JP2766049B2 - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JP2766049B2 JP2766049B2 JP2165580A JP16558090A JP2766049B2 JP 2766049 B2 JP2766049 B2 JP 2766049B2 JP 2165580 A JP2165580 A JP 2165580A JP 16558090 A JP16558090 A JP 16558090A JP 2766049 B2 JP2766049 B2 JP 2766049B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- adhesive
- optical recording
- recording medium
- bonding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームにより、記録、再生が行える光デ
ィスク等の光記録媒体の製造方法に関する。
ィスク等の光記録媒体の製造方法に関する。
〔従来の技術〕 従来より、アクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂等の基板に対し、磁気光学効果やフォトクロミズ
ム、あるいはアモルファスと結晶間の相転移等を利用し
て光記録層を設けた２枚の記録媒体、または記録媒体と
保護基板とを記録層を包み込むような形で貼り合せた構
造の光記録媒体が提案されている。
シ樹脂等の基板に対し、磁気光学効果やフォトクロミズ
ム、あるいはアモルファスと結晶間の相転移等を利用し
て光記録層を設けた２枚の記録媒体、または記録媒体と
保護基板とを記録層を包み込むような形で貼り合せた構
造の光記録媒体が提案されている。
この記録媒体の接着には、米国特許明細書第4503531
号に記載されているようなホットメルト接着剤が使われ
ることが多い。
号に記載されているようなホットメルト接着剤が使われ
ることが多い。
このタイプの接着剤は、他の物に比べ接着作業が簡単
で、溶剤型接着剤のように記録媒体を侵すこともないた
め、光記録媒体の接着剤としては非常に優れている。し
かしながら、このホットメルト接着剤を使って光記録媒
体を接着した場合、媒体の面ブレ加速度が接着前の成膜
済基板に比べて悪化するという問題があった。
で、溶剤型接着剤のように記録媒体を侵すこともないた
め、光記録媒体の接着剤としては非常に優れている。し
かしながら、このホットメルト接着剤を使って光記録媒
体を接着した場合、媒体の面ブレ加速度が接着前の成膜
済基板に比べて悪化するという問題があった。
この面ブレ加速度の悪化は、光記録媒体を低速で動作
させた場合にはあまり問題とならないが、情報の処理速
度を上げる為に高速動作をさせようとすると、面ブレ加
速度が速度の２乗できいて来るので、光ヘッドのサーボ
が追従できなくなり、光記録媒体の記録、再生特性を悪
化させるという問題となる。
させた場合にはあまり問題とならないが、情報の処理速
度を上げる為に高速動作をさせようとすると、面ブレ加
速度が速度の２乗できいて来るので、光ヘッドのサーボ
が追従できなくなり、光記録媒体の記録、再生特性を悪
化させるという問題となる。
本発明は上記の点に鑑みなれたもので、ホットメルト
接着剤で接着しても光記録媒体の面ブレ加速度を悪化さ
せることなく、更に、作業性が良い為安価で録再特性に
すぐれた光記録媒体を提供することを目的とする。
接着剤で接着しても光記録媒体の面ブレ加速度を悪化さ
せることなく、更に、作業性が良い為安価で録再特性に
すぐれた光記録媒体を提供することを目的とする。
本発明の方法にかかる光記録媒体の製造方法の一実施
態様は、 ｉ）一対の基板を用意し、少なくとも一方の基板の表面
に光記録層を形成し、次いで該一対の基板の少なくとも
一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗布する工程；
及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が26℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面にスポンジを有するプレス板を備えたプレス機を用い
てプレスする工程、を有することを特徴とし、 また本発明にかかる光記録媒体の製造方法の他の実施
態様は、 2.i）一対の基板を用意し、少なくとも一方の基板の表
面に光記録層を形成し、次いで該一対の基板の少なくと
も一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗布する工
