JP2759969B2 - 内部降圧回路 - Google Patents

内部降圧回路

Info

Publication number
JP2759969B2
JP2759969B2 JP63191547A JP19154788A JP2759969B2 JP 2759969 B2 JP2759969 B2 JP 2759969B2 JP 63191547 A JP63191547 A JP 63191547A JP 19154788 A JP19154788 A JP 19154788A JP 2759969 B2 JP2759969 B2 JP 2759969B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
mos transistor
channel mos
power supply
internal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63191547A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0240195A (ja
Inventor
文雄 宮司
幸夫 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP63191547A priority Critical patent/JP2759969B2/ja
Priority to US07/359,153 priority patent/US5046052A/en
Priority to EP89305540A priority patent/EP0345065B1/en
Priority to DE68917792T priority patent/DE68917792T2/de
Publication of JPH0240195A publication Critical patent/JPH0240195A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2759969B2 publication Critical patent/JP2759969B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えばスタティックメモリを低電圧で動
作させる場合に用いる降圧電圧を形成する内部降圧回路
に関する。
〔発明の概要〕
この発明は、基準電圧発生回路と内部電圧制御回路と
により電源電圧を降圧した電圧を形成し、スタティック
メモリに供給するようにした内部降圧回路において、ス
タティックメモリが保持状態のときには、基準電圧発生
回路と内部電圧制御回路とをオフ状態に設定するととも
に、基準電圧発生回路と内部電圧制御回路とからなる回
路よりもその消費電力が小さい降圧手段を用いてデータ
保持電圧を得るようにすることにより、例えばスタティ
ックメモリを低電圧で動作させる場合に、消費電力の低
減を図ることができるようにしたものである。
〔従来の技術〕
スタティックRAMの設計ルールは、メモリ容量の大容
量化に伴って微細化され、近年では例えば0.5μmの設
計ルールでメモリパターンを構成していくことが進めら
れている。このような微細化された設計ルールでスタテ
ィックRAMを構成していくと、ゲート酸化膜が薄くなる
ことから、十分な耐圧を得ることが難しくなってくる。
そこで、電源電圧を低く設定し、信頼性の向上を図るこ
とが考えられる。
ところで、外部の電源電圧は、通常5Vに設定されてい
て、種々のデバイスは、5Vの電源電圧で動作するように
設計されている。したがって、このように低い電圧でス
タティックRAMを動作させるようにするためには、その
内部に電源電圧を降圧した電圧を発生させる内部降圧回
路が必要になる。
このような内部降圧回路は、第4図に示すように構成
できる。
すなわち、第4図において、51は基準電圧発生回路、
52は内部電圧制御回路である。電源ライン55と接地ライ
ン57との間に、基準電圧発生回路51と内部電圧制御回路
52とが設けられる。電源ライン55から電源端子53が導出
される。接地ライン55から、接地端子58が導出される。
電源端子53に電源電圧VDD(5V)が供給され、この電源
電圧VDDが基準電圧発生回路51に供給される。基準電圧
発生回路51で、この電源端子53に供給される電源電圧V
DDから基準電圧Vrefが形成される。この基準電圧Vref
内部電圧制御回路52に供給される。内部電圧制御回路52
でこの基準電圧Vrefを基に電源電圧VDDが制御され、内
部降圧電圧VINT(例えば3V〜4V)が形成される。この内
部降圧電圧VINTが内部電源ライン56を介して出力端子54
から出力される。この内部降圧電圧VINTにより、スタテ
ィックRAMが駆動される。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述のように、基準電圧発生回路51と内部電圧制御回
路52とを設け、基準電圧発生回路51からの基準電圧Vref
により内部電圧制御回路52を制御して内部降圧電圧VINT
を形成するようにした場合、基準電圧発生回路51及び内
部制御回路52が常に動作状態になる。このため、消費電
力が大きくなるという問題が生じる。消費電力の節約の
ために、内部電圧制御回路52の負荷を状態に応じて変化
させることが考えられるが、このようにした場合にも、
基本的に基準電圧発生回路51と内部電圧制御回路52が常
に動作状態であるため、消費電力の低減には限界があ
る。
したがって、この発明の目的は、消費電力の低減を図
れる内部降圧回路を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は、基準電圧発生回路1と内部電圧制御回路
2とにより電源電圧VDDを降圧した内部降圧電圧VINT
形成し、スタティックメモリに供給するようにした内部
降圧回路において、スタティックメモリが保持状態のと
きには、基準電圧発生回路1と内部電圧制御回路2とを
オフ状態に設定するとともに、基準電圧発生回路1と内
部電圧制御回路2とからなる回路よりもその消費電力が
小さい降圧手段M41を用いてデータ保持電圧を得るよう
にしたことを特徴とする内部降圧回路である。
〔作用〕
基準電圧発生回路1と内部電圧制御回路2により、電
源電圧VDD(例えば5V)を降圧した内部降圧電圧V
INT(例えば3〜4V)が得られる。スタティックRAMが動
作状態にある時には、このようにして形成された内部降
圧電圧VINTがスタティックRAMに供給される。スタティ
ックRAMがスタンバイ状態の時には、基準電圧発生回路
1及び内部電圧制御回路2の動作が停止され、MOSトラ
ンジスタM41によりデータ保持電圧が維持される。この
ように、スタンバイ状態では基準電圧発生回路1及び内
部電圧制御回路2の動作を停止させることにより、消費
電力の低減がはかれる。
〔実施例〕
この発明の実施例について以下の順序に従って説明す
る。
a.基本構成 b.具体構成 b1.基準電圧発生回路 b2.内部電圧制御回路 b3.降圧回路及び電源検出回路 a.基本構成 この発明は、スタンバイRAMを電源電圧VDD(例えば5
V)より低い降圧電圧VINT(例えば3〜4V)で動作させ
る場合の内部降圧回路に用いられる。
第1図は、この発明の基本構成を示すものである。第
1図において、1は基準電圧発生回路、2は内部電圧制
御回路である。電源ライン11と接地ライン13との間に、
基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2が設けられ
る。基準電圧制御回路1及び内部電圧制御回路2の動作
は、それぞれMOSトランジスタM19及びMOSトランジスタM
26により制御される。電源ライン11から電源端子3が導
出される。接地ライン13から接地端子5が導出される。
この基準電圧発生回路1と内部電圧制御回路2によ
り、電源電圧VDDを降圧した内部降圧電圧VINTが得られ
る。この内部電圧制御回路2で形成された内部降圧電圧
VINTがMOSトランジスタM31及びM32からなるトランスミ
ッションゲートを介され、内部電源ライン12を通じて出
力端子4から出力される。
この発明の一実施例では、スタティックRAMが動作状
態にある時のみ基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回
路2を動作させ、スタティックRAMがスタンバイ状態の
時には、基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2の
動作を停止させるようにしている。これにより、消費電
の低減がはかれる。スタティックRAMが動作状態にある
かスタンバイ状態にあるかは、例えば、チップイネーブ
ル信号CEから検出される。
すなわち、端子7はチップイネーブル信号CEの入力端
子である。例えば、チップイネーブル信号CEが「H」の
時にはスタティックRAMは動作状態になり、チップイネ
ーブル信号CEが「L」の時にはスタティックRAMはスタ
ンバイ状態になる。
このチップイネーブル信号CEがMOSトランジスタM19、
M26、及び、MOSトランジスタM31、M32からなるトランス
ミッションゲートに供給される。
スタティックRAMが動作状態となるチップイネーブル
信号CEが例えば「H」の時には、MOSトランジスタM19、
M26、及び、MOSトランジスタM31、M32からなるトランス
ミッションゲートはオンする。このため、基準電圧発生
回路1及び内部電圧制御回路2が動作状態となる。基準
電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2が動作状態の時
には、基準電圧発生回路1で電源電圧VDDから基準電圧V
refが形成され、この基準電圧Vrefが内部電圧制御回路
2に供給され、内部電圧制御回路2でこの基準電圧Vref
を基に電源電圧VDDが制御される。これにより、基準電
圧Vrefに基づく内部降圧電圧VINTが形成される。このよ
うにして形成された内部降圧電圧VINTMOSトランジスタM
31及びM32からなるトランスミッションゲートを介さ
れ、内部電源ライン12を通じて出力端子4から出力され
る。
スタティックRAMがスタンバイ状態となるチップンネ
ーブル信号CEが「L」の時には、MOSトランジスタM19、
M26、及び、MOSトランジスタM31、M32からなるトランス
ミッションゲートはオフされる。このため、基準電圧発
生回路1及び内部電圧制御回路2の動作が停止される。
この時、内部電圧制御回路2から内部降圧電圧VINTが出
力されなくなるので、メモリセルにデータ保持電圧を与
える必要がある。このデータ保持電圧を維持するため
に、MOSトランジスタM41からなる降圧回路が設けられ
る。これにより、内部電圧制御回路2及び基準電圧制御
回路1の動作が停止されても、データ保持電圧が確保さ
れる。
また、電源電圧が降下した場合にも所定レベルのデー
タ保持電圧が確保できるように、電源ライン11と接地ラ
イン13との間に電圧検出回路15が設けられ、この電圧検
出回路15で電源電圧VDDのレベルが検出される。これに
応じてMOSトランジスタM51が制御され、電源電圧VDD
低下が補償される。この電圧検出回路15は、MOSトラン
ジスタM75により、チップイネーブル信号CEが「L」に
なるスタンバイ状態でのみ動作状態になるようにされて
いる。
b.具体構成 b1.基準電圧発生回路 第2図は、この発明の一実施例の具体構成を示すもの
である。
電源電圧VDDから基準電圧Vrefを形成する基準電圧発
生回路1は、第2図に示すように、PチャネルMOSトラ
ンジスタM11及びNチャネルMOSトランジスタM12〜M14、
NチャネルMOSトランジスタM15〜M18から構成される。
すなわち、第2図に示す基準電圧発生回路1におい
て、PチャネルMOSトランジスタM11のウェルとそのソー
スが互いに接続される。NチャネルMOSトランジスタM12
〜M14のそれぞれにおいて、そのウェルとそのドレイン
とが互いに接続される。電源ライン11と基準電圧発生回
路1の動作を制御するNチャネルMOSトランジスタM19の
ドレインとの間に、このようにそのウェルとそのソース
が互いに接続されているPチャネルMOSトランジスタM11
及びそのウェルとそのドレインとが互いに接続されてい
るNチャネルMOSトランジスタM12〜M14の直列接続が接
続される。PチャネルMOSトランジスタM11とNチャネル
MOSトランジスタM12の接続点から基準電圧Vrefの出力端
子が導出される。NチャネルMOSトランジスタM19のソー
スは、接地ライン13に接続される。NチャネルMOSトラ
ンジスタ19のゲートがチップイネーブル信号の入力端子
7に接続される。
また、NチャネルMOSトランジスタM15〜M18のそれぞ
れにおいて、そのウェルとそのソースが互いに接続され
る。これとともに、NチャネルMOSトランジスタM15〜M1
8のそれぞれにおいて、そのゲートとそのドレインとが
互いに接続される。電源ライン11とNチャネルMOSトラ
ンジスタM19のドレインとの間に、このようにそのウェ
ルとソース及びそのゲートとドレインとが互いに接続さ
れているNチャネルMOSトランジスタM15〜M18の直列接
続が接続される。
NチャネルMOSトランジスタM16とNチャネルMOSトラ
ンジスタM17との接続点がPチャネルMOSトランジスタM1
1のゲートに接続される。また、NチャネルMOSトランジ
スタM17とNチャネルMOSトランジスタM18との接続点が
NチャネルMOSトランジスタM12〜M14のゲートに接続さ
れる。
この基準電圧発生回路1は、端子7からのチップイネ
ーブル信号CEにより、その動作が制御される。すなわ
ち、チップイネーブル信号CEが「H」になると、Nチャ
ネルMOSトランジスタM19がオンとし、基準電圧発生回路
1が動作状態となる。チップイネーブル信号CEが「L」
になると、NチャネルMOSトランジスタM19がオフとな
り、基準電圧発生回路1の動作が停止される。
この基準電圧発生回路1が動作状態のとき、電源端子
3に供給される電源電圧VDDの変化に対するPチャネルM
OSトランジスタM11とNチャネルMOSトランジスタM12の
接続点から得られる基準電圧Vrefの変化特性を求める
と、第3図に示すような特性が得られる。すなわち、P
チャネルMOSトランジスタM11と、3個のNチャネルMOS
トランジスタM12〜M14が直列接続されている。これら3
個のNチャネルMOSトランジスタM12〜M14のそれぞれの
ウェルとソース拡散領域との接合によりダイオードが形
成される。したがって、電源電圧VDDを徐々に上昇して
いくと、基準電圧Vrefが徐々に上昇していき、このダイ
オードのスレショルド電圧をVFとすると、略々3VFで基
準電圧Vrefが一定となる。このように、この基準電圧発
生回路1では、電源電圧の変動にかかわらず一定の基準
電圧Vrefを得ることができる。また、この基準電圧発生
回路1は、温度変動の影響を余り受けないことが確認さ
れている。すなわち、第3図において、T1は25度での特
性を示し、T2は125度での特性を示し、T3は−10度での
特性を示している。第3図に示す特性から明らかなよう
に、温度条件が変わっても、その特性は著しく変化しな
い。
b2.内部電圧制御回路 内部電圧制御回路2は、基準電圧Vrefを基にして電源
電圧VDDを制御し、内部降圧電圧VINTを形成するもので
ある。この内部電圧制御回路2は、PチャネルMOSトラ
ンジスタM21及びM22と、NチャネルMOSトランジスタM23
及びM24と、PチャネルMOSトランジスタM25とから構成
されている。
すなわち、PチャネルMOSトランジスタM21及びM22の
互いのソースが共通接続され、この接続点が電源ライン
11に接続される。PチャネルMOSトランジスタM21のドレ
インがNチャネルMOSトランジスタM23のドレインに接続
される。PチャネルMOSトランジスタM22のドレインがN
チャネルMOSトランジスタM24のドレインに接続される。
NチャネルMOSトランジスタM23のゲートとNチャネルMO
SトランジスタM24のゲートが共通接続され、Nチャネル
MOSトランジスタM24のゲートとそのドレインが共通接続
され、NチャネルMOSトランジスタM23及びM24とにより
カレントミラー回路が構成される。NチャネルMOSトラ
ンジスタM23及びNチャネルMOSトランジスタ24のソース
が内部電圧制御回路24の動作を制御するNチャネルMOS
トランジスタM26のドレインに接続される。NチャネルM
OSトランジスタM26のソースが接地ライン13に接続され
る。NチャネルMOSトランジスタM26のゲートがチップイ
ネーブル信号CEの入力端子7に接続される。
PチャネルMOSトランジスタM21のゲートが基準電圧V
refの出力端子であるPチャネルMOSトランジスタM11と
NチャネルMOSトランジスタM12との接続点に接続され
る。NチャネルMOSトランジスタ22のゲートと電源ライ
ン11との間にPチャネルMOSトランジスタM25が設けら
れ、NチャネルMOSトランジスタM22のゲートから内部降
圧電圧VINTの出力端子が導出される。PチャネルMOSト
ランジスタM25のゲートがPチャネルMOSトランジスタM2
1のドレインとNチャネルMOSトランジスタM23のドレイ
ンとの接続点に接続される。
この内部電圧制御回路2は、端子7からのチップイネ
ーブル信号CEにより、その動作が制御される。すなわ
ち、チップイネーブル信号CEが「H」になると、Nチャ
ネルMOSトランジスタM26がオンし、内部電圧制御回路2
が動作状態となる。チップイネーブル信号CEが「L」に
なると、NチャネルMOSトランジスタM26がオフとなり、
内部電圧制御回路2の動作が停止される。
この第2図に示す内部電圧制御回路2において、Pチ
ャネルMOSトランジスタM21とPチャネルMOSトランジス
タM22とは差動回路を構成している。そして、Pチャネ
ルMOSトランジスタM21とNチャネルMOSトランジスタM23
の接続点からの出力は、PチャネルMOSトランジスタM25
を介してPチャネルMOSトランジスタM22に帰還される。
したがって、PチャネルMOSトランジスタM21のゲートに
印加される電圧とPチャネルMOSトランジスタM22のゲー
トに印加される電圧とが等しくなるように、Pチャネル
MOSトランジスタM25が制御される。PチャネルMOSトラ
ンジスタM21のゲートには基準電圧Vrefが印加されてい
るので、PチャネルMOSトランジスタ22のゲート電圧は
基準電圧Vrefと等しくなるように制御され、Pチャネル
MOSトランジスタM25とソースとNチャネルMOSトランジ
スタM22のゲートとの接続点から、基準電圧Vrefと等し
い電圧の内部降圧電圧VINTを得ることができる。
b3.降圧回路及び電圧検出回路 内部電圧制御回路2で形成された内部降圧電圧V
INTは、NチャネルMOSトランジスタM31及びPチャネルM
OSトランジスタM32からなるトランスミッションゲート
を介され、内部電源ライン12を通じて内部降圧電圧の出
力端子4から出力される。NチャネルMOSトランジスタM
31のゲートには、端子7からのチップイネーブル信号CE
が供給され、PチャネルMOSトランジスタM32のゲートに
は、インバータI1により、端子7からのチップイネーブ
ル信号CEが反転されて供給される。したがって、チップ
イネーブル信号CEが「H」の時には、NチャネルMOSト
ランジスタM32及びPチャネルMOSトランジスタM32から
なるトランスミッションゲートがオンし、内部電圧制御
回路2で形成された内部降圧電圧VINTが内部降圧電圧の
出力端子4から出力される。チップイネーブル信号CEが
「L」の時には、NチャネルMOSトランジスタM31及びP
チャネルMOSトランジスタM32からなるトランスミッショ
ンゲートがオフする。
このように、この一実施例では、チップイネーブル信
号CEが「H」の時には出力端子4から内部降圧電圧VINT
が出力されるが、チップイネーブル信号CEが「L」の時
には、内部電圧制御回路2で形成れさる内部降圧電圧V
INTが内部降下電圧の出力端子4から出力されない。
この時、メモリセルのデータ保持電圧を維持するため
に、電源ライン11と内部電源ライン12との間に、Nチャ
ネルMOSトランジスタM42及びとPチャネルMOSトランジ
スタM43からなるトランスミッションゲートを介して、
そのドレインとそのゲートとが共通接続され、そのウェ
ルとそのソースとが共通接続されたNチャネルMOSトラ
ンジスタM41が設けられる。NチャネルMOSトランジスタ
M42のゲート及びPチャネルMOSトランジスタM43のゲー
トには、インバータI1を介して反転されたチップイネー
ブル信号CEが供給される。
NチャネルMOSトランジスタM42とPチャネルMOSトラ
ンジスタM43からなるトランスミッションゲートは、チ
ップイネーブル信号CEにかかわらず、常にオンしてい
る。チップイネーブル信号CEが「L」で、内部電圧制御
回路2で形成れさる内部降圧電圧VINTが内部電源ライン
12を通じて内部降下電圧の出力端子4から出力されなく
なる時には、NチャネルMOSトランジスタM41によるデー
タ保持電圧が内部電源ライン12を介してメモリセルに印
加され、データ保持電圧が確保される。
なお、NチャネルMOSトランジスタM41は、サイズが小
さく、消費電力が非常に小さい。また、内部電圧制御回
路2で形成される内部降圧電圧VINTが出力端子4から出
力されている時には、このNチャネルMOSトランジスタM
41からなる降圧回路は無視できる。
このNチャネルMOSトランジスタM41からなる降圧回路
で形成されるデータ保持電圧は、電源電圧VDDの変動の
影響により降下し、データ保持電圧を確保できなくなる
ことが考えられる。そこで、電源電圧VDDの変動を検出
する電圧検出回路15が設けられる。そして、この電圧検
出回路15の出力によりPチャネルMOSトランジスタM51を
制御し、データ保持電圧の低下を補償するようにしてい
る。
電圧検出回路15は、電源電圧VDDのレベルを検出する
ためのPチャネルMOSトランジスタM61及びNチャネルMO
SトランジスタM62と、PチャネルMOSトランジスタM61及
びNチャネルMOSトランジスタM62のゲートに与える電圧
を形成するNチャネルMOSトランジスタM63〜M66と、イ
ンバータI11〜I14をそれぞれ構成しているPチャネルMO
SトランジスタM67及びNチャネルMOSトランジスタM68、
PチャネルMOSトランジスタM69及びNチャネルMOSトラ
ンジスタM70、PチャネルMOSトランジスタM71及びNチ
ャネルMOSトランジスタM72、PチャネルMOSトランジス
タM73及びNチャネルMOSトランジスタM74とから構成さ
れる。
すなわち、PチャネルMOSトランジスタM61及びNチャ
ネルMOSトランジスタM62のそれぞれにおいて、そのウェ
ルとそのソースとが互いに接続される。電源ライン11と
電圧検出回路15の動作を制御するNチャネルMOSトラン
ジスタM75ののドレインとの間に、このようにそのウェ
ルとそのドレインとが互いに接続されているPチャネル
MOSトランジスタM61及びNチャネルMOSトランジスタM62
の直列接続が接続される。
また、NチャネルMOSトランジスタM63〜M66のそれぞ
れにおいて、そのウェルとそのソースが互いに接続され
る。これとともに、NチャネルMOSトランジスタM63〜M6
6のそれぞれにおいて、そのゲートとそのドレインとが
互いに接続される。電源ライン11とNチャネルMOSトラ
ンジスタM75のドレインとの間に、このようにそのウェ
ルとソース及びそのゲートとドレインとが互いに接続さ
れているNチャネルMOSトランジスタM63〜M66の直列接
続が接続される。
NチャネルMOSトランジスタM65とNチャネルMOSトラ
ンジスタM66との接続点がPチャネルMOSトランジスタM6
1及びNチャネルMOSトランジスタM62のゲートに接続さ
れる。
PチャネルMOSトランジスタM67のドレインとNチャネ
ルMOSトランジスタM68のドレインとが互いに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM67のソースが電源ライン11
に接続され、NチャネルMOSトランジスタM68のソースが
NチャネルMOSトランジスタM75のドレインに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM67及びNチャネルMOSトラ
ンジスタM68によりインバーダI11が構成される。インバ
ータI11の入力端子であるPチャネルMOSトランジスタM6
7のゲート及びNチャネルMOSトランジスタM68のゲート
と、PチャネルMOSトランジスタM61とNチャネルMOSト
ランジスタM62との接続点とが接続される。インバータI
1の出力端子であるPチャネルMOSトランジスタM67のド
レインとNチャネルMOSトランジスタM68との接続点がイ
ンバータI12の入力端子であるPチャネルMOSトランジス
タM69のゲート及びNチャネルMOSトランジスタM70のゲ
ートに接続点に接続される。
PチャネルMOSトランジスタM69のドレインとNチャネ
ルMOSトランジスタM70のドレインとが互いに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM69のソースが電源ライン11
に接続され、NチャネルMOSトランジスタM70のソースが
NチャネルMOSトランジスタM75のドレイに接続され、P
チャネルMOSトランジスタM69及びNチャネルMOSトラン
ジスタM70によりインバータI12が構成される。インバー
タI12の出力端子であるPチャネルMOSトランジスタM69
のドレインとNチャネルMOSトランジスタM70のドレイン
との接続点が、インバータI13の入力端子であるPチャ
ネルMOSトランジスタM71のゲート及びNチャネルMOSト
ランジスタM72のゲートに接続される。
PチャネルMOSトランジスタM71のドレインとNチャネ
ルMOSトランジスタM72のドレインとが互いに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM71のソースが電源ライン11
に接続され、NチャネルMOSトランジスタM72のソースが
NチャネルMOSトランジスタM75のドレインに接続され、
PチャネルMOSトランジスタ71及びNチャネルMOSトラン
ジスタM72によりインバータI13が構成される。インバー
タI13の出力端子であるPチャネルMOSトランジスタM71
のドレインとNチャネルMOSトランジスタM72のドレイン
との接続点が、インバータI14の入力端子であるPチャ
ネルMOSトランジスタM73のゲート及びNチャネルMOSト
ランジスタM74のゲートに接続される。
PチャネルMOSトランジスタM73のドレインとNチャネ
ルMOSトランジスタM74のドレインとが互いに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM73のソースが電源ライン11
に接続され、NチャネルMOSトランジスタM74のソースが
NチャネルMOSトランジスタM75のドレインに接続され、
PチャネルMOSトランジスタM73及びNチャネルMOSトラ
ンジスタM74によりインバータI14が構成される。
インバータI14の出力端子であるNチャネルMOSトラン
ジスタM73とNチャネルMOSトランジスタM74との接続点
が、PチャネルMOSトランジスタM51のゲートに接続され
る。PチャネルMOSトランジスタM51は、電源ライン11と
内部電源ライン12との間に設けられる。また、電源ライ
ン11と、NチャネルMOSトランジスタM73とNチャネルMO
SトランジスタM74との接続点の間に、PチャネルMOSト
ランジスタM76が設けられる。このPチャネルMOSトラン
ジスタM76のゲートがインバータI1の出力端子に接続さ
れる。
スタティックRAMが動作状態となるチップイネーブル
信号CEが「H」の時には、インバータI1の出力が「L」
になるので、NチャネルMOSトランジスタM75がオフし、
PチャネルMOSトランジスタM76はオンする。このため、
電圧検出回路15の動作が停止されるとともに、Pチャネ
ルMOSトランジスタM76がオンするので、PチャネルMOS
トランジスタM51がオフされる。
スタティックRAMがスタンバイ状態となるチップイネ
ーブル信号CEが「L」の時には、インバータI11の出力
が「H」になるので、NチャネルMOSトランジスタM75が
オンし、PチャネルMOSトランジスタM76がオフし、電圧
検出回路15が動作状態になる。
電圧検出回路15が動作状態の時には、電源電圧VDD
電圧の変化に対応して、PチャネルMOSトランジスタM61
とNチャネルMOSトランジスタM62との接続点の電圧が変
化し、PチャネルMOSトランジスタM61とNチャネルMOS
トランジスタM62との接続点から電源電圧VDDのレベルが
検出される。この検出レベルがインバータI11〜I14を介
してPチャネルMOSトランジスタM51のゲートに供給され
る。これにより、電源電圧VDDが低下した場合に、デー
タ保持電圧が補償される。
すなわち、電源電圧VDDのレベルが所定値以上の時に
は、PチャネルMOSトランジスタM61とNチャネルMOSト
ランジスタM62との接続点での検出電圧は所定値以上な
ので、インバータI11の出力が「L」になり、インバー
タI12の出力が「H」になり、インバータI13の出力が
「L」になり、インバータI14の出力が「H」になる。
したがって、PチャネルMOSトランジスタM51がオフして
いる。
電源電圧VDDが所定値以下になると、PチャネルMOSト
ランジスタM61とNチャネルMOSトランジスタM62との接
続点での検出電圧は所定値以下になり、インバータI11
の出力が「H」になり、インバータI12の出力が「L」
になり、インバータI13の出力が「H」になり、インバ
ータI14の出力が「L」になる。したがって、Pチャネ
ルMOSトランジスタM51がオンする。PチャネルMOSトラ
ンジスタM51がオンすると、電源ライン11と内部電源ラ
イン12とが接続され、内部降圧電圧VINTの出力端子4か
ら出力される電圧が引き上げられる。
〔発明の効果〕
この発明によれば、スタティックRAMが動作状態にあ
る時には、基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2
を動作させて形成された内部降下電圧VINTがスタティッ
クRAMに供給される。スタティックRAMがスタンバイ状態
の時には、基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2
の動作が停止され、MOSトランジスタM41によりデータ保
持電圧が確保される。このように、スタンバイ状態の時
には基準電圧発生回路1及び内部電圧制御回路2の動作
を停止させることにより、消費電力の低減をはかること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例のブロック図,第2図はこ
の発明の具体構成を示す接続図,第3図はこの発明の一
実施例の説明に用いるグラフ,第4図は従来の内部電圧
発生回路の説明に用いるブロック図である。 図面における主要な符号の説明。 1:基準電圧発生回路,2:内部電圧制御回路,3:電源端子,
4:内部降下電圧の出力端子,5:接地端子,7:チップイネー
ブル信号の入力端子。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基準電圧発生回路と、 上記基準電圧発生回路からの基準電圧に基づいてスタテ
    ィックメモリを動作させる内部降圧電圧を形成して内部
    電源ラインに出力する内部電圧制御回路と、 電源ラインと上記内部電源ラインとの間に設けられたト
    ランジスタからなり、上記電源ラインからの電圧を降圧
    して上記スタティックメモリの状態を保持させる電圧を
    形成して上記内部電源ラインに出力する降圧回路と、 上記電源ラインの電圧を検出し、上記電源ラインの電圧
    が所定値以下になったら、上記内部電源ラインの電圧を
    引き上げる電圧検出回路と、 上記内部電圧制御回路からの電源と上記降圧回路からの
    電源とを選択して上記内部電源ラインに出力させるスイ
    ッチ回路とを備え、 上記スタティックメモリがアクティブ状態では、上記基
    準電圧発生回路及び上記内部電圧制御回路の動作をオン
    状態に設定させ、上記内部電圧制御回路からの電源を選
    択して上記内部電源ラインに出力させると共に、上記電
    圧検出回路をオフ状態に設定させ、 上記スタティックメモリがスタンバイ状態では、上記基
    準電圧発生回路及び上記内部電圧制御回路の動作をオフ
    状態に設定させ、上記降圧回路からの電源を選択して上
    記内部電源ラインに出力させると共に、上記電圧検出回
    路をオン状態に設定させ、上記電圧検出回路により、上
    記電源ラインの電圧を検出し、上記電源ラインの電圧が
    所定値以下になったら、上記内部電源ラインの電圧を引
    き上げる ようにしたことを特徴とする内部降圧回路。
JP63191547A 1988-06-01 1988-07-29 内部降圧回路 Expired - Fee Related JP2759969B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63191547A JP2759969B2 (ja) 1988-07-29 1988-07-29 内部降圧回路
US07/359,153 US5046052A (en) 1988-06-01 1989-05-31 Internal low voltage transformation circuit of static random access memory
EP89305540A EP0345065B1 (en) 1988-06-01 1989-06-01 Memories
DE68917792T DE68917792T2 (de) 1988-06-01 1989-06-01 Speicher.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63191547A JP2759969B2 (ja) 1988-07-29 1988-07-29 内部降圧回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0240195A JPH0240195A (ja) 1990-02-08
JP2759969B2 true JP2759969B2 (ja) 1998-05-28

Family

ID=16276490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63191547A Expired - Fee Related JP2759969B2 (ja) 1988-06-01 1988-07-29 内部降圧回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2759969B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2737943B2 (ja) * 1988-08-24 1998-04-08 日本電気株式会社 電源電圧変換回路
JP2778199B2 (ja) * 1990-04-27 1998-07-23 日本電気株式会社 内部降圧回路
JP2800502B2 (ja) * 1991-10-15 1998-09-21 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
KR100295055B1 (ko) * 1998-09-25 2001-07-12 윤종용 전압조정이가능한내부전원회로를갖는반도체메모리장치
JP5041631B2 (ja) * 2001-06-15 2012-10-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
JP2003284322A (ja) 2002-03-20 2003-10-03 Fujitsu Ltd 電圧監視回路を具備する半導体装置
WO2010146640A1 (ja) * 2009-06-15 2010-12-23 パナソニック株式会社 半導体集積回路装置及び電子機器

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH083766B2 (ja) * 1986-05-31 1996-01-17 株式会社東芝 半導体集積回路の電源電圧降下回路

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0240195A (ja) 1990-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5046052A (en) Internal low voltage transformation circuit of static random access memory
JP4392740B2 (ja) 半導体記憶回路
US7420857B2 (en) Semiconductor integrated circuit and leak current reducing method
US7436732B2 (en) Internal power supply generating circuit without a dead band
JPH0547848B2 (ja)
US11042176B2 (en) Low dropout voltage regulator circuit
US8125846B2 (en) Internal voltage generating circuit of semiconductor memory device
US8319548B2 (en) Integrated circuit having low power mode voltage regulator
US6504353B2 (en) Drive power supplying method for semiconductor memory device and semiconductor memory device
CN100459127C (zh) 半导体集成电路
JP2000149557A (ja) 半導体集積回路
JP2759969B2 (ja) 内部降圧回路
JP3517493B2 (ja) 内部降圧回路
JPH0612876A (ja) 電源切換え回路
JPH0765571A (ja) 半導体記憶装置
JP2010160700A (ja) 半導体装置
JPH05334879A (ja) 半導体記憶装置
JP3096541B2 (ja) 半導体集積回路のための内部降圧回路
JPH08148580A (ja) 半導体集積回路装置
US6914844B2 (en) Deep power down switch for memory device
JP3285664B2 (ja) ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ
JPH0278090A (ja) メモリ装置の供給電圧安定化回路
JP2020009507A (ja) 半導体記憶装置
JPH07234735A (ja) 内部電源回路
JPH0278095A (ja) 半導体集積回路

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees