JP2765964B2 - 高透磁率フェライト磁心の製造方法 - Google Patents
高透磁率フェライト磁心の製造方法Info
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- JP2765964B2 JP2765964B2 JP1176930A JP17693089A JP2765964B2 JP 2765964 B2 JP2765964 B2 JP 2765964B2 JP 1176930 A JP1176930 A JP 1176930A JP 17693089 A JP17693089 A JP 17693089A JP 2765964 B2 JP2765964 B2 JP 2765964B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、高透磁率を有するフェライト磁心の製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
（従来の技術） 高透磁率を有するフェライト磁心としては、Mn−Zn系
フェライト磁心が主に使用されている。このMn−Zn系フ
ェライト磁心の製造方法は、主成分となるFe2O3,ZnO,Mn
Oを所定の組成比で混合し、更にBi,Ca等の添加物を所定
量添加した原料を、仮焼、粉砕、造粒、成形、焼成、す
る各工程からなっている。また、焼成後、磁心に直接巻
線を施すため、又コーティングをし易くするために、磁
心のバリ取りを行っていた。
フェライト磁心が主に使用されている。このMn−Zn系フ
ェライト磁心の製造方法は、主成分となるFe2O3,ZnO,Mn
Oを所定の組成比で混合し、更にBi,Ca等の添加物を所定
量添加した原料を、仮焼、粉砕、造粒、成形、焼成、す
る各工程からなっている。また、焼成後、磁心に直接巻
線を施すため、又コーティングをし易くするために、磁
心のバリ取りを行っていた。
（発明が解決しようとする問題点） このような高透磁率フェライト磁心は、例えばノイズ
フィルタ等に使用されるが、このノイズフィルタ等の小
型化、高性能化のため、更に高い透磁率を有するフェラ
イト磁心が要求されている。この高透磁率フェライト磁
心を得るために種々の検討をしていたところ、焼成後所
望の透磁率を有していた磁心が、バリ取り処理により、
透磁率が10〜50％も劣化していることがわかった。
フィルタ等に使用されるが、このノイズフィルタ等の小
型化、高性能化のため、更に高い透磁率を有するフェラ
イト磁心が要求されている。この高透磁率フェライト磁
心を得るために種々の検討をしていたところ、焼成後所
望の透磁率を有していた磁心が、バリ取り処理により、
透磁率が10〜50％も劣化していることがわかった。
本発明は、上記の事を鑑みて、バリ取り処理により劣
化した透磁率をバリ取り前の透磁率に回復させる手段を
提供することを目的とするものである。
化した透磁率をバリ取り前の透磁率に回復させる手段を
提供することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、Mn−Zn系高透磁率フェライト磁心の製造方
法において、焼成後磁心のバリ取りを行った後、酸によ
る表面処理を行うものである。
法において、焼成後磁心のバリ取りを行った後、酸によ
る表面処理を行うものである。
（実施例） 実施例１ Fe2O352.5モル％、MnO25.5モル％、ZnO22.0モル％を
主成分とし、これにCaO 0.02重量％、SiO2 0.01重量％
含有する原料を用い、これを850℃で２時間仮焼し、そ
の後ボールミルで８時間粉砕し、有機バインダーを加え
て造粒したフェライト粉末をリング状に圧縮成形し、13
80℃５時間窒素雰囲気中で焼成し、リング状磁心を得
た。この磁心をバリ取りのため30分間バレル研摩した。
そして、その磁心を塩酸中（濃度35％、液温60℃）に５
分間つけ、表面処理した。このときのバレル研摩の前後
及び表面処理後の中心の透磁率を第１表に示す。また、
バレル前の値を初期値とした。
主成分とし、これにCaO 0.02重量％、SiO2 0.01重量％
含有する原料を用い、これを850℃で２時間仮焼し、そ
の後ボールミルで８時間粉砕し、有機バインダーを加え
て造粒したフェライト粉末をリング状に圧縮成形し、13
80℃５時間窒素雰囲気中で焼成し、リング状磁心を得
た。この磁心をバリ取りのため30分間バレル研摩した。
そして、その磁心を塩酸中（濃度35％、液温60℃）に５
分間つけ、表面処理した。このときのバレル研摩の前後
及び表面処理後の中心の透磁率を第１表に示す。また、
バレル前の値を初期値とした。
この実施例に示したように、バレル研摩により、約35
％初透磁率が劣化していたものを表面処理により完全に
回復させることができた。
％初透磁率が劣化していたものを表面処理により完全に
回復させることができた。
実施例２ 実施例１と同様の工程であって、初透磁率のバリ取り
処理後の変化率の異なる磁心の表面処理時間と回復の様
子を第１図に示す。また、そのデータを第２表に示す。
処理後の変化率の異なる磁心の表面処理時間と回復の様
子を第１図に示す。また、そのデータを第２表に示す。
この第１図及び第２表から明らかに、バリ取り処理に
よる初透磁率の変化率が異なっても、表面処理時間を変
えることにより、初期値へ回復することがわかる。
よる初透磁率の変化率が異なっても、表面処理時間を変
えることにより、初期値へ回復することがわかる。
実施例３ 実施例１と同様の工程であって、表面処理に用いる塩
酸（濃度35％）の液温を変えたときの回復の様子を第２
図に示す。この第２図に示したように、表面処理する塩
酸の液温が高い方が早く回復することがわかる。
酸（濃度35％）の液温を変えたときの回復の様子を第２
図に示す。この第２図に示したように、表面処理する塩
酸の液温が高い方が早く回復することがわかる。
実施例４ 実施例１と同様の工程であって、表面処理に用いる塩
酸の濃度を変え、液温60℃処理時間１分のときの回復の
様子を第３図に示す。この第３図に示したように、塩酸
の濃度が35％であれば１分の処理でほぼ回復するが、濃
度11.5％ではわずか（バリ取り処理後−24％⇒処理後−
20％）回復するだけである。しかし、濃度が低くても処
理時間を長くすることにより、ほぼ100％回復する。
酸の濃度を変え、液温60℃処理時間１分のときの回復の
様子を第３図に示す。この第３図に示したように、塩酸
の濃度が35％であれば１分の処理でほぼ回復するが、濃
度11.5％ではわずか（バリ取り処理後−24％⇒処理後−
20％）回復するだけである。しかし、濃度が低くても処
理時間を長くすることにより、ほぼ100％回復する。
実施例５ 実施例１とほぼ同様の組成のMn−Znフェライトを焼成
後、30分間バリ取り処理としてバレル研摩し、その後濃
度35％、液温60℃の塩酸中で１分間表面処理した磁心
を、信頼性テストした。温度60℃、相対湿度95％中に18
0時間放置した結果、初透磁率の変化はほぼ見られなか
った。
後、30分間バリ取り処理としてバレル研摩し、その後濃
度35％、液温60℃の塩酸中で１分間表面処理した磁心
を、信頼性テストした。温度60℃、相対湿度95％中に18
0時間放置した結果、初透磁率の変化はほぼ見られなか
った。
また、上記実施例では、表面処理に用いる酸として塩
酸を用いたが、塩酸以外の酸を用いても良い。
酸を用いたが、塩酸以外の酸を用いても良い。
本発明によれば、液温にも左右されるが、塩酸の濃度
が35％で約１分、濃度10％で約５分、濃度５％で約10分
の処理時間により、バリ取りによる透磁率の劣化をほぼ
100％回復させることができた。また、この回復に要す
る時間よりも、更に長い時間表面を処理すると、表面か
らの結晶の脱落が激しく、直接巻線することが困難とな
り、かつコーティングすることも困難となる。従って、
回復に要する時間より必要以上長く表面処理することは
好ましくない。
が35％で約１分、濃度10％で約５分、濃度５％で約10分
の処理時間により、バリ取りによる透磁率の劣化をほぼ
100％回復させることができた。また、この回復に要す
る時間よりも、更に長い時間表面を処理すると、表面か
らの結晶の脱落が激しく、直接巻線することが困難とな
り、かつコーティングすることも困難となる。従って、
回復に要する時間より必要以上長く表面処理することは
好ましくない。
（発明の効果） 本発明は、高透磁率を有するフェライト磁心をバリ取
りしたときの磁心の透磁率の劣化を、酸を用いた表面処
理により、透磁率を回復させるものであり、特に高透磁
率（μｉ≧10000）のフェライト磁心を得るために有効
な技術である。
りしたときの磁心の透磁率の劣化を、酸を用いた表面処
理により、透磁率を回復させるものであり、特に高透磁
率（μｉ≧10000）のフェライト磁心を得るために有効
な技術である。
第１図は、本発明に係り、初透磁率のバリ取り処理後の
変化率の異なる磁心の表面処理時間と初透磁率の回復の
様子を示すグラフであり、第２図は、本発明に係り、塩
酸の液温を変えたときの初透磁率の回復の様子を示すグ
ラフであり、第３図は、本発明に係り、塩酸の濃度を変
えたときの初透磁率の回復の様子を示すグラフである。
変化率の異なる磁心の表面処理時間と初透磁率の回復の
様子を示すグラフであり、第２図は、本発明に係り、塩
酸の液温を変えたときの初透磁率の回復の様子を示すグ
ラフであり、第３図は、本発明に係り、塩酸の濃度を変
えたときの初透磁率の回復の様子を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−88597（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01F 41/02,1/34 C04B 35/26,41/91
Claims (1)
- 【請求項１】Mn−Zn系高透磁率フェライト磁心の製造方
法において、焼成後磁心のバリ取りを行った後、酸によ
る表面処理を行うことを特徴とする高透磁率フェライト
磁心の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176930A JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1176930A JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341709A JPH0341709A (ja) | 1991-02-22 |
| JP2765964B2 true JP2765964B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=16022233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1176930A Expired - Fee Related JP2765964B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 高透磁率フェライト磁心の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2765964B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103617883A (zh) * | 2013-11-07 | 2014-03-05 | 长兴柏成电子有限公司 | 一种磁芯表面酸处理工艺 |
| CN110480422A (zh) * | 2019-08-08 | 2019-11-22 | 浙江通达磁业有限公司 | 高频磁芯毛坯的表面处理工艺 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1176930A patent/JP2765964B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103617883A (zh) * | 2013-11-07 | 2014-03-05 | 长兴柏成电子有限公司 | 一种磁芯表面酸处理工艺 |
| CN110480422A (zh) * | 2019-08-08 | 2019-11-22 | 浙江通达磁业有限公司 | 高频磁芯毛坯的表面处理工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0341709A (ja) | 1991-02-22 |
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|---|---|---|---|
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