程；及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が28℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面に無塵紙を有するプレス板を備えたプレス機を用いて
プレスする工程、を有することを特徴とするものであ
り、これにより、得られる光記録媒体の面ブレ加速度を
向上させることが可能となる。又、前記冷却工程におけ
る冷却時間を、ホットメルト接着剤のオープンタイム以
内とすることにより、接着強度も向上させることができ
る。
態様は、 ｉ）一対の基板を用意し、少なくとも一方の基板の表面
に光記録層を形成し、次いで該一対の基板の少なくとも
一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗布する工程；
及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が26℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面にスポンジを有するプレス板を備えたプレス機を用い
てプレスする工程、を有することを特徴とし、 また本発明にかかる光記録媒体の製造方法の他の実施
態様は、 2.i）一対の基板を用意し、少なくとも一方の基板の表
面に光記録層を形成し、次いで該一対の基板の少なくと
も一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗布する工
程；及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が28℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面に無塵紙を有するプレス板を備えたプレス機を用いて
プレスする工程、を有することを特徴とするものであ
り、これにより、得られる光記録媒体の面ブレ加速度を
向上させることが可能となる。又、前記冷却工程におけ
る冷却時間を、ホットメルト接着剤のオープンタイム以
内とすることにより、接着強度も向上させることができ
る。
即ち、本発明者らは、従来、ホットメルト接着剤を高
温溶融して基板に塗布後直ちに貼合せ、ブレスしていた
ことに起因すると考えられる面ブレ加速度の劣化を抑止
し、かつ基板の接着強度を保持させるめ、鋭意研究の結
果、所定の冷却工程を設けることにより上記問題点が解
決できることを見出し、本発明に至ったのである。
温溶融して基板に塗布後直ちに貼合せ、ブレスしていた
ことに起因すると考えられる面ブレ加速度の劣化を抑止
し、かつ基板の接着強度を保持させるめ、鋭意研究の結
果、所定の冷却工程を設けることにより上記問題点が解
決できることを見出し、本発明に至ったのである。
この面振れ加速度の接着による悪化のはっきりした原
因はつかめていないが、ホットメルト接着剤を高温溶融
して基板に塗布する為に塗布直後の基板は塗布面側が急
激に熱膨張して反りが大きくなったり、部分的に歪が発
生したりしており、この状態で貼合せプレスすると基板
が歪んだまま固定されてしまうので、面ブレ加速度が悪
化するのではないかと推測される。
因はつかめていないが、ホットメルト接着剤を高温溶融
して基板に塗布する為に塗布直後の基板は塗布面側が急
激に熱膨張して反りが大きくなったり、部分的に歪が発
生したりしており、この状態で貼合せプレスすると基板
が歪んだまま固定されてしまうので、面ブレ加速度が悪
化するのではないかと推測される。
更に、プレスする時に使用する傷防止用の緩衝材に厚
く軟らかい物を使用すると基板の歪が補正されにくく、
これが面ブレ加速度の悪化の間接的原因の１つとなって
いると考えられる。
く軟らかい物を使用すると基板の歪が補正されにくく、
これが面ブレ加速度の悪化の間接的原因の１つとなって
いると考えられる。
本発明においては、ホットメルト接着剤を塗布後、貼
合せ前に、該接着剤の冷却工程をとるため、高温溶融状
態にある該接着剤が塗布されたことによる基板の温度上
昇、更に部分的歪の発生を抑止することができる。接着
剤は高温溶融状態では通常120〜160℃程度であり、又基
板としては1.0〜2.0mm厚のポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられ、その線膨
張係数は7.0×10-5〜8.0×10-5程度であるため、前記温
度にさらされると熱膨張を生ずる。従って、冷却工程に
おいては、上記熱膨張の影響が低減する程度に冷却すれ
ばよいが、好ましくはホットメルト接着剤塗布基板の温
度がもう一方の基板の温度と実質的に同等になるまで該
接着剤を冷却するとよい。
合せ前に、該接着剤の冷却工程をとるため、高温溶融状
態にある該接着剤が塗布されたことによる基板の温度上
昇、更に部分的歪の発生を抑止することができる。接着
剤は高温溶融状態では通常120〜160℃程度であり、又基
板としては1.0〜2.0mm厚のポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が用いられ、その線膨
張係数は7.0×10-5〜8.0×10-5程度であるため、前記温
度にさらされると熱膨張を生ずる。従って、冷却工程に
おいては、上記熱膨張の影響が低減する程度に冷却すれ
ばよいが、好ましくはホットメルト接着剤塗布基板の温
度がもう一方の基板の温度と実質的に同等になるまで該
接着剤を冷却するとよい。
冷却手段としては、室温放置（プレス板上に放置）の
他、塗布した接着剤の温度が基板上で均一に下がる手段
であれば低温放置や冷風のふきつけ等により、冷却工程
の時間短縮をはかり、貼合せ作業をタクトアップさせる
手法を採用しても良い。通常、冷却時間としては20〜12
0秒間程度でよい。
他、塗布した接着剤の温度が基板上で均一に下がる手段
であれば低温放置や冷風のふきつけ等により、冷却工程
の時間短縮をはかり、貼合せ作業をタクトアップさせる
手法を採用しても良い。通常、冷却時間としては20〜12
0秒間程度でよい。
一方、ホットメルト接着剤を塗布した基板の温度が充
分に低下するのに長時間を要しすぎたり、低温の状態に
長時間置かれれば、該接着剤の接着力が弱化し、貼合せ
後、剥離が生ずる場合がある。そこで、好ましくはホッ
トメルト接着剤のオープンタイム以内に、冷却工程を終
了するとよい。具体的には、オープンタイムの比較的長
いホットメルト接着剤を用いるか、又は、急速に冷却し
温度をオープンタイム以内に終了すればよい。好ましい
ホットメルト接着剤としては、オープンタイムが20秒以
上程度のものであり、コポリマーがSBS（スチレン・ブ
タジエン・スチレンブロックコポリマー）,SIS（スチレ
ン・イソプレン・スチレンブロックコポリマー）,SEBS
（スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロックコ
ポリマー）等によりなるもの、具体的には、メルトロン
3S42（ダイヤボンド工業（株））、9145L（セキスイエ
スダイン（株））、PS-15（エイ・シー・アイジャパン
リミテッド）等を挙げることができるが、これに限ら
ず、冷却工程を入れても充分接着強度が得られるもので
あればいずれも使用できる。又、塗布する厚みとして
は、通常15〜60μｍ厚程度でよい。
分に低下するのに長時間を要しすぎたり、低温の状態に
長時間置かれれば、該接着剤の接着力が弱化し、貼合せ
後、剥離が生ずる場合がある。そこで、好ましくはホッ
トメルト接着剤のオープンタイム以内に、冷却工程を終
了するとよい。具体的には、オープンタイムの比較的長
いホットメルト接着剤を用いるか、又は、急速に冷却し
温度をオープンタイム以内に終了すればよい。好ましい
ホットメルト接着剤としては、オープンタイムが20秒以
上程度のものであり、コポリマーがSBS（スチレン・ブ
タジエン・スチレンブロックコポリマー）,SIS（スチレ
ン・イソプレン・スチレンブロックコポリマー）,SEBS
（スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロックコ
ポリマー）等によりなるもの、具体的には、メルトロン
3S42（ダイヤボンド工業（株））、9145L（セキスイエ
スダイン（株））、PS-15（エイ・シー・アイジャパン
リミテッド）等を挙げることができるが、これに限ら
ず、冷却工程を入れても充分接着強度が得られるもので
あればいずれも使用できる。又、塗布する厚みとして
は、通常15〜60μｍ厚程度でよい。
上記冷却工程を充分にとれば、それ以降は従来技術に
従って貼合せを行うのみで、面ブレ加速度を向上させる
ことができるが、冷却工程の後、貼合せ、プレスを適切
に行うことにより、優れた効果を得ることが可能であ
る。即ち、プレスに用いる傷防止用緩衝材として、実質
的に弾力性のない材質から成るものを用いるのである。
これは貼合せ後の基板に例え歪が生じていたとしても、
プレスによりこれを是正することが可能となるため、及
び、プレス板にセットして接着剤を塗布後基板温度を急
速に定常化し、接着剤のオープンタイム以内にプレスを
行うことが可能となるためである。具体的には、厚さ30
〜200μｍ程度の無塵紙、各種合成紙あるいはマイラー
等のプラスチックフィルム等を好ましく用いることがで
きる。又、プレス圧としては100〜1000（kg/全面）程度
である。
従って貼合せを行うのみで、面ブレ加速度を向上させる
ことができるが、冷却工程の後、貼合せ、プレスを適切
に行うことにより、優れた効果を得ることが可能であ
る。即ち、プレスに用いる傷防止用緩衝材として、実質
的に弾力性のない材質から成るものを用いるのである。
これは貼合せ後の基板に例え歪が生じていたとしても、
プレスによりこれを是正することが可能となるため、及
び、プレス板にセットして接着剤を塗布後基板温度を急
速に定常化し、接着剤のオープンタイム以内にプレスを
行うことが可能となるためである。具体的には、厚さ30
〜200μｍ程度の無塵紙、各種合成紙あるいはマイラー
等のプラスチックフィルム等を好ましく用いることがで
きる。又、プレス圧としては100〜1000（kg/全面）程度
である。
尚、本発明を実施することができる基板としては、少
なくとも一方の基板に光記録層を有する一対の基板の貼
合せ構造を有するものであり、両基板に光記録層が設け
られている基板に対しても行うことができる。光記録層
等は公知技術により構成することができ、本発明の方法
により、各種光ディスク、光カード等を作製することが
できる。
なくとも一方の基板に光記録層を有する一対の基板の貼
合せ構造を有するものであり、両基板に光記録層が設け
られている基板に対しても行うことができる。光記録層
等は公知技術により構成することができ、本発明の方法
により、各種光ディスク、光カード等を作製することが
できる。
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明
する。
する。
実施例１ 第１図に示す貼り合せ構造の光磁気記録媒体を次のよ
うにして作製した。
うにして作製した。
外周130mmφ、内周15mmφのドーナツ状ポリカーボネ
ート基板１上に、スパッタリングによりSi3N4層（下引
層）２、GdTbFe層（記録層）３、Si3N4層（保護層）４
を積層した構造体と同形状の保護基板５を準備し、以下
に示す方法にて接着剤層６で貼合せた。
ート基板１上に、スパッタリングによりSi3N4層（下引
層）２、GdTbFe層（記録層）３、Si3N4層（保護層）４
を積層した構造体と同形状の保護基板５を準備し、以下
に示す方法にて接着剤層６で貼合せた。
貼合せの方法は、上記２枚の基板に140℃で溶融した
ホットメルト接着剤（3S42、オープンタイム60秒）をロ
ールコーターにて30μｍの厚さに塗布し、キズ防止の為
の緩衝材として1mm厚のシート状スポンジを使用したプ
レス機を使い、500kg/全面で10sec間プレスして貼合せ
た（第２図）。この時、プレス板上で接着剤を塗布して
からプレスを開始するまでの時間をそれぞれ10秒、40
秒、70秒、100秒、130秒取って（室温放置）貼合せ、各
サンプルの面ブレ加速度を測定し比較した結果を第３図
に示す。尚、塗布後の当該基板の温度の変化は第４図に
示す。第３図からわかるように、接着剤を塗布して10秒
後にプレスした物は、面ブレ加速度が極端に悪く、40秒
以上たってからプレスした物は面ブレ加速度が向上して
おり、ある範囲におちついていた。尚、面ブレ加速度は
（株）小野測器の光ディスク機械特性測定装置で測定し
たものである。尚測定条件は、グラフ内に記載した。
ホットメルト接着剤（3S42、オープンタイム60秒）をロ
ールコーターにて30μｍの厚さに塗布し、キズ防止の為
の緩衝材として1mm厚のシート状スポンジを使用したプ
レス機を使い、500kg/全面で10sec間プレスして貼合せ
た（第２図）。この時、プレス板上で接着剤を塗布して
からプレスを開始するまでの時間をそれぞれ10秒、40
秒、70秒、100秒、130秒取って（室温放置）貼合せ、各
サンプルの面ブレ加速度を測定し比較した結果を第３図
に示す。尚、塗布後の当該基板の温度の変化は第４図に
示す。第３図からわかるように、接着剤を塗布して10秒
後にプレスした物は、面ブレ加速度が極端に悪く、40秒
以上たってからプレスした物は面ブレ加速度が向上して
おり、ある範囲におちついていた。尚、面ブレ加速度は
（株）小野測器の光ディスク機械特性測定装置で測定し
たものである。尚測定条件は、グラフ内に記載した。
実施例２ 実施例１と同様にサンプルを作り、プレスの緩衝材を
スポンジから無塵紙（厚さ70μｍ）に変えてテストし
た。この場合には、第４図からわかる様に接着剤を塗布
後（即ち、プレス板にセット後）基板の表面温度が実施
例１で用いたスポンジ使用時よりも短時間で下がった
為、塗布〜プレスまでの時間による差は結果に表われな
かったが、スポンジ使用時よりも面ブレ加速度がさらに
向上していた（第３図参照）。
スポンジから無塵紙（厚さ70μｍ）に変えてテストし
た。この場合には、第４図からわかる様に接着剤を塗布
後（即ち、プレス板にセット後）基板の表面温度が実施
例１で用いたスポンジ使用時よりも短時間で下がった
為、塗布〜プレスまでの時間による差は結果に表われな
かったが、スポンジ使用時よりも面ブレ加速度がさらに
向上していた（第３図参照）。
実施例３ 実施例１と同様の基板を準備し、塗布〜プレスまでの
時間を40sec取って貼合せを行った。使用した接着剤
は、オープンタイムが10secの物（3S49）と60secの物
（3S42）の２種である。貼合せ後、５℃の室内で落下テ
スト（高さ76cm、自由落下）を行い、接着層の剥離を調
べた。結果を表１に示す。
時間を40sec取って貼合せを行った。使用した接着剤
は、オープンタイムが10secの物（3S49）と60secの物
（3S42）の２種である。貼合せ後、５℃の室内で落下テ
スト（高さ76cm、自由落下）を行い、接着層の剥離を調
べた。結果を表１に示す。
上記サンプルの面ブレ加速度の値はほぼ同等であった
が、オープンタイムの長い接着剤で貼合せたサンプルは
接着強度に優れていた。
が、オープンタイムの長い接着剤で貼合せたサンプルは
接着強度に優れていた。
本発明の光記録媒体は、従来の製造工程に接着剤の冷
却工程を入れる、緩衝材にはフィルム状の薄い物を使う
等の簡単な工程改良を行うだけで容易に製造することが
でき、ディスクの面ブレ加速度を向上させることが可能
となる。更に、ホットメルト接着剤のオープンタイムを
冷却工程時間よりも長いものを用いることにより、接着
強度を向上させることができる。よって安価で且つ性能
の向上した光記録媒体を提供することができる。
却工程を入れる、緩衝材にはフィルム状の薄い物を使う
等の簡単な工程改良を行うだけで容易に製造することが
でき、ディスクの面ブレ加速度を向上させることが可能
となる。更に、ホットメルト接着剤のオープンタイムを
冷却工程時間よりも長いものを用いることにより、接着
強度を向上させることができる。よって安価で且つ性能
の向上した光記録媒体を提供することができる。
第１図は、本発明の実施例で作製した光記録媒体の構造
を示す模式図、第２図は、同じく光記録媒体の貼合せプ
レス工程の模式図、第３図は、同じく、接着剤塗布から
プレスまでの時間と面ブレ加速度との関係を示す図、第
４図は、同じく接着剤塗布後の基板表面温度の変化を示
した図である。 １……基板、２……下引層 ３……記録層、４……保護層 ５……保護基板、６……接着剤層 ７……プレス板（上）、８……プレス板（下） ９……緩衝材、10……緩衝材 11……位置出しピン、12……光ディスク
を示す模式図、第２図は、同じく光記録媒体の貼合せプ
レス工程の模式図、第３図は、同じく、接着剤塗布から
プレスまでの時間と面ブレ加速度との関係を示す図、第
４図は、同じく接着剤塗布後の基板表面温度の変化を示
した図である。 １……基板、２……下引層 ３……記録層、４……保護層 ５……保護基板、６……接着剤層 ７……プレス板（上）、８……プレス板（下） ９……緩衝材、10……緩衝材 11……位置出しピン、12……光ディスク
Claims (4)
- 【請求項１】ｉ）一対の基板を用意し、少なくとも一方
の基板の表面に光記録層を形成し、次いで該一対の基板
の少なくとも一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗
布する工程；及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が26℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面にスポンジを有するプレス板を備えたプレス機を用い
てプレスする工程、を有することを特徴とする光記録媒
体の製造方法。 - 【請求項２】該冷却工程を該接着剤のオープンタイム以
内に行なう請求項１記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】ｉ）一対の基板を用意し、少なくとも一方
の基板の表面に光記録層を形成し、次いで該一対の基板
の少なくとも一方の貼合せ面にホットメルト接着剤を塗
布する工程；及び ii）該基板表面に形成した該接着剤の表面温度が28℃以
下になるまで冷却した後、該接着剤を塗布した基板と他
の基板とを貼合せ、次いで緩衝材として該基板との接触
面に無塵紙を有するプレス板を備えたプレス機を用いて
プレスする工程、を有することを特徴とする光記録媒体
の製造方法。 - 【請求項４】該冷却工程を該接着剤のオープンタイム以
内に行なう請求項３記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2165580A JP2766049B2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2165580A JP2766049B2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0460936A JPH0460936A (ja) | 1992-02-26 |
| JP2766049B2 true JP2766049B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=15815057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2165580A Expired - Fee Related JP2766049B2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2766049B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6103039A (en) * | 1997-11-12 | 2000-08-15 | First Light Technology, Inc. | System and method for thermally manipulating a combination of a top and bottom substrate before a curing operation |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62257895A (ja) * | 1986-05-02 | 1987-11-10 | Canon Inc | 光記録媒体の製造方法 |
| JP2529353B2 (ja) * | 1988-06-01 | 1996-08-28 | 日立マクセル株式会社 | 光デイスクの製造装置 |
-
1990
- 1990-06-26 JP JP2165580A patent/JP2766049B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460936A (ja) | 1992-02-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2680591B2 (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPS586536A (ja) | 光学式デイスク | |
| EP0235812B1 (en) | Optical disk | |
| JP2766049B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH0432045A (ja) | 光ディスクの貼合せ方法 | |
| JPS61267947A (ja) | 光デイスク | |
| JPH0836786A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPS6168744A (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
| JP3000656B2 (ja) | 情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2895164B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH01224942A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH11213467A (ja) | 貼り合わせ型光学式情報記録媒体の製造方法及び両面粘着性シート | |
| JPH0432041A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPS5814342A (ja) | 光記憶素子の製造方法 | |
| JP2519993B2 (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
| JPH0241804B2 (ja) | ||
| JPS62257895A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPS63124244A (ja) | 光デイスコ | |
| JPS60197957A (ja) | 光デイスクメモリ | |
| JPS58203095A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0766569B2 (ja) | 平板状情報記録担体およびその作製方法 | |
| JPS63142521A (ja) | 磁気デイスク基板 | |
| JPH10124934A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH04259930A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH0194550A (ja) | 情報記録媒体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |