
特に西独特許出願P3,707,891号およびP3,738,567号(特
開昭63−254105号公報参照)の多能な共反応性光開始剤
は、実際の光重合前、光重合中または光重合後の、広範
囲の種々な系成分との、それ自体とのまたは基質との光
化学的および非光化学的に誘起された共反応によって、
生成物への移行−抵抗性混和を可能にする。
しかしながら、原理に関する限り非常に有望であるこ
れらの開発は、多くの場合においてなお、改善が必要と
されている。すなわち、前述した特許関連刊件物の種々
の光開始剤においては、個々の特定の追加的性質のみを
達成し得るにすぎない。この理由によって、種々な適用
および使用においては、はじめの原理によって、適当に
変性された光開始剤を多数製造しそして準備することが
必要とされ、そしてこれは高度な費用を必要としそして
それ故に非常に経済的でない。
れらの開発は、多くの場合においてなお、改善が必要と
されている。すなわち、前述した特許関連刊件物の種々
の光開始剤においては、個々の特定の追加的性質のみを
達成し得るにすぎない。この理由によって、種々な適用
および使用においては、はじめの原理によって、適当に
変性された光開始剤を多数製造しそして準備することが
必要とされ、そしてこれは高度な費用を必要としそして
それ故に非常に経済的でない。
それ故に、本発明は、多数の特別に要求される付加的
な性質を達成することができそして一方、例えば少数の
一般に使用できる基本成分から出発して容易に入手する
ことのできるという高性能の光開始剤を見出しそして提
供することを目的とするものである。
な性質を達成することができそして一方、例えば少数の
一般に使用できる基本成分から出発して容易に入手する
ことのできるという高性能の光開始剤を見出しそして提
供することを目的とするものである。
本発明者らは、これらの要求が、少なくとも1種の次
式(I)で表される単量体単位および少なくとも1種の
次式(II)で表される単量体単位のI/II重量比=1〜10
0の共重合によって得ることのできる500と1,000,000と
の間の分子量を有する共重合体によって、すぐれた方法
で遂行されることを見出した。
式(I)で表される単量体単位および少なくとも1種の
次式(II)で表される単量体単位のI/II重量比=1〜10
0の共重合によって得ることのできる500と1,000,000と
の間の分子量を有する共重合体によって、すぐれた方法
で遂行されることを見出した。
[式中、RaおよびRbは、互に独立して、それぞれ、H、
Cl、CN、C1〜6−アルキルまたはフエニルであり、 Xは、CO−、COO−、O−CO−、(CH2)nY、COO(C
H2)nY、CO(OCH2CH2)nY(式中、n=1〜10でありそ
してYは、単一結合、−O−、−S−、−CO−、−COO
−、−OCO−、−NH−または−N(C1〜6−アルキ
ル)−である)であり、 mは0または1であり、 INは、光開始剤の基本構造 (式中、Rは、−CR3R4R5または であり、 R1およびR2は、H、ハロゲン、C1〜12−アルキルま
たはC1〜12−アルコキシであり、 R3およびR4は、互に独立して、それぞれ、H、C
1〜12−アルキル、C1〜12−アルケニル、C1〜12−
アルコキシであるかまたは一緒になってC2〜6−アル
キレンであり、 R5は、−OH、C1〜6−アルコキシ、C1〜6−アル
カノイルオキシ、−N(C1〜6−アルキル)2、 または−OSO2R7であり、 R6は、C1〜6−アルキル、C1〜6−アルカノイ
ル、フエニルまたはベンゾイルであり、これらの基は、
いずれも、場合により、ハロゲン、C1〜6−アルキル
またはC1〜6−アルコキシによって置換されていても
よく、 R7は、C1〜6−アルキルまたはフエニルである) の1つであり、 Aは、前述の光開始剤の基本構造INの1つであるか、
または、H、C1〜12−アルキル、C1〜12−アルケニ
ル、フエニル、スチリル、ハロゲン、NCO、NCS、N3、SO
3H、SO2Cl、CRc=CRdReまたは (式中、Rc、RdおよびReは、それぞれ、HまたはCH3で
ある)であるかまたはSiRfRgRh(式中、Rf、RgおよびRh
は、それぞれ、Cl、C1〜12−アルキル、C1〜12−ア
ルコキシまたはC1〜12−アルカノイルオキシである)
である] 本発明の共重合体は、エチレン系不飽和化合物または
このような化合物を含有する系の光重合または光架橋結
合のための高性能の個々に構成できる光開始剤である。
しかしながら、これらの共重合体は、放射線−硬化性組
成物における同時的光開始およびフイルム−形成成分と
してそれ自体を使用することもできる。
Cl、CN、C1〜6−アルキルまたはフエニルであり、 Xは、CO−、COO−、O−CO−、(CH2)nY、COO(C
H2)nY、CO(OCH2CH2)nY(式中、n=1〜10でありそ
してYは、単一結合、−O−、−S−、−CO−、−COO
−、−OCO−、−NH−または−N(C1〜6−アルキ
ル)−である)であり、 mは0または1であり、 INは、光開始剤の基本構造 (式中、Rは、−CR3R4R5または であり、 R1およびR2は、H、ハロゲン、C1〜12−アルキルま
たはC1〜12−アルコキシであり、 R3およびR4は、互に独立して、それぞれ、H、C
1〜12−アルキル、C1〜12−アルケニル、C1〜12−
アルコキシであるかまたは一緒になってC2〜6−アル
キレンであり、 R5は、−OH、C1〜6−アルコキシ、C1〜6−アル
カノイルオキシ、−N(C1〜6−アルキル)2、 または−OSO2R7であり、 R6は、C1〜6−アルキル、C1〜6−アルカノイ
ル、フエニルまたはベンゾイルであり、これらの基は、
いずれも、場合により、ハロゲン、C1〜6−アルキル
またはC1〜6−アルコキシによって置換されていても
よく、 R7は、C1〜6−アルキルまたはフエニルである) の1つであり、 Aは、前述の光開始剤の基本構造INの1つであるか、
または、H、C1〜12−アルキル、C1〜12−アルケニ
ル、フエニル、スチリル、ハロゲン、NCO、NCS、N3、SO
3H、SO2Cl、CRc=CRdReまたは (式中、Rc、RdおよびReは、それぞれ、HまたはCH3で
ある)であるかまたはSiRfRgRh(式中、Rf、RgおよびRh
は、それぞれ、Cl、C1〜12−アルキル、C1〜12−ア
ルコキシまたはC1〜12−アルカノイルオキシである)
である] 本発明の共重合体は、エチレン系不飽和化合物または
このような化合物を含有する系の光重合または光架橋結
合のための高性能の個々に構成できる光開始剤である。
しかしながら、これらの共重合体は、放射線−硬化性組
成物における同時的光開始およびフイルム−形成成分と
してそれ自体を使用することもできる。
すなわち、本発明は、式(I)および式(II)の単量
体単位のI/II重量比=1〜100の共重合によって得るこ
とのできる500と1,000,000との間の分子量を有する共重
合体に関するものである。
体単位のI/II重量比=1〜100の共重合によって得るこ
とのできる500と1,000,000との間の分子量を有する共重
合体に関するものである。
更に、本発明は、エチレン系不飽和化合物またはこの
ような化合物を含有する組成物の光重合に対する光開始
剤としてこれらの共重合体を使用することに関するもの
である。
ような化合物を含有する組成物の光重合に対する光開始
剤としてこれらの共重合体を使用することに関するもの
である。
更に、本発明は、これらの共重合体の少なくとも1種
を重合される混合物に添加したエチレン系不飽和化合物
を含有する光重合性組成物の製造方法に関するものであ
る。
を重合される混合物に添加したエチレン系不飽和化合物
を含有する光重合性組成物の製造方法に関するものであ
る。
最後に、本発明は、これらの共重合体の少なくとも1
種を含有している少なくとも1種のエチレン系不飽和光
重合性化合物および場合によっては更に既知の通常の添
加剤を含有する重合性組成物に関するものである。
種を含有している少なくとも1種のエチレン系不飽和光
重合性化合物および場合によっては更に既知の通常の添
加剤を含有する重合性組成物に関するものである。
本発明の共重合体は、新規である。これらの共重合体
の特有の性質は、単量体単位(I)および(II)を量的
にそして質的に選択することによって特定的に変性する
ことができ種々に変えることができる高度に反応性の光
開始剤であることが認められた。本発明に係る共重合体
は、適当な単量体成分の熟的共重合によって非常に簡単
に入手することができる。これら共重合体は、その重合
特性のために、光重合性系および光重合した最終生成物
中における高度な移行−抵抗性を有している。
の特有の性質は、単量体単位(I)および(II)を量的
にそして質的に選択することによって特定的に変性する
ことができ種々に変えることができる高度に反応性の光
開始剤であることが認められた。本発明に係る共重合体
は、適当な単量体成分の熟的共重合によって非常に簡単
に入手することができる。これら共重合体は、その重合
特性のために、光重合性系および光重合した最終生成物
中における高度な移行−抵抗性を有している。
本発明の共重合体は、少なくとも1種の式(I)で表
される単量体単位および少なくとも1種の式(II)で表
される単量体単位から構成される。
される単量体単位および少なくとも1種の式(II)で表
される単量体単位から構成される。
単量体単位(I)は、重合性のエチレン系不飽和構造
部分(基Raは水素、塩素、シアノ、C1〜6−アルキル
基またはフエニル基である)を含有している。Raは好適
には水素でありそして不飽和構造部分は、好適にはビニ
ル基である。この不飽和構造部分は、直接単一結合によ
ってまたは架橋基Xによって大体において在来の光開始
剤中にも存在するような光開始剤基本構造INに結合して
いる。
部分(基Raは水素、塩素、シアノ、C1〜6−アルキル
基またはフエニル基である)を含有している。Raは好適
には水素でありそして不飽和構造部分は、好適にはビニ
ル基である。この不飽和構造部分は、直接単一結合によ
ってまたは架橋基Xによって大体において在来の光開始
剤中にも存在するような光開始剤基本構造INに結合して
いる。
架橋基Xは、カルボニル、カルボキシルまたは1〜10
個の炭素原子を有するアルキレンであることができる。
それは、また、それぞれの場合においてそれぞれ1〜10
個のメチレン単位またはオキシエチレン単位を有するカ
ルボニルオキシアルキレンまたはカルボニルポリオキシ
エチレン基であることができる。光開始剤基本構造INに
対する結合は、単一結合によってまたは酸素、硫黄、カ
ルボニル、カルボキシルまたはアミノ基によって行われ
る。光開始剤基本構造INに対する不飽和構造単位の好適
な結合は、単一結合、カルボニル基、カルボニルオキシ
メチレンオキシ基およびカルボニルオキシエトキシ基で
ある。単一結合による結合の場合においては、通常の光
開始剤のビニル−置換された誘導体が、得られる。好適
な結合の他の場合においては、アクリレート光開始剤誘
導体が得られる。
個の炭素原子を有するアルキレンであることができる。
それは、また、それぞれの場合においてそれぞれ1〜10
個のメチレン単位またはオキシエチレン単位を有するカ
ルボニルオキシアルキレンまたはカルボニルポリオキシ
エチレン基であることができる。光開始剤基本構造INに
対する結合は、単一結合によってまたは酸素、硫黄、カ
ルボニル、カルボキシルまたはアミノ基によって行われ
る。光開始剤基本構造INに対する不飽和構造単位の好適
な結合は、単一結合、カルボニル基、カルボニルオキシ
メチレンオキシ基およびカルボニルオキシエトキシ基で
ある。単一結合による結合の場合においては、通常の光
開始剤のビニル−置換された誘導体が、得られる。好適
な結合の他の場合においては、アクリレート光開始剤誘
導体が得られる。
INは、本質的には、大部分の古典的な光開始剤に存在
するような芳香族ケトン構造単位またはチオキサントン
構造単位 であるが、また、光開始剤性質を有する何れかの他の構
造であってもよい。
するような芳香族ケトン構造単位またはチオキサントン
構造単位 であるが、また、光開始剤性質を有する何れかの他の構
造であってもよい。
Rが−CR3R4R5基である場合は、R3、R4およびR5に対
する前述した定義は、従って、アシロインエーテル、ジ
アルコキシアセトフエノン、ヒドロキシアルキルフエノ
ンおよびアミノアルキルフエノンおよびα−スルホニル
ケトンの光開始剤基本構造を与える。
する前述した定義は、従って、アシロインエーテル、ジ
アルコキシアセトフエノン、ヒドロキシアルキルフエノ
ンおよびアミノアルキルフエノンおよびα−スルホニル
ケトンの光開始剤基本構造を与える。
共重合性ヒドロキシアルキルフエノン誘導体は、式I
の特に好適な単量体単位である。
の特に好適な単量体単位である。
Rが、 基である場合は、得られた光開始剤は、アシルホスフイ
ンオキシドからなる級に属する。
ンオキシドからなる級に属する。
共重合性チオキサントン誘導体は、同様に、式Iの好
適な単量体単位である。
適な単量体単位である。
式Iによって示されるような広範囲の種々の光開始剤
群の多数の不飽和誘導体が知られておりそしてあるもの
は、また、商業的に入手できる。特に、西独特許公開3,
534,645号および欧州特許公開161,463号に記載されてい
るヒドロキシアルキルフエノン誘導体および西独特許出
願P3,707,891号およびP3,738,567号(特開昭63−254105
号公報参照)の不飽和官能を有する相当する光開始剤を
あげることができる。一般に、これらの化合物は、有機
化学の標準方法によって製造することができる。
群の多数の不飽和誘導体が知られておりそしてあるもの
は、また、商業的に入手できる。特に、西独特許公開3,
534,645号および欧州特許公開161,463号に記載されてい
るヒドロキシアルキルフエノン誘導体および西独特許出
願P3,707,891号およびP3,738,567号(特開昭63−254105
号公報参照)の不飽和官能を有する相当する光開始剤を
あげることができる。一般に、これらの化合物は、有機
化学の標準方法によって製造することができる。
その際の反応条件は、製造有機化学の標準文献、例え
ばHouben−WeylのMethoden der Organischen Chemieま
たはJ.WileyのOrganic Synthesisなどに記載されてい
る。
ばHouben−WeylのMethoden der Organischen Chemieま
たはJ.WileyのOrganic Synthesisなどに記載されてい
る。
一般に、基本的な光開始剤に対する通常の合成方法に
よって、式Iのコモノマーまたは相当するプレカーサー
を製造することが好都合である。直接、出発物質として
既知の光開始剤から出発しそして1またはそれより多い
工程の置換反応のような普通の反応を使用してこれらに
不飽和構造単位を結合させることが有利である。しかし
ながら、既に適当な置換分を有している既知の光開始剤
のプレカーサーもまた使用することができそして不飽和
構造部分が既に存在する場合は、実際の光開始剤の活性
構造のみがこれらにおいて形成される。
よって、式Iのコモノマーまたは相当するプレカーサー
を製造することが好都合である。直接、出発物質として
既知の光開始剤から出発しそして1またはそれより多い
工程の置換反応のような普通の反応を使用してこれらに
不飽和構造単位を結合させることが有利である。しかし
ながら、既に適当な置換分を有している既知の光開始剤
のプレカーサーもまた使用することができそして不飽和
構造部分が既に存在する場合は、実際の光開始剤の活性
構造のみがこれらにおいて形成される。
不飽和官能を具備している光開始剤に対する特に適し
たプレカーサーは、反応性官能基を有する置換分をもっ
ている西独特許出願P3,707,891号およびP3,738,567号
(特開昭63−254105号公報参照)に記載されている光開
始剤誘導体である。
たプレカーサーは、反応性官能基を有する置換分をもっ
ている西独特許出願P3,707,891号およびP3,738,567号
(特開昭63−254105号公報参照)に記載されている光開
始剤誘導体である。
これらのうち、容易に相当するアクリル酸又はメタア
クリル酸のエステルに変換することができるために、ヒ
ドロキシエトキシ−およびヒドロキシエチルチオ−置換
光開始剤誘導体が好適である。不飽和官能を具備しそし
て本発明の光開始剤共重合体に対する式(I)の単量体
成分として使用されることのできる典型的な光開始剤誘
導体の例をあげれば、次の通りである。
クリル酸のエステルに変換することができるために、ヒ
ドロキシエトキシ−およびヒドロキシエチルチオ−置換
光開始剤誘導体が好適である。不飽和官能を具備しそし
て本発明の光開始剤共重合体に対する式(I)の単量体
成分として使用されることのできる典型的な光開始剤誘
導体の例をあげれば、次の通りである。
4−ビニルフエニル2−ヒドロキシ−2−プロピルケト
ン (I a) 4−アリルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2−プロピ
ルケトン (I b) 4−2−アリルオキシエトキシフエニル2−ヒドロキシ
−2−プロピルケトン (I c) ビニル4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニ
ル)フエノキシアセテート (I d) 4−アクリロイルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2−
プロピルケトン (I e) 4−メタクリロイルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2
−プロピルケトン (I f) 4−2−アクリロイルオキシエトキシフエニル2−ヒド
ロキシ−2−プロピルケトン (I g) 4−2−メタクリロイルオキシエトキシフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I h) 4−2−アクリロイルオキシジエトキシフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I i) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I j) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフエニル2−N
−モルホリノ−2−プロピルケトン (I k) 2−[2−(アクリロイルオキシ)エチルチオ]チオキ
サントン (I l) 2−[2−(アクリロイルアミノ)エチルチオ]チオキ
サントン (I m) 2−[2−(アリルオキシ)エチルチオ]チオキサント
ン (I n) 2−[2−(アリルアミノ)エチルチオ]チオキサント
ン (I o) 4−[2−(メタクリロイルオキシ)エトキシカルボニ
ル]チオキサントン (I p) 式(II)の単量体単位は、式(I)の単量体単位の場
合と全く同様にして製造することができる。この単位に
おいて、直接または架橋基Xを介して不飽和構造単位に
結合している基Aは、前述したような光開始剤基本構造
IN、または、この代りに、水素、C1〜12−アルキル、
C1〜12−アルケニル、フエニル、スチリル、特に塩素
および弗素のようなハロゲン、イソシアネート基、イソ
チオシアネート基、アジド基、スルホン酸基またはスル
ホニルクロラド基、ビニル基またはオキシラニル基(こ
れらはまた場合によっては塩素またはメチルによってモ
ノ置換またはポリ置換されていてもよい)または珪素に
結合した基が塩素および(または)C1〜12−アルキル
および(または)C1〜12−アルコキシおよび(また
は)C1〜12−アルカノイルオキシであるシリル基であ
ることができる。
ン (I a) 4−アリルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2−プロピ
ルケトン (I b) 4−2−アリルオキシエトキシフエニル2−ヒドロキシ
−2−プロピルケトン (I c) ビニル4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニ
ル)フエノキシアセテート (I d) 4−アクリロイルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2−
プロピルケトン (I e) 4−メタクリロイルオキシフエニル2−ヒドロキシ−2
−プロピルケトン (I f) 4−2−アクリロイルオキシエトキシフエニル2−ヒド
ロキシ−2−プロピルケトン (I g) 4−2−メタクリロイルオキシエトキシフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I h) 4−2−アクリロイルオキシジエトキシフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I i) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフエニル2−ヒ
ドロキシ−2−プロピルケトン (I j) 4−2−アクリロイルオキシエチルチオフエニル2−N
−モルホリノ−2−プロピルケトン (I k) 2−[2−(アクリロイルオキシ)エチルチオ]チオキ
サントン (I l) 2−[2−(アクリロイルアミノ)エチルチオ]チオキ
サントン (I m) 2−[2−(アリルオキシ)エチルチオ]チオキサント
ン (I n) 2−[2−(アリルアミノ)エチルチオ]チオキサント
ン (I o) 4−[2−(メタクリロイルオキシ)エトキシカルボニ
ル]チオキサントン (I p) 式(II)の単量体単位は、式(I)の単量体単位の場
合と全く同様にして製造することができる。この単位に
おいて、直接または架橋基Xを介して不飽和構造単位に
結合している基Aは、前述したような光開始剤基本構造
IN、または、この代りに、水素、C1〜12−アルキル、
C1〜12−アルケニル、フエニル、スチリル、特に塩素
および弗素のようなハロゲン、イソシアネート基、イソ
チオシアネート基、アジド基、スルホン酸基またはスル
ホニルクロラド基、ビニル基またはオキシラニル基(こ
れらはまた場合によっては塩素またはメチルによってモ
ノ置換またはポリ置換されていてもよい)または珪素に
結合した基が塩素および(または)C1〜12−アルキル
および(または)C1〜12−アルコキシおよび(また
は)C1〜12−アルカノイルオキシであるシリル基であ
ることができる。
光開始構造部分INを含有していない式(II)の多数の
不飽和単量体単位は、重合体化学の分野において知られ
ておりそして入手することができる。これらは、主にビ
ニル系およびアクリル系の誘導体、即ち、常用されてお
り、容易に且つ安価に入手し得る不飽和単量体成分であ
る。
不飽和単量体単位は、重合体化学の分野において知られ
ておりそして入手することができる。これらは、主にビ
ニル系およびアクリル系の誘導体、即ち、常用されてお
り、容易に且つ安価に入手し得る不飽和単量体成分であ
る。
この型の好適な単量体成分は、特に、ヒドロキシル、
カルボキシル、カルボキサミド、スルホン酸、イソシア
ネート、オレフイン系不飽和およびシリル基のような更
に反応することのできる官能基を含有するものである。
カルボキシル、カルボキサミド、スルホン酸、イソシア
ネート、オレフイン系不飽和およびシリル基のような更
に反応することのできる官能基を含有するものである。
特定の使用に対して所望通りの特別の性質を有する本
発明の共重合体は、この型の官能化された単量体成分に
よって製造することができる。その結果、広範囲の種々
な放射線−硬化系そしてまた特に混和結合剤系との両立
性を達成することができる。これらの官能基は、P3,70
7,891号/P3,738,567号におけるような共反応性例えば特
に放射線−硬化性系の成分または基質と反応する能力を
有する本発明の光開始剤共重合体を与える。
発明の共重合体は、この型の官能化された単量体成分に
よって製造することができる。その結果、広範囲の種々
な放射線−硬化系そしてまた特に混和結合剤系との両立
性を達成することができる。これらの官能基は、P3,70
7,891号/P3,738,567号におけるような共反応性例えば特
に放射線−硬化性系の成分または基質と反応する能力を
有する本発明の光開始剤共重合体を与える。
この型の式(II)の典型的な単量体単位は、例えば
(meth)アクリル酸、(meth)アクリルアミド、アルキ
ル(meth)アクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、アルケニルまたはエポキシ(meth)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレン、ジビニルベンゼン、メチルビニルケト
ン、N−ビニルピロリドン、2−(N,N−ジメチルアミ
ノ)エチルメタクリレートおよび3−(トリメトキシシ
リル)プロピルメタクリレートである。
(meth)アクリル酸、(meth)アクリルアミド、アルキ
ル(meth)アクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、アルケニルまたはエポキシ(meth)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレン、ジビニルベンゼン、メチルビニルケト
ン、N−ビニルピロリドン、2−(N,N−ジメチルアミ
ノ)エチルメタクリレートおよび3−(トリメトキシシ
リル)プロピルメタクリレートである。
開始剤基を含有する式(II)の単量体成分の場合にお
いては、同様に式(I)の単量体単位に対して好適であ
るような前述したものが好適である。本発明の共重合体
が、それぞれの場合において開始剤−含有単量体からの
み構成される場合は、式(I)および式(II)の単量体
単位は、互に異なっている。
いては、同様に式(I)の単量体単位に対して好適であ
るような前述したものが好適である。本発明の共重合体
が、それぞれの場合において開始剤−含有単量体からの
み構成される場合は、式(I)および式(II)の単量体
単位は、互に異なっている。
式(I)および式(II)の単量体単位からの本発明の
共重合体の製造は、この型のオレフイン系不飽和化合物
の重合に対してそれ自体知られている方法で、即ち例え
ば過酸化ベンゾイルまたはアゾビスイソブチロニトリル
のような普通の熟的に活性化できるフリーラジカル開始
剤を使用して溶液中で光を除外して実施することができ
る。式(I)および式(II)の単量体単位は、I:II重量
比が1と100との間好適には2と10との間にある。重合
の典型的な溶剤は、例えばテトラヒドロフランおよびト
ルエンである。反応は、通常溶剤の還流温度で実施され
る。この共重合体は、非溶剤例えばn−ヘキサンを使用
して沈澱によって単離される。この共重合体は、もし必
要ならば反復する再沈澱によって精製することができ
る。重合体生成に対して慣用されているように、得られ
た生成物は、平均分子量wによって適宜特徴づけられ
る。この平均分子量は、ゲル透過クロマトグテフイーお
よびガラス転移温度Tgによって測定することができ、そ
れは、示差熱分解によって測定できる。この共重合体中
においては、種々の単量体単位が不規則に分布している
ものと想定される。平均分子量は、500と1,000,000との
間にあることができそして好適には1,000と10,000との
間にある。
共重合体の製造は、この型のオレフイン系不飽和化合物
の重合に対してそれ自体知られている方法で、即ち例え
ば過酸化ベンゾイルまたはアゾビスイソブチロニトリル
のような普通の熟的に活性化できるフリーラジカル開始
剤を使用して溶液中で光を除外して実施することができ
る。式(I)および式(II)の単量体単位は、I:II重量
比が1と100との間好適には2と10との間にある。重合
の典型的な溶剤は、例えばテトラヒドロフランおよびト
ルエンである。反応は、通常溶剤の還流温度で実施され
る。この共重合体は、非溶剤例えばn−ヘキサンを使用
して沈澱によって単離される。この共重合体は、もし必
要ならば反復する再沈澱によって精製することができ
る。重合体生成に対して慣用されているように、得られ
た生成物は、平均分子量wによって適宜特徴づけられ
る。この平均分子量は、ゲル透過クロマトグテフイーお
よびガラス転移温度Tgによって測定することができ、そ
れは、示差熱分解によって測定できる。この共重合体中
においては、種々の単量体単位が不規則に分布している
ものと想定される。平均分子量は、500と1,000,000との
間にあることができそして好適には1,000と10,000との
間にある。
本発明の共重合体は、所要の特定の付加的な性質を具
備する光開始剤としてエチレン系不飽和化合物またはこ
のような化合物を含有する系の光重合に対して非常に有
利に使用することができる。これらの光開始剤としての
共重合体は、主として、ペイントまたは重合体塗膜、UV
−硬化性結合剤系または混和結合剤系、印刷インキに対
するUV硬化剤として、そして、水性初期重合体分散液の
放射線−硬化におけるUV硬化剤として在来の光開始剤と
同様に使用される。これらの共重合体は、普通の方法
で、一般に、0.1〜20重量%好適には0.5〜12重量%の量
で重合される系に加えられる。この共重合体は、一般
に、単に撹拌することによって重合される系に加えられ
る。
備する光開始剤としてエチレン系不飽和化合物またはこ
のような化合物を含有する系の光重合に対して非常に有
利に使用することができる。これらの光開始剤としての
共重合体は、主として、ペイントまたは重合体塗膜、UV
−硬化性結合剤系または混和結合剤系、印刷インキに対
するUV硬化剤として、そして、水性初期重合体分散液の
放射線−硬化におけるUV硬化剤として在来の光開始剤と
同様に使用される。これらの共重合体は、普通の方法
で、一般に、0.1〜20重量%好適には0.5〜12重量%の量
で重合される系に加えられる。この共重合体は、一般
に、単に撹拌することによって重合される系に加えられ
る。
本発明の共重合体は、多くの場合において、また、放
射線−硬化性系の唯一の成分としてまたは本質的な成分
としてさえ使用することができる。この場合において
は、この共重合体は、同時的にフイルム−形成作用と光
開始機能の両方を発揮する。すなわち、例えば、基質に
対して層として適用された4−(2−アクリロイルオキ
シエトキシ)フエニル2−ヒドロキシ−2−プロピルケ
トン(I g)と2−ジメチルアミノエチルメタクリレー
トまたは3−(トリメトキシシリル)プロピルメタクリ
レートとの共重合体は、主として、UV放射線を使用して
光硬化することができる。このように、これらの物質
は、ネガテイブなフオトレジストとして使用するのに適
している。
射線−硬化性系の唯一の成分としてまたは本質的な成分
としてさえ使用することができる。この場合において
は、この共重合体は、同時的にフイルム−形成作用と光
開始機能の両方を発揮する。すなわち、例えば、基質に
対して層として適用された4−(2−アクリロイルオキ
シエトキシ)フエニル2−ヒドロキシ−2−プロピルケ
トン(I g)と2−ジメチルアミノエチルメタクリレー
トまたは3−(トリメトキシシリル)プロピルメタクリ
レートとの共重合体は、主として、UV放射線を使用して
光硬化することができる。このように、これらの物質
は、ネガテイブなフオトレジストとして使用するのに適
している。
本発明の共重合体を使用することによって、例えばエ
チレン系不飽和二重結合を含有していないためにそれ自
体では光架橋結合または光重合できない重合体物質に対
して、光反応性を与えることもできる。
チレン系不飽和二重結合を含有していないためにそれ自
体では光架橋結合または光重合できない重合体物質に対
して、光反応性を与えることもできる。
多数の在来の光開始剤の作用は、ある場合において
は、異なる構造の光開始剤例えば特に有機アミンのよう
な共開始剤および(または)増感剤を混合することによ
って、かなり増大することができるということが知られ
ている。典型的な混合物は、例えば、ヒドロキシアルキ
ルフエノンとチオキサントンおよび適当である場合は例
えばN−メチルジエタノールアミンのようなアミノ化合
物との混合物である。
は、異なる構造の光開始剤例えば特に有機アミンのよう
な共開始剤および(または)増感剤を混合することによ
って、かなり増大することができるということが知られ
ている。典型的な混合物は、例えば、ヒドロキシアルキ
ルフエノンとチオキサントンおよび適当である場合は例
えばN−メチルジエタノールアミンのようなアミノ化合
物との混合物である。
本発明の特に好適な態様は、本発明の共重合体におけ
る開始剤と共開始剤または増感剤との組み合わせであ
る。その理由は、驚くべきことには、このタイプの共重
合体が、慣用の基本光開始剤、共開始剤および増感剤の
混合物に比し、はるかに効果があることが見出されたか
らである。
る開始剤と共開始剤または増感剤との組み合わせであ
る。その理由は、驚くべきことには、このタイプの共重
合体が、慣用の基本光開始剤、共開始剤および増感剤の
混合物に比し、はるかに効果があることが見出されたか
らである。
このように、例えば、不飽和ヒドロキシアルキルフエ
ノン誘導体(I g)および不飽和チオキサントン誘導体
(I m)の共重合体は、慣用のヒドロキシアルキルフエ
ノンおよびチオキサントン光開始剤の相当する混合物よ
り格別に著しく有効であることが、証明された。このこ
とは、共重合体構造における固定によって起る種々な開
始剤基の直接的な共開始相互反応に由来するということ
により説明することができる。
ノン誘導体(I g)および不飽和チオキサントン誘導体
(I m)の共重合体は、慣用のヒドロキシアルキルフエ
ノンおよびチオキサントン光開始剤の相当する混合物よ
り格別に著しく有効であることが、証明された。このこ
とは、共重合体構造における固定によって起る種々な開
始剤基の直接的な共開始相互反応に由来するということ
により説明することができる。
この共重合体は、また、非常に有利に、分離した光開
始剤層として基物質に適用しそして光重合性層物質を具
備させることができる。この型の2層系の形態における
使用は、西独特許公開3,629,543号および西独特許公開
3,702,897号におけるように行うことができる。特に有
利なものは、極性の、場合によってはキレート−形成基
を有するおよびシリル基を有する共重合体である。それ
によって、金属、半導体、ガラスおよびセラミツクなど
の基質に対するより良好な固定が達成される。
始剤層として基物質に適用しそして光重合性層物質を具
備させることができる。この型の2層系の形態における
使用は、西独特許公開3,629,543号および西独特許公開
3,702,897号におけるように行うことができる。特に有
利なものは、極性の、場合によってはキレート−形成基
を有するおよびシリル基を有する共重合体である。それ
によって、金属、半導体、ガラスおよびセラミツクなど
の基質に対するより良好な固定が達成される。
式(II)のアミノ基−含有単量体成分を有する共重合
体例えば2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルメタクリ
レートを含有する共重合体は、しばしば有利なアミン促
進剤を含有しておりそして相当する在来の系よりより反
応性である。
体例えば2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルメタクリ
レートを含有する共重合体は、しばしば有利なアミン促
進剤を含有しておりそして相当する在来の系よりより反
応性である。
アミノ基と塩を形成することのできる染料を、製造中
に、この型のアミノ基−含有光開始剤である共重合体中
に混合することができる。適当な染料の例は、例えばベ
ンガルピンクのようなキサンテン染料である。驚くべき
ことには、それによって吸収極大はより長い波長の領域
にシフトする。これは、この方法で変性された光開始剤
である共重合体が例えば500〜600nmの間の長波長の放射
線を使用して活性化されることもできるということを意
味する。
に、この型のアミノ基−含有光開始剤である共重合体中
に混合することができる。適当な染料の例は、例えばベ
ンガルピンクのようなキサンテン染料である。驚くべき
ことには、それによって吸収極大はより長い波長の領域
にシフトする。これは、この方法で変性された光開始剤
である共重合体が例えば500〜600nmの間の長波長の放射
線を使用して活性化されることもできるということを意
味する。
一般に、本発明の共重合体は、それらの高分子特性の
ために、すぐれた移行抵抗性を有している。これは、こ
れらの共重合体が相当する放射線−硬化性系中にまたは
該硬化性系から外に移行しないことを意味し、これは多
くの適用に対して特に重要である。
ために、すぐれた移行抵抗性を有している。これは、こ
れらの共重合体が相当する放射線−硬化性系中にまたは
該硬化性系から外に移行しないことを意味し、これは多
くの適用に対して特に重要である。
重合される系は、遊離基によって開始することのでき
るモノ官能またはポリ官能エチレン系不飽和単量体、オ
リゴマー、初期重合体、重合体またはこれらのオリゴマ
ー、初期重合体および重合体と不飽和単量との混合物を
意味する。もし必要ならば、混合物は、例えば酸化防止
剤、光安定剤、染料、色素などのような他の添加剤そし
てまた他の既知の光開始剤および反応促進剤を含有する
こともできる。適当な不飽和化合物は、すべて、C=C
二重結合が例えばハロゲン原子、カルボニル、シアノ、
カルボキシル、エステル、アミド、エーテルまたはアリ
ール基によってまたは共役する他の二重結合または三重
結合によって活性化されたものである。このような化合
物の例は、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、メチル、エチル、n−または第3級ブチル、
シクロヘキシル、2−エチルヘキシル、ベンジル、フエ
ニルオキシエチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロ
ピル、低級アルコキシエチルまたはテトラヒドロフルフ
リルアクリレートまたはメタクリレート、ビニルアセテ
ート、プロピオネート、アクリレートまたはサクシネー
ト、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
スチレン、ジビニルベンゼン、置換スチレンおよびこの
型の不飽和化合物の混合物である。例えば、エチレンジ
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、プロポキシル化ビスフエノールAジアクリレートお
よびジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアク
リレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート
のようなポリ不飽和化合物も、また、本発明により使用
される光開始剤で重合することができる。適当な光重合
性化合物は、更に、不飽和のオリゴマー、初期重合体ま
たは重合体およびこれらと不飽和単量体との混合物であ
る。これらの例としては、例えば不飽和ポリエステル、
不飽和アクリル物質、エポキシ物質、ウレタン、シリコ
ーン、アミノポリアミド樹脂および特にアクリル化樹脂
例えばアクリル化シリコーン油、アクリル化ポリエステ
ル、アクリル化ウレタン、アクリル化ポリアミド、アク
リル化大豆油、アクリル化エポキシ樹脂およびアクリル
化アクリル樹脂があげられ、これらは、モノ、ジ又はポ
リアルコールのアクリレートの1種又はそれ以上と適宜
に混合された混合物であることができる。
るモノ官能またはポリ官能エチレン系不飽和単量体、オ
リゴマー、初期重合体、重合体またはこれらのオリゴマ
ー、初期重合体および重合体と不飽和単量との混合物を
意味する。もし必要ならば、混合物は、例えば酸化防止
剤、光安定剤、染料、色素などのような他の添加剤そし
てまた他の既知の光開始剤および反応促進剤を含有する
こともできる。適当な不飽和化合物は、すべて、C=C
二重結合が例えばハロゲン原子、カルボニル、シアノ、
カルボキシル、エステル、アミド、エーテルまたはアリ
ール基によってまたは共役する他の二重結合または三重
結合によって活性化されたものである。このような化合
物の例は、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、メチル、エチル、n−または第3級ブチル、
シクロヘキシル、2−エチルヘキシル、ベンジル、フエ
ニルオキシエチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロ
ピル、低級アルコキシエチルまたはテトラヒドロフルフ
リルアクリレートまたはメタクリレート、ビニルアセテ
ート、プロピオネート、アクリレートまたはサクシネー
ト、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
スチレン、ジビニルベンゼン、置換スチレンおよびこの
型の不飽和化合物の混合物である。例えば、エチレンジ
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、プロポキシル化ビスフエノールAジアクリレートお
よびジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアク
リレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート
のようなポリ不飽和化合物も、また、本発明により使用
される光開始剤で重合することができる。適当な光重合
性化合物は、更に、不飽和のオリゴマー、初期重合体ま
たは重合体およびこれらと不飽和単量体との混合物であ
る。これらの例としては、例えば不飽和ポリエステル、
不飽和アクリル物質、エポキシ物質、ウレタン、シリコ
ーン、アミノポリアミド樹脂および特にアクリル化樹脂
例えばアクリル化シリコーン油、アクリル化ポリエステ
ル、アクリル化ウレタン、アクリル化ポリアミド、アク
リル化大豆油、アクリル化エポキシ樹脂およびアクリル
化アクリル樹脂があげられ、これらは、モノ、ジ又はポ
リアルコールのアクリレートの1種又はそれ以上と適宜
に混合された混合物であることができる。
“エチレン系不飽和化合物の光重合”なる用語は、も
っとも広い概念において理解されなければならない。そ
れには、例えば、重合物質のそれ以上の重合または重合
物質間の架橋結合例えば初期重合体のそれ以上の重合、
簡単な単量体の単独重合、共重合および三元共重合そし
てまた前述した反応の型の組み合わせが包含される。
っとも広い概念において理解されなければならない。そ
れには、例えば、重合物質のそれ以上の重合または重合
物質間の架橋結合例えば初期重合体のそれ以上の重合、
簡単な単量体の単独重合、共重合および三元共重合そし
てまた前述した反応の型の組み合わせが包含される。
光重合は、本発明の共重合体を含有する光重合性系に
対する高エネルギー放射線好適にはUV光線の作用によっ
て開始することができる。
対する高エネルギー放射線好適にはUV光線の作用によっ
て開始することができる。
光重合は、250〜500nm好適には300〜400nmの範囲の波
長の光線またはUV放射線による照射によって、それ自体
既知の方法により行われる。使用できる放射線源は、日
光または人工−光線ランプである。例えば、水銀高圧、
中圧または低圧ランプおよびキセノンおよびタングステ
ンランプが好適である。
長の光線またはUV放射線による照射によって、それ自体
既知の方法により行われる。使用できる放射線源は、日
光または人工−光線ランプである。例えば、水銀高圧、
中圧または低圧ランプおよびキセノンおよびタングステ
ンランプが好適である。
本発明の共重合体を使用した光重合は、バツチ式で、
あるいは連続式で行うことができる。照射期間は、重合
を行う方法、使用される重合性物質のタイプおよび量、
使用される光開始剤の型および濃度および光源の強度に
依存するものでありそして例えば塗膜の放射線−硬化の
場合においては数秒〜数分の間そしてまた例えば塊状重
合におけるような大なるバツチの場合においては時間の
単位の領域で行うことができる。
あるいは連続式で行うことができる。照射期間は、重合
を行う方法、使用される重合性物質のタイプおよび量、
使用される光開始剤の型および濃度および光源の強度に
依存するものでありそして例えば塗膜の放射線−硬化の
場合においては数秒〜数分の間そしてまた例えば塊状重
合におけるような大なるバツチの場合においては時間の
単位の領域で行うことができる。
本発明の共重合体は、好適には、この目的に対して常
用されているすべての材料や担体上のペイント被膜のよ
うな薄層のUV硬化における光開始剤として使用される。
これらは、例えば主として、紙、木材、織物担体、プラ
スチツクおよび金属である。適用の重要な領域は、ま
た、印刷インキおよびスクリーン−印刷物質の乾燥また
は硬化であり、後者は好適には例えば缶、チユーブおよ
び金属密閉キヤツプの表面被覆または造形に使用され
る。本発明の共重合体を加えた系においては光重合が、
完了した場合にフリーの開始剤ラジカルまたは遊離の光
分解生成物の非常に実質的に完全に存在しないために、
本発明の共重合体は、相当する最終生成物の周囲の媒質
へのこのようなフリーラジカルの拡散を排除しなければ
ならない適用領域において、例えば光重合性コーテイン
グによって行うパツキングが食料品と接触するような場
合において特に適している。
用されているすべての材料や担体上のペイント被膜のよ
うな薄層のUV硬化における光開始剤として使用される。
これらは、例えば主として、紙、木材、織物担体、プラ
スチツクおよび金属である。適用の重要な領域は、ま
た、印刷インキおよびスクリーン−印刷物質の乾燥また
は硬化であり、後者は好適には例えば缶、チユーブおよ
び金属密閉キヤツプの表面被覆または造形に使用され
る。本発明の共重合体を加えた系においては光重合が、
完了した場合にフリーの開始剤ラジカルまたは遊離の光
分解生成物の非常に実質的に完全に存在しないために、
本発明の共重合体は、相当する最終生成物の周囲の媒質
へのこのようなフリーラジカルの拡散を排除しなければ
ならない適用領域において、例えば光重合性コーテイン
グによって行うパツキングが食料品と接触するような場
合において特に適している。
実施例 A. 共重合体の製造 一般的製造操作 適当なモル量の単量体出発物質を選択し、THF(150〜
300ml/100ミリモルまでのバツチ)に溶解しそしてアゾ
ビスイソブチロニトリル(150〜300mg/100ミリモルまで
のバツチ)を加える。混合物を12時間還流する。次に、
溶剤を除去し、残留物を酢酸エチルにとり、そして、溶
液を活性炭で処理し次に過する。n−ヘキサンを使用
した沈澱および酢酸エチル/n−ヘキサンからの再沈澱に
よって、光開始剤である共重合体を得る。
300ml/100ミリモルまでのバツチ)に溶解しそしてアゾ
ビスイソブチロニトリル(150〜300mg/100ミリモルまで
のバツチ)を加える。混合物を12時間還流する。次に、
溶剤を除去し、残留物を酢酸エチルにとり、そして、溶
液を活性炭で処理し次に過する。n−ヘキサンを使用
した沈澱および酢酸エチル/n−ヘキサンからの再沈澱に
よって、光開始剤である共重合体を得る。
使用した光開始剤の単量体 4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フエニル2−
ヒドロキシ−2−プロピルケトン (I g) 4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フエニル2
−ヒドロキシ−2−プロピルケトン (I h) 4−(2−アクリロイルオキシエチルチオ)フエニル2
−(N−モルホリノ)−2−プロピルケトン (I k) 2−[2−(アクリロイルオキシ)エチルチオ]チオキ
サントン (I l) 4−[2−(メタクリロイルオキシ)エトキシカルボニ
ル]チオキサントン (I p) B. 適用比較実験 試験される本発明の共重合体と比較のための相当する
在来の光開始剤または光開始剤混合物を、それぞれ、 ポリエステルアクリレート(Laromer EA 81、BASF)7
5重量部 ヘキサンジオールジアクリレート25重量部 TiO230重量部 からなるピグメント含有放射線−硬化性結合剤系の試料
中で撹拌する。
ヒドロキシ−2−プロピルケトン (I g) 4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フエニル2
−ヒドロキシ−2−プロピルケトン (I h) 4−(2−アクリロイルオキシエチルチオ)フエニル2
−(N−モルホリノ)−2−プロピルケトン (I k) 2−[2−(アクリロイルオキシ)エチルチオ]チオキ
サントン (I l) 4−[2−(メタクリロイルオキシ)エトキシカルボニ
ル]チオキサントン (I p) B. 適用比較実験 試験される本発明の共重合体と比較のための相当する
在来の光開始剤または光開始剤混合物を、それぞれ、 ポリエステルアクリレート(Laromer EA 81、BASF)7
5重量部 ヘキサンジオールジアクリレート25重量部 TiO230重量部 からなるピグメント含有放射線−硬化性結合剤系の試料
中で撹拌する。
これらの開始剤−含有系を、フイルム厚さ24μmでガ
ラス板(10×10cm)にそれぞれ適用する。
ラス板(10×10cm)にそれぞれ適用する。
このコーテイングガラスプレートを次に、Hg中間圧ラ
ンプ(ランプ出力2×80W/cm、ランプ距離10cm)下で可
視−速度のコンベヤーベルト上に通すことによって、UV
硬化を実施する。
ンプ(ランプ出力2×80W/cm、ランプ距離10cm)下で可
視−速度のコンベヤーベルト上に通すことによって、UV
硬化を実施する。
種々なベルト速度におけるそれぞれの硬化結果の測定
として、20時間の貯蔵後にケーニツヒ振子硬度(DIN 53
157)を測定する。
として、20時間の貯蔵後にケーニツヒ振子硬度(DIN 53
157)を測定する。
C. 適用例/光重合 本発明の共重合体即ちヒドロキシアルキルフエノンお
よびチオキサントン単位を含有する共重合体は、それぞ
れの基光開始剤の混合物と比較して実質的に、はるかに
優れた結果を与える。
よびチオキサントン単位を含有する共重合体は、それぞ
れの基光開始剤の混合物と比較して実質的に、はるかに
優れた結果を与える。
ジエチレングリコールジメチルエーテル中の実施例9
の共重合体の10%溶液を、グラスプレート(5×5cm)
上にスピン−塗布(30秒、4500rpm)する。塗布プレー
トを150℃で10分乾燥する。半分をカバーしたグラスプ
レートを、5cmの距離においてUVランプ(Type TQ 180、
Heraeus Original Hanau)を使用して照射する。照射
後、ガラス板をアセトンで処理して被膜の未露出部分を
溶解除去する。アセトン中の比較的長い貯蔵後において
さえも未変化のまま残留する高度に粘着性の硬化した0.
4μmの厚さの被膜が、露出した領域内において得られ
る。
の共重合体の10%溶液を、グラスプレート(5×5cm)
上にスピン−塗布(30秒、4500rpm)する。塗布プレー
トを150℃で10分乾燥する。半分をカバーしたグラスプ
レートを、5cmの距離においてUVランプ(Type TQ 180、
Heraeus Original Hanau)を使用して照射する。照射
後、ガラス板をアセトンで処理して被膜の未露出部分を
溶解除去する。アセトン中の比較的長い貯蔵後において
さえも未変化のまま残留する高度に粘着性の硬化した0.
4μmの厚さの被膜が、露出した領域内において得られ
る。
同様の結果が、実施例16の共重合体を使用して達成さ
れる。
れる。
同様の結果が、3:1:5のモル比の単量体(I g)、3−
(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレートおよび
メチルメタクリレートからなる共重合体を使用して達成
される。
(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレートおよび
メチルメタクリレートからなる共重合体を使用して達成
される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08F 220/38 C08F 220/38 226/00 226/00 228/00 228/00 230/02 230/02 C09D 4/00 C09D 4/00 11/02 11/02 G03F 7/031 G03F 7/031 (72)発明者 ヨルグ・オーンゲマツハ ドイツ連邦共和国D‐6100ダルムシユタ ツト、フランクフルテル、シユトラーセ 250 (72)発明者 ゲルハルト・グレーバー ドイツ連邦共和国D‐6100ダルムシユタ ツト、フランクフルテル、シユトラーセ 250 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 2/46 - 2/50 C09D 11/00 - 11/14 C09D 4/00 - 4/06 G03F 7/028 - 7/031
Claims (8)
- 【請求項1】少なくとも1種の式(I)で表される単量
体単位および少なくとも1種の式(II)で表される単量
体単位 [式中、RaおよびRbは、互に独立して、それぞれ、H、
Cl、CN、C1〜6−アルキルまたはフエニルであり、 Xは、CO−、COO−、O−CO−、(CH2)nY、COO(CH2)
nY、CO(OCH2CH2)nY(式中、n=1〜10でありそして
Yは、単一結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、
−OCO−、−NH−または−N(C1〜6−アルキル)−
である)であり、 mは0または1であり、 INは、光開始剤の基本構造 (式中、Rは、−CR3R4R5または であり、 R1およびR2は、H、ハロゲン、C1〜12−アルキルまた
はC1〜12−アルコキシであり、 R3およびR4は、互に独立して、それぞれ、H、C1〜12
−アルキル、C1〜12−アルケニル、C1〜12−アルコ
キシであるかまたは一緒になってC2〜6−アルキレン
であり、 R5は、−OH、C1〜6−アルコキシ、C1〜6−アルカ
ノイルオキシ、−N(C1〜6−アルキル)2、 または−OSO2R7であり、 R6は、C1〜6−アルキル、C1〜6−アルカノイル、
フエニルまたはベンゾイルであり、これらの基は、いず
れも場合により、ハロゲン、C1〜6−アルキルまたは
C1〜6−アルコキシによって置換されていてもよく、 R7は、C1〜6−アルキルまたはフエニルである) の1つであり、 Aは、前述の光開始剤の基本構造INの1つであるか、ま
たは、H、C1〜12−アルキル、C1〜12−アルケニ
ル、フエニル、スチリル、ハロゲン、NCO、NCS、N3、SO
3H、SO2Cl、CRc=CRdReまたは (式中、Rc、RdおよびReは、それぞれ、Hであるかまた
はClまたはCH3である)であるかまたはSiRfRgRh(式
中、Rf、RgおよびRhは、それぞれ、Cl、C1〜12−アル
キル、C1〜12−アルコキシまたはC1〜12−アルカノ
イルオキシである)である]のI/II重量比=1〜100に
おける共重合によって得ることのできる、500と1,000,0
00との間の分子量を有する共重合体。 - 【請求項2】エチレン系不飽和化合物またはこのような
化合物を含有する組成物の光重合のための光開始剤とし
ての請求項1記載の共重合体。 - 【請求項3】請求項1記載の少なくとも1種の共重合体
を重合される混合物に加えることを特徴とするエチレン
系不飽和化合物を含有する光重合し得る組成物の製造方
法。 - 【請求項4】0.1〜20重量%の請求項1記載の共重合体
を重合される混合物に加えることを特徴とする請求項3
記載の方法。 - 【請求項5】請求項1記載の少なくとも1種の共重合体
を含有することを特徴とする少なくとも1種のエチレン
系不飽和光重合性化合物および適当である場合は更に既
知の常用の添加剤を含有する光重合性組成物。 - 【請求項6】放射線−硬化性組成物における同時的光開
始およびフィルム−形成成分としての使用のための請求
項1記載の共重合体。 - 【請求項7】請求項1記載の共重合体の1種またはそれ
以上を本質的に含有する放射線−硬化性組成物。 - 【請求項8】基材上に放射線−硬化被覆を製造する方法
であって、その基材が光重合性組成物によって被覆さ
れ、そしてその硬化が250ないし600nmの間の波長のUV線
の照射によって行われ、請求項5または7記載の組成物
が使用されるものであることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3816304.7 | 1988-05-13 | ||
DE3816304A DE3816304A1 (de) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | Fotoinitiator-copolymere |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01319504A JPH01319504A (ja) | 1989-12-25 |
JP2769628B2 true JP2769628B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=6354278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1117654A Expired - Fee Related JP2769628B2 (ja) | 1988-05-13 | 1989-05-12 | 光開始剤としての共重合体 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0341560B1 (ja) |
JP (1) | JP2769628B2 (ja) |
KR (1) | KR0141602B1 (ja) |
AU (1) | AU627177B2 (ja) |
CA (1) | CA1336091C (ja) |
DD (1) | DD283825A5 (ja) |
DE (2) | DE3816304A1 (ja) |
FI (1) | FI892302A (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4302123A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern |
GB9522683D0 (en) | 1995-11-06 | 1996-01-10 | Coates Brothers Plc | Photoinitiator |
AU4743696A (en) * | 1995-12-29 | 1997-07-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Use of pendant photoreactive moieties on polymer precursors to prepare hydrophilic pressure sensitive adhesives |
JPH1017635A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 |
US6025408A (en) * | 1997-03-27 | 2000-02-15 | First Chemical Corporation | Liquid thioxanthone photoinitiators |
US6458864B1 (en) | 1998-05-29 | 2002-10-01 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Photoinitiators having chain transfer groups polymerized to obtain macrophotoinitiators useful to give block copolymers |
KR20070042503A (ko) * | 2004-04-21 | 2007-04-23 | 앳슈랜드 라이센싱 앤드 인텔렉츄얼 프라퍼티 엘엘씨 | 내장 광개시제를 갖는 복사-경화성 마이클 부가 수지 |
JP5441574B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物、インクセット、およびインクジェット画像形成方法 |
EP2617783A1 (en) | 2012-01-20 | 2013-07-24 | Cytec Surface Specialties, S.A. | Photo-reactive Binder |
EP2617705A1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-07-24 | Cytec Surface Specialties, S.A. | Amino Photo-Reactive Binder |
EP3024858B1 (en) | 2013-07-23 | 2017-10-18 | Allnex Belgium S.A. | Polymeric photoinitiators |
KR200488154Y1 (ko) | 2017-05-31 | 2018-12-21 | 이효리 | 애완동물 배변 봉투 수납 소지구 |
JP2021024933A (ja) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 三菱ケミカル株式会社 | 共重合体、硬化性重合体組成物、硬化物、積層体 |
CN114591241B (zh) * | 2022-03-14 | 2024-02-13 | 内蒙古扬帆新材料有限公司 | 一种含有吡唑啉和α-氨基酮的分子内敏化大分子光引发剂及其制备方法和应用 |
EP4310105A1 (en) * | 2022-07-20 | 2024-01-24 | Arkema France | Acrylic copolymers imparting low yellowing after photocuring |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
DE3738567A1 (de) * | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
-
1988
- 1988-05-13 DE DE3816304A patent/DE3816304A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-05-03 DE DE58907593T patent/DE58907593D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-03 EP EP89107971A patent/EP0341560B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-10 AU AU34724/89A patent/AU627177B2/en not_active Ceased
- 1989-05-11 CA CA000599373A patent/CA1336091C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-12 JP JP1117654A patent/JP2769628B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-12 DD DD89328569A patent/DD283825A5/de not_active IP Right Cessation
- 1989-05-12 FI FI892302A patent/FI892302A/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-05-13 KR KR1019890006412A patent/KR0141602B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3816304A1 (de) | 1989-11-23 |
CA1336091C (en) | 1995-06-27 |
JPH01319504A (ja) | 1989-12-25 |
AU3472489A (en) | 1989-11-16 |
EP0341560A2 (de) | 1989-11-15 |
FI892302A (fi) | 1989-11-14 |
EP0341560A3 (de) | 1991-01-16 |
FI892302A0 (fi) | 1989-05-12 |
AU627177B2 (en) | 1992-08-20 |
KR0141602B1 (ko) | 1998-07-01 |
EP0341560B1 (de) | 1994-05-04 |
DD283825A5 (de) | 1990-10-24 |
DE58907593D1 (de) | 1994-06-09 |
KR890017278A (ko) | 1989-12-15 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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R250 | Receipt of annual fees |
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