JP2735840B2 - ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体 - Google Patents

ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体

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JP2735840B2
JP2735840B2 JP63218556A JP21855688A JP2735840B2 JP 2735840 B2 JP2735840 B2 JP 2735840B2 JP 63218556 A JP63218556 A JP 63218556A JP 21855688 A JP21855688 A JP 21855688A JP 2735840 B2 JP2735840 B2 JP 2735840B2
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、医薬品の合成原料として有用な、新規ピラ
ゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体に関し、よ
り詳細には、次式(I)および(II): 式中、R1はハロゲン原子、水酸基または保護された水
酸基を表わし、R2は水素原子、アルキル基またはアミノ
保護基を表わし、R3は水素原子、低級アルコキシカルボ
ニル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシル基またはハ
ロゲン原子を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘
導体を提供するものである。
これらの化合物は、抗生物質の生理活性を修飾する目
的で種々の化合物に置換基として導入することが出来
る、有用な合成原料である。
たとえば、本発明者らは、これまでに広範囲な抗菌ス
ペクトラムを有する抗生物質であるカルバペネム化合物
の合成検索を行ってきており、特にカルバペネム骨格の
1位にβ−配置のメチル基を導入し、さらに2位の側鎖
として4−ピラゾリジニルチオ基を導入した次式
(A): 式中、RaおよびRbは水素素子または有機置換残基を表
わす、 で示される(1R,5S,6S)−2−[(4−ピラゾリジニ
ル)チオ]−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘導体に優れ
た抗菌活性が認められることを見出してきている。
この上記式(A)で示される特異的カルバペネム化合
物は、カルバペネム系抗生物質として現実の使用に供さ
れているイミペネムに匹敵する抗菌活性を示すととも
に、腎デヒドロペプチダーゼ(DHP−I)に対する耐性
はイミペネムの数十倍にも及ぶものであつて、その薬理
活性は特に優れたものであることが認められている。
ところで、カルバペネム化合物の薬理活性は、その2
位に側鎖として導入する置換基によつて影響を受けるこ
とが知られており、当該置換基の開発は、臨床上有用な
カルバペネム化合物を開発するうえで重要な意味を持
つ。
しかし、従来、本発明で掲げる特定の化合物につい
て、具体的に詳細な検討を加えた例は報告されていな
い。
本発明で提供する化合物は、上記式(A)で示すカル
バペネム化合物の2位に側鎖として導入される次式: 式中、RaおよびRbは上記定義と同一の意味を表わし、
Rcは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、ヒドロキ
シメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子を表わ
し、Rdは水素原子または有機置換残基を表わす、 で示される種々のメルカプトピラゾリジン誘導体の重要
な合成原料となるものである。
以下に、式(I)および(II)の化合物の具体的な製
造法を述べ、本発明を説明する。
なお、本明細書において使用される用語として、「ア
ルキル基」とは、炭素原子数1〜6個の、直鎖状もしく
は分岐鎖状の低級アルキル基を意味し、例えば、メチ
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチ
ル、isn−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペ
ンチル、iso−ペンチル、n−ヘキシル、iso−ヘキシル
基等が包含される。
「アルカノイル基」としては、アセチル、プロピオニ
ル、ブチロイル基等を例示することができる。
「アリール基」は単環式または多環式であり、さらに
環上に1個もしくはそれ以上のアルキル基を有していて
もよく、例えば、フエニル、トリル、キシリル、α−ナ
フチル、β−ナフチル基等が包含される。
「アラルキル基」とは、アルキル基およびアリール基
がそれぞれ上記の意味を有するアリール置換アルキル基
であり、具体的にはベンジル、ベンズヒドリル、トリチ
ル、p−メトキシベンジル、フエネチル、α−メチルベ
ンジル、フエニルプロピル、ナフチルメチル基等を例示
することができる。
「アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニ
ル基等を例示することができる。
「アミノ保護基」としては、ペプチド化学の分野にお
いてアミノ基の保護基として既知の、任意の保護基が保
護されるが、好ましくは、エトキシカルボニル、tert−
ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル等の飽和
あるいは不飽和アルコキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
p−メトキシベンジルオキシカルボニル等の置換あるい
は非置換ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
「水酸基の保護基」とは、ペプチド化学においてセリ
ンの水酸基の保護基として一般に知られている、任意の
保護基を意味し、たとえばアセチル、ベンゾイル、メタ
ンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の脂肪族ある
いは芳香族アシル基、ベンジル、トリフエニルメチル等
のアラルキル基、ベンジルオキシカルボニル、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオ
キシカルボニル等の置換あるいは非置換ベンジルオキシ
カルボニル基の他、tert−ブチルジフエニルシリル基、
フエニルイソプロピルジメチルシリル基等を例示するこ
とができる。
また、「アシル基」とは、脂肪族または芳香族カルボ
ン酸の水酸基を除いた部分を意味し、具体的には、アセ
チル基、プロピオニル基等のアルカノイル基、およびベ
ンゾイル基等が例示される。
本発明が提供するピラゾリジン誘導体およびピラゾリ
ジノン誘導体は、たとえば以下の図1に示す経路に従つ
て製造することができる。
式中、R1ないしR3は上記定義と同一の意味を表わし、
R4は水素原子またはアルキル基を表わし、R5はアルキル
基を表わす。
すなわち、式(III)で示されるヒドラジン誘導体を
原料とする[A]、[B]、[C]の方法、および(I
V)で示されるジアルキルアゾジカルボキシレートを原
料とする[D]の方法を例示することができる。
以下に、それぞれの製造法を詳細に説明するが、本発
明の化合物を得る方法が、以下の方法に限定されるもの
でないことはいうまでもない。
式(I)で示される化合物は、次式[A]: 式中、R1ないしR4は上記定義と同一の意味を表わし、
Xはハロゲン原子を表わす、 あるいは次式[B]: 式中、R1ないしR4およびXは上記定義と同一の意味を
表わし、R6はアミノ保護基を表わす、 で示される経路に従つて合成することができる。
製造法[A]は、ヒドラジン誘導体に式(V)で示さ
れるエピハロヒドリンを反応させて、得られる反応生成
物の遊離の水酸基および/あるいはアミノ基を保護する
ことによつて、式(I)で示される化合物を製造する方
法である。
反応は、ヒドラジン誘導体を、不活性有機溶媒、たと
えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール等のアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエ
ーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素等の他、ジメチルホルムアミド、アセトニト
リル、酢酸エチル、アセトン等の中から選択される適当
な溶媒に溶解させる。この溶液を−30℃ないし50℃程度
の温度で撹拌下、式(V)のエピハロヒドリンを数分間
ないし1時間かけて加え、上記温度のままさらに1時間
ないし4時間撹拌する(工程(i))。本反応で用いら
れるヒドラジン誘導体としては、特定の水分を含有する
ヒドラジン水和物、あるいは抱水ヒドラジンのほか、1,
2−ジメチルヒドラジン・2塩酸塩等のジアルキルヒド
ラジンを例示することができる。また、エピハロヒドリ
ンとしては、例えばエピブロモヒドリン、エピクロロヒ
ドリン等が好ましく用いられる。
反応終了後、溶媒を留去して得られる反応生成物は、
精製処理をすることなく、上記不活性有機溶媒の中から
選ばれた適当な溶媒に溶融し、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存
在下、所望のクロル炭酸化合物、例えばエトキシカルボ
ニルクロライド、アリルオキシカルボニルクロライド、
ベンジルオキシカルボニルクロライド、tert−ブトキシ
カルボニルクロリド等を作用させて、アミノ基を保護す
ることによつて式(I)で示される化合物へ誘導するこ
とができる。該反応は、室温程度で1時間ないし6時間
で完結する(工程(ii))。得られる反応生成物は、カ
ラムクロマトグラフイーに付して、単離精製することが
できる。
製造法[B]は、ヒドラジン・水和物をホルミル化し
たのち、遊離のアミノ基をいわゆるシツフ塩基として保
護して式(VI)で示される化合物を得る。この化合物
(VI)にアリル基を導入した後、ホルミル基を脱離さ
せ、さらにシツフ塩基を加水分解して得られる化合物の
アミノ基をアミノ保護基で保護し式(VII)の化合物を
得る。次いで、このアリルヒドラジン誘導体にハロゲン
原子を付加させた後、閉環反応を行なわせて式(I)の
化合物へ誘導する方法である。
反応は、ヒドラジン水和物を上記の適当な不活性有機
溶媒に溶解し、溶媒を−30℃ないし50℃程度の温度で撹
拌下、ギ酸エチルを10分間ないし2時間かけて滴下し、
滴下終了後さらに2時間ないし20時間、0℃ないし80℃
程度の温度下で撹拌した後、反応溶液をアセトンに10分
間ないし2時間かけて添加し、さらに30分間ないし20時
間、0℃ないし80℃程度の温度で撹拌する(工程(ii
i))。
上記反応で得られる式(VI)で示される化合物は反応
溶媒を留去したのち、精製することなく、そのまま上記
適当な不活性有機溶媒に溶解し、これに塩基、たとえば
ナトリウムメトキサイドのメタノール溶液を加えて10分
間ないし2時間、加熱還流する。次いで、この溶液を−
30℃から20℃程度まで冷却したのちハロゲン化アリルた
とえば、臭化アリル、塩化アリル、ヨウ化アリル等を加
えて、そのままの温度で30分間ないし2時間撹拌したの
ち、さらに30分間ないし2時間加熱撹拌して反応を完結
させる。次に、この反応溶液を再び−30℃ないし20℃程
度にまで冷却したのち、塩酸メタノール溶液に投入し
て、室温にて5時間ないし20時間程度撹拌する。反応終
了後、溶媒を留去して得られる反応生成物の塩酸塩を適
当な不活性有機溶媒に溶解し、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基の
存在下、所望のクロル炭酸化合物、たとえば、フタロイ
ルクロライド、ベンジルオキシカルボニルクロライド、
tert−ブトキシカルボニルクロライド、p−ニトロベン
ジルオキシカルボニルクロライド等の化合物を作用させ
て、遊離のアミノ基をこれら保護基で保護することによ
つて、式(VII)で示される化合物へ誘導することがで
きる(工程(iv))。
次に、上記工程(iv)で得られた式(VII)のアリル
ヒドラジン誘導体を不活性有機溶媒に溶解させたのち、
−30℃から20℃程度まで冷却し、該溶液にハロゲン、た
とえば臭素を10分間ないし2時間にわたつて滴下して、
滴下終了後、さらに5分間ないし30分間撹拌する。この
反応液に還元剤、例えば亜硫酸ナトリウム水溶液を加え
て反応を終了させる(工程(v))。
次に、上記工程(v)で得られた反応生成物を不活性
有機溶媒中に溶解して、これに炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の中から
適当に選択された塩基を加えて、40℃から100℃程度の
温度で1時間ないし6時間撹拌する(工程(vi))。本
反応の反応生成物をカラムクロマトグラフイーに付すこ
とによつて、式(IX)で示される4−ハロ置換ピラゾリ
ジン誘導体を得ることができる。この式(IX)の化合物
は、必要に応じて4位のハロゲン原子を水酸基あるいは
保護された水酸基と置換し、あるいは後述する方法によ
つてアミノ保護基を脱離せしめることにより、式(I)
の化合物へ誘導することができる(工程(vii))。
上記製造法[A]および製造法[B]で説明した方法
によつて得られる式(I)の化合物において、置換基R3
は水素原子を意味する。
以下に、上記製造法によつて得られるピラゾリジン誘
導体を例示すると、 4−ヒドロキシ−1,2−ジメチルピラゾリジン: 1,2−ジベンゾイル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−ヒドロ
キシピラゾリジン: 1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−ヒドロキシピラゾリジン: 4−アセトキシ−1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニ
ル)ピラゾリジン: 4−ベンジルオキシ−1,2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン: 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−メチル
スルホニルオキシピラゾリジン: 4−ベンゾイルオキシ−1,2−ジ(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)ピラゾリジン: 4−ベンゾイルオキシピラゾリジン・2酢酸塩: 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−tert−
ブチルジフエニルシリルオキシピラゾリジン: 4−tert−ブチルジフエニルシリルオキシピラゾリジ
ン・2酢酸塩: 4−ブロモ−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)ピラゾリジン 等を挙げることができる。
一方、式(II)で示される化合物は、次式[C]: 式中、R2、R3、R5およびR6は上記定義と同一の意味を
表わす、 あるいは次式[D]: 式中、R2、R3、R5およびXは上記定義と同一の意味を
表わす、 で示される経路に従つて合成することができる。
製造法[C]は、ヒドラジン水和物の遊離のアミノ基
をアミノ保護基で保護した式(X)の化合物に、ハロゲ
ン置換酢酸のアルキルエステルを作成させて式(XI)の
化合物としたのち、これに塩基を反応させて閉環せしめ
ることによつて、式(XII)で示される化合物へ誘導す
る方法である。
反応は、ヒドラジン水和物を上記の適当な不活性有機
溶媒に溶解して、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、上記
クロル炭酸化合物の中から適当に選択した試薬を室温程
度で1時間ないし6時間反応させて、式(X)で示され
る化合物を得る。
このヒドラジン誘導体を、上記不活性有機溶媒の中か
ら適当に選択された溶媒に溶解して、−20℃ないし40℃
程度の温度下に塩基、たとえばナトリウムメトキシド、
水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウ
ム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert
−ブチルマグネシウム、リチウムジイソプロピルアミド
等のいずれかを加えて、20分間ないし4時間撹拌し、該
溶液に原料のヒドラジン誘導体に対して2モル等量のハ
ロゲン置換酢酸のアルキルエステル誘導体を加えて、0
℃ないし80℃程度の温度で30分間ないし5時間撹拌する
(工程(viii))。
上記反応で得られる式(XI)で示される化合物は、結
晶化法あるいはカラムクロマトグラフイーに付して単離
精製したのち、上記不活性溶媒のいずれかに溶解し、塩
基、たとえばナトリウムアルコキシド、あるいは水素化
ナトリウムを加えて0℃ないし60℃程度の温度で20分間
から3時間撹拌し(工程(ix)、反応終了後、得られる
粗生成物をたとえばカラムクロマトグラフイーに付すこ
とによって式(XII)のピラゾリジン−4−オン誘導体
を単離精製することができる。この式(XII)の化合物
は、必要に応じて3位のアルコキシカルボニル基を加水
分解もしくは還元し、あるいは後述する方法によつてア
ミノ保護基を脱離せしめることにより、式(II)の化合
物へ誘導することができる(工程(X))。
製造法[D]は、式(IV)で示されるジアルキルアゾ
ジカルボキシレートに式(XIII)の1,3−ジハロ置換ア
セトンを作用させることによつて式(XIV)で示される
3−ハロ置換ピラゾリジン−4−オン誘導体へ導く方法
である。
反応は、1,3−ジハロ置換アセトンを上記不活性有機
溶媒のいずれかに溶解し、この溶液を−78℃ないし−20
℃まで冷却したのち、塩基、たとえばn−ブチルリチウ
ムおよび式(IV)の化合物を加えて−78℃ないし室温程
度の温度で1時間から5時間撹拌する(工程(xi))。
該反応で得られる式(XIV)の化合物はカラムクロマト
グラフイーに付して精製単離することができる。
上記反応で得られた式(XIV)の3−ハロ置換ピラゾ
リジン−4−オン誘導体は、必要に応じて後述する方法
によつてアミノ保護基を脱離せしめることにより、式
(II)の化合物へ誘導することができる。
以上の製造法[C]あるいは製造法[D]に示す方法
によつて得られた式(II)の化合物は、必要に応じて更
に、以下に示す製造法[E]に従つて、式(I)でしめ
されるピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
式中、R1ないしR3は上記定義と同一の意味を表わす。
すなわち、式(II)で示されるピラゾリジン−4−オ
ン誘導体に水素化金属化合物を作用させることによつて
式(I)のピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
反応は、式(II)の化合物を、上記した適当な不活性
有機溶媒に溶解し、これに水素化金属化合物、たとえ
ば、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリ
ウム、三アルコキシ水素化ホウ素ナトリウム等の中から
適当に選択される還元剤を加えて、0℃ないし60℃程度
の温度で30分間から5時間撹拌することにより行なうこ
とができる(工程(xiii))。本反応によつて得られる
反応生成物をカラムクロマトグラフイーに付することに
よつて、式(I)で示されるピラゾリジン誘導体を得る
ことができる。
なお、本反応で用いられる水素化金属化合物の還元力
によつては、出発物質である式(II)の化合物の置換基
R3が低級アルコキシカルボニル基の場合、式(I)にお
ける置換基R3がヒドロキシメチル基である反応生成物を
得ることができる。
以下に、上記製造法[C]、[D]および[E]によ
つて得られるピラゾリジノン誘導体およびピラゾリジン
誘導体を例示すると、 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−メトキ
シカルボニルピラゾリジン−4−オン: 3−メトキシカルボニル−1,2−ジ(p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)ピラゾリジン−4−オン: 1,2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3−メトキ
シカルボニルピラゾリジン−4−オン: 1,2−ジベンゾイル−3−メトキシカルボニルピラゾ
リジン−4−オン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニルピラゾリジン−4−オン: 3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−オン: 1,2−ジベンゾイル−3−ヒドロキシメチルピラゾリ
ジン−4−オン: 3−ヒドロキシメチルピラゾリジン−4−オン: 4−オキソ−1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)
ピラゾリジン−3−カルボン酸: 4−オキソ−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)ピラゾリジン−3−カルボン酸: 4−オキソ−1,2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)
ピラゾリジン−3−カルボン酸: 1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピ
ラゾリジン−4−オン: 1,2−ジベンゾイルピラゾリジン−4−オン: ピラゾリジン−4−オン: 3−クロロ−1,2−ジ(エトキシカルボニル)ピラゾ
リジン−4−オン: 3−ブロモ−1,2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)
ピラゾリジン−4−オン: 3−クロロピラゾリジン−4−オン: 3−ブロモピラゾリジン−4−オン: 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−クロロ
−4−ヒドロキシピラゾリジン: 3−クロロ−4−ヒドロキシ−1,2−ジ(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン: 1,2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3−クロロ
−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1,2−ジベンゾイル−3−クロロ−4−ヒドロキシピ
ラゾリジン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−クロロ−
4−ヒドロキシピラゾリジン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シ−3−メトキシカルボニルピラゾリジン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−エトキシ
カルボニル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シメチルピラゾリジン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シピラゾリジン−3−カルボン酸: 4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−1,2−ジ
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジ
ン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニル−4−メチルスルホニルオキシピラゾリジ
ン: 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−クロロ−
3−メトキシカルボニルピラゾリジン: 4−アセトキシ−3−メトキシカルボニル−1,2−ジ
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジ
ン: 4−ベンジルオキソ−1,2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン 等を挙げることができる。
以上の方法によつて得られた式(I)および(II)の
ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジン誘導体の水酸基
の保護基および/あるいはアミノ保護基は、必要に応じ
て、ペプチド化学において通常行なわれる方法、たとえ
ば加水分解または金属触媒による接触水素化等によつて
脱離させることができ、アミノ保護基を脱保護した場合
には、得られる化合物について、無機酸による、たとえ
ば塩酸塩、または、有機酸による、たとえば酢酸塩クエ
ン酸塩、あるいはシユウ酸塩等とすることができる。
本発明で提供する化合物は、たとえば、その構造中に
有する水酸基を、後述する参考例に示す方法と同様の方
法によつてチオール基に変換して次式: 式中、R2およびR3は上記定義と同一の意味を表わす、 で例示される種々のメルカプトピラゾリジン誘導体とす
ることができる。該化合物は次式に示すように、優れた
抗菌活性を持ち臨床上有用な抗生物質であるカルバペネ
ム誘導体を得るための、重要な合成原料となるものであ
る。
式中、R2およびR3は上記定義と同一の意味を表わし、
Rはカルボキシル基の保護基を表わす。
以下、実施例によつて本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は、これらの記載によつて何ら限定されるも
のではない。
なお、以下の実施例の記載中、略号で示すもには、 THF:テトラヒドロフラン DMF:ジメチルホルムアミド Z:ベンジルオキシカルボニル PNZ:p−ニトロベンジルオキシカルボニル Ac:アセチル の意味を表わすものとする。
実施例1 1,2−ジ(ベンゾイル)−4−ヒドロキシピラゾリジン 抱水ヒドラジン19.3g(0.386モル)のエタノール33ml
溶液を0℃まで冷却し、これにエピクロルヒドリン18g
(0.194モル)を滴下して、同温度で1時間撹拌した。
反応終了後、溶媒を減圧留去して、THF1000mlおよび飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液400mlを加えて0℃まで冷
却した。これに塩化ベンゾイル136g(0.563モル)を滴
下した後、室温で1時間撹拌した。反応終了後、固形物
を濾去し、濾液の溶媒を減圧留去して得られた残渣をク
ロロホルムで抽出した。該溶液を1N塩酸水溶液、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄して、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(クロロ
ホルム:アセトン=5:1)に付して、標題化合物14g(収
率24%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.10(1H,d) 3.40〜4.25(4H,m) 4.55〜4.75(1H,m) 7.25−7.75(10H,m) 実施例2 4−ヒドロキシ−1,2−ジメチルピラゾリジン N,N′−ジメチルピラゾリジン・2塩酸塩2.66g(20ミ
リモル)のアセトニトリル100ml溶液に、ジイソプロピ
ルエチルアミン2.58g(20ミリモル)およびエピクロロ
ヒドリン1.85g(20ミリモル)を加えて、15時間加熱還
流した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮
残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフイー(クロロ
ホルム:メタノール:28%アンモニア水溶液=100:10:
1)に付して、標題化合物596mg(収率26%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 2.7(6H,s) 3.0〜3.5(4H,m) 実施例3 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シピラゾリジン 抱水ヒドラジン58g(1.16モル)およびエピクロロヒ
ドリン54g(0.58モル)を用いて、上記実施例1に記載
した方法と同様の方法に従つて、標題化合物86g(収率4
2%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.0〜4.3(4H,m) 4.4〜4.8(1H,b) 5.16(4H,s) 7.29(10H,s) 実施例4 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−メチルス
ルホニルオキシピラゾリジン 上記実施例3.で得られた1,2−ジ(ベンジルオキシカ
ルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン76g(0.214モ
ル)のジクロルメタン600ml溶液を0℃まで冷却し、こ
れにトリエチルアミン32.4g(0.321モル)、次いで塩化
メチルスルホニル36.68g(0.321モル)を加えた後、同
温度で30分間、および室温で30分間撹拌した。反応液を
1N塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去して標題化合物90g(収率100%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 2.80(3H,s) 3.0〜4.5(4H,m) 5.19(4H,s) 7.30(10H,s) 実施例5 4−ベンゾイルオキシ−1,2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン 上記実施例3.で得られた1,2−ジ(ベンジルオキシカ
ルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン3.56g(10ミ
リモル)のジクロルメタン50ml溶液に、塩化ベンゾイル
1.4ml(12ミリモル)、トリエチルアミン1.74ml(12ミ
リモル)および4−ジメチルアミノピリジン10mgを加え
て、室温で12時間撹拌した。反応液を1N塩酸水溶液、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去
して得られた濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付して、標題化
合物4.1g(収率89%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.20〜4.80(4H,m) 5.17(4H,s) 5.50〜5.80(1H,m) 8.00〜7.20(15H,m) 実施例6 4−ベンゾイルオキシピラゾリジン・2酢酸塩 上記実施例5.で得られた4−ベンゾイルオキシ−1,2
−ジ(ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン460mg
(1ミリモル)をTHF5ml、メタノール25mlおよび酢酸0.
5mlの混合溶媒に溶解して、これに10%パラジウム炭素4
60mgを加え、4kg/cm2の水素雰囲気下4時間反応させ
た。触媒を濾去し、溶媒を減圧留去して標題化合物312m
g(収率100%)を得た。
H−NMR(CD3OD−CDCl3)δ; 2.00(6H,s) 2.90〜4.90(5H,m) 7.20〜7.90(5H,m) 8.50(4H,b) 実施例7 1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−tert−ブ
チルフエニルシリルオキシピラゾリジン 上記実施例3.で得られた1,2−ジ(ベンジルオキシカ
ルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン3.65g(10ミ
リモル)のDMF10ml溶液にtert−ブチルジフエニルクロ
ロシラン3.3g(12ミリモル)およびイミダゾール1.63g
(24ミリモル)を加えて、50℃で36時間撹拌した。反応
終了後、溶媒を減圧留去し、得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチル=
4:1)に付して、標題化合物5.51g(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 1.00(9H,s) 2.80〜4.70(5H,m) 5.10(4H,s) 7.20〜7.90(20H,m) 実施例8 4−tert−ブチルジフエニルシリルオキシピラゾリジン
・2酢酸塩 上記実施例7.で得られた1,2−ジ(ベンジルオキシカ
ルボニル)−4−tert−ブチルジフエニルシリルオキシ
ピラゾリジン595mg(1.0ミリモル)を用いて、実施例6.
に記載した方法と同様の方法に従つて、標題化合物446m
g(収率100%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 1.00(9H,s) 2.00(6H,s) 2.90〜4.80(5H,m) 7.20〜7.80(10H,m) 8.45(4H,b) 実施例9 4−ヒドロキシ−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン 抱水ヒドラジン58g(1.16モル)およびエピクロロヒ
ドリン53.8g(0.581モル)を用いて、上記実施例1に記
載した方法と同様の方法に従つて、標題化合物65.5g
(収率25%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.20〜4.40(4H,m) 5.37(4H,s) 5.00〜5.40(1H,m) 7.48(4H,d,J=9.0) 8.15(4H,d,J=9.0) 実施例10 4−メチルスルホニルオキシ−1,2−ジ(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン 上記実施例9.で得られた4−ヒドロキシ−1,2−ジ
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン
57.0g(0.128モル)を用いて、実施例4.に記載した方法
と同様の方法に従つて、標題化合物62.3g(収率93%)
を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 2.98(3H,s) 3.60−4.70(4H,m) 5.30(4H,s) 5.30−5.50(1H,m) 7.50(4H,d,J=9.0) 8.17(4H,d,J=9.0) 実施例11. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)ヒドラジン NH2NH2・H2O→(NHCO2CH2CH=CH2 ヒドラジン・水和物(80%)6.26g(100ミリモル)と
炭酸水素ナトリウム20.16g(240ミリモル)をベンゼン2
00mlと水200mlの二層系溶媒に溶解した。この溶液に、
室温下、アリルオキシカルボニルクロライド24.10g(20
0ミリモル)のベンゼン100ml溶液を加えて5時間撹拌し
た。反応液の有機層を分液し、水層からの酢酸エチル抽
出液と合わせて飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去して白色固体の標題化合物1
7.76g(収率89%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 4.65(4H,brs) 5.1−5.5(4H,m) 5.7−6.2(2H,m) 6.85(2H,brs) 実施例12. ジアリル1,2−ジ(メトキシカルボニルメチル)−1,2−
ヒドラジンジカルボキシレート 上記実施例11.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)ヒドラジン12.9g(64.5ミリモル)のテトラヒ
ドロフラン600ml溶液に、室温下、水素化ナトリウム(5
5%)5.63g(129ミリモル)を加えて、室温で20分間撹
拌した。この反応溶液にジメチルホルムアミド60mlおよ
びブロモ酢酸メチルエステル15.2ml(160ミリモル)を
加えて、さらに室温で18時間撹拌した。次いで、1N塩酸
水溶液を加えて、反応溶液を酸性にし、テトラヒドロフ
ランを減圧留去した。残留水溶液から酢酸エチルで抽出
した有機層を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下溶媒を留去した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(クロロホルム:アセトン=20:1)に付
し、白色固体の標題化合物20.2g(収率91%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.71(6H,s) 3.8−4.0(2H,m) 4.6−4.75(6H,m) 5.15−5.32(4H,m) 5.7−6.2(2H,m) 実施例13. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシカ
ルボニルピラゾリジン−4−オン 上記実施例12.で得られたジアリル1,2−ジ(メトキシ
カルボニルメチル)−1,2−ヒドラジンジカルボキシレ
ート17.2g(50ミリモル)のテトラヒドロフラン500ml溶
液に、水冷下、28%のナトリウムメトキサイド・メタノ
ール溶液19.3ml(100ミリモル)を1時間かけて加え
た。この溶液を室温まで昇温し、1時間撹拌した後、1N
塩酸水溶液を加えて酸性にし、テトラヒドロフランを濃
縮留去した。濃縮残渣からクロロホルムで抽出した有機
層を、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮留去し
た。これにより得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(クロロホルム:アセトン=20:1)に付
し、無色油状の標題化合物5.04g(収率33%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.7−4.3(6H,m) 4.5−4.7(4H,m) 5.1−5.35(4H,m) 5.7−6.2(2H,m) IR(neat)cm-1:1.720 実施例14. 3−メトキシカルボニル−1,2−ジ(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)ピラゾリジン−4−オン ヒドラジン水和物(80%)6.26g(100ミリモル)を用
いて、上記実施例11ないし13に記載した方法と同様の方
法に従つて、標題化合物16.08g(収率32%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.80(3H,s) 5.38(4H,s) 7.48(4H,d,J=9.0) 8.15(4H,d,J=9.0) 実施例15. 1,2−ジベンゾイルピラゾリジン−4−オン 上記実施例11および12に記載した方法と同様の方法に
従つて得られた1,2−ジベンゾイル−1,2−ジ(メトキシ
カルボニル)ヒドラジン1.35g(3.52ミリモル)のTHF50
ml溶液に、カリウムtert−ブトキサイド448mg(4.0ミリ
モル)を加えて、30分間加熱還流した。反応終了後、溶
媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(クロロホルム:n−ヘキサン=1:
1)に付して、標記化合物130mg(収率11.5%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.8(4H,s) 7.3−8.1(10H,m) 実施例16. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキシ
−3−メトキシカルボニルピラゾリジン(その1) 上記実施例13.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−3−(メトキシカルボニル)ピラゾリジン−
4−オン740mg(2.38ミリモル)のメタノール5ml溶液
に、室温下、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム1.56
g(13ミリモル)を加えて1時間撹拌した。反応溶液に1
N塩酸水溶液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出
した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒
を留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付
し、無色油状の標題化合物200mg(収率27%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.75(3H,s) 3.6−4.2(4H,m) 4.5−4.7(4H,m) 5.1−5.5(4H,m) 5.6−6.2(2H,m) IR(neat)cm-1;3450、1720 実施例17. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキシ
−3−メトキシカルボニルピラゾリジン(その2) 上記実施例13.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−
オン150mg(0.48ミリモル)のテトラヒドロフラン15ml
溶液を−20℃まで冷却し、これに、Zn(BH4のジエ
チルエーテル溶液8.57ml(2ミリモル)を加えた後、室
温まで昇温して12時間撹拌した。反応溶液に1N塩酸水溶
液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して
得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)に付し、無色油
状の標題化合物9mg(収率6%)を得た。
本品のNMRスペクトルは、実施例16で得られたものと
完全に一致した。
実施例18. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−エトキシカ
ルボニル−4−ヒドロキシピラゾリジン 上記実施例13.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−
オン54mg(0.173ミリモル)のエタノール5ml溶液に、水
冷下、水素化ホウ素ナトリウム46mg(1.22ミリモル)を
加えて2時間撹拌した。反応溶液に1N塩酸水溶液を加え
て酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して得られる
濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(n−
ヘキサン:酢酸エチル=1:1)に付し、無色油状の標題
化合物10mg(収率18.5%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 1.28(3H,t,J=7) 3.6−4.1(4H,m) 4.23(2H,q,J=7) 4.5−4.7(4H,m) 5.1−5.4(4H,m) 5.7−6.2(2H,m) 実施例19. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキシ
−3−ヒドロキシメチルピラゾリジン 上記実施例13.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−
オン150mg(0.48ミリモル)のTHF15ml溶液を−20℃まで
冷却し、この溶液にZn(BH4のジエチルエーテル溶
液8.57ml(2ミリモル)を加えて、同温度で2時間、0
℃で2時間、さらに室温で12時間撹拌した。1N塩酸水溶
液を加えて反応を終了させた後、溶媒を減圧留去した。
濃縮残留物を酢酸エチルで抽出して硫酸マグネシウムで
乾燥した後、溶媒を留去して得られた残渣もシリカゲル
カラムクロマトグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチル
=1:1)に付して、淡黄色油状の標題化合物4mg(収率1.
4%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 1.5−2.3(2H,b) 3.1−3.5(4H,m) 3.2−3.5(3H,m) 3.6−3.85(2H,m) 3.9−4.1(1H,m) 4.5−4.7(4H,m) 5.7−6.2(2H,m) 実施例20. 4−ヒドロキシ−3−ヒドロキシメチル−1,2−ジ(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン 上記実施例14.で得られた3−メトキシカルボニル−
1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラ
ゾリジン−4−オン−128mg(0.255ミリモル)のメタノ
ール5ml溶液に室温下水素化ホウ素ナトリウム80mg(2.1
2ミリモル)を40分間にわたり徐々に加えた。反応終了
後、1N塩酸水溶液を加えて溶液を酸性にし、クロロホル
ムで抽出した。該クロロホルム溶液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた濃縮残渣
をシリカゲルクロマトグラフイー(クロロホルム)に付
し、淡黄色柱状結晶の標題化合物60mg(収率49%)を得
た。
H−NMR(CDCl3)δ; 1.9〜2.1(1H,b) 3.2〜3.5(2H,m) 3.6〜3.8(3H,m) 5.20(4H,s) 5.0〜5.4(1H,b) 7.45(4H,d,J=9Hz) 8.20(4H,d,J=9Hz) 実施例21. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−クロロ−3
−メトキシカルボニルピラゾリジン 上記実施例16.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニルピ
ラゾリジン74mg(0.24ミリモル)のテトラヒドロフラン
5ml溶液を−20℃まで冷却して、チオニルクロライド89
μ(1.2ミリモル)とピリジン98μ(1.2ミリモル)
を加え、4℃まで昇温して終夜撹拌した。反応溶液に酢
酸エチルを加えて水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下溶液を留去して得られた濃縮残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=5:1)に付し、淡黄色油状の標題化合物40mg(収率5
2%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.4〜4.2(4H,m) 3.73(3H,s) 4.6〜5.0(4H,m) 5.2−5.5(4H,m) 実施例22. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシカ
ルボニル−4−メチルスルホニルオキシピラゾリジン 上記実施例16.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニルピ
ラゾリジン50mg(0.16ミリモル)を用いて、実施例4.に
記載した方法と同様の方法に従つて、標題化合物60.6mg
(収率97%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 2.81(3H,s) 3.75(3H,s) 3.6〜4.2(4H,m) 4.5〜4.7(4H,m) 5.6〜6.2(2H,m) 実施例23. 1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキシ
ピラゾリジン−3−カルボン酸 上記実施例16.で得られた1,2−ジ(アリルオキシカル
ボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニルピ
ラゾリジン40mg(0.12ミリモル)をTHF4mlと水0.5mlの
混合溶媒に溶解し、水冷下、1N水酸化ナトリウム水溶液
0.12mlを加えて1時間撹拌した。反応終了後、1N塩酸水
溶液を加えて溶液を酸性にし、酢酸エチルで抽出して、
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去して
得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(クロロホルム:メタノール=10:1)に付し、無色油
状の標題化合物16mg(収率44%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.6〜4.3(4H,m) 4.5〜4.8(4H,m) 5.1〜5.5(4H,m) 5.7〜6.2(2H,m) 実施例24 アリルヒドラジン・2塩酸塩 抱水ヒドラジン377g(7.54モル)のエタノール760ml
溶液に、水冷下ギ酸エチル726ml溶液に、水冷下ギ酸エ
チル726ml(9.0モル)を1時間かけて滴下した。水冷下
で30分間撹拌し、さらに室温で14時間撹拌したのち反応
液をアセトン1011ml(15.0モル)に30分間かけて加え、
さらに30分間撹拌した。反応液を濃縮乾固して得られた
白色個体を、メタノール1100mlに溶解し、これに室温で
ナトリウムメトキシドを28%濃度で含むメタノール溶液
1832g(9.5モル)を一度に加えて30分間加熱還流した。
この反応溶液に、水冷下臭化アリル1,254g(10.4モル)
を加え、水冷下1時間撹拌し、さらに30分間加熱還流し
た。反応溶液を室温まで放冷後、水冷した2N HCl−水性
メタノール11に加えて室温で14時間撹拌した。反応液
を濃縮乾固して得た残渣をエタノール3に転溶し、不
溶解物を濾去する。この濾液の溶媒を留去して得た残渣
を、少量のTHFで洗浄後、真空乾燥して標題化合物907g
(収率84%)を得た。
H−NMR(CD3OD)δ; 3.87(2H,d,J=6.0) 5.43〜5.73(2H,m) 5.82〜6.25(1H,m) 実施例25 1−アリル−1,2−ジ−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)ヒドラジン クロロp−ニトロベンジルホルメート923g(4.3モ
ル)の1,4−ジオキサン2,000ml溶液に上記実施例24.で
得られたアリルヒドラジン2塩酸塩435g(3.0モル)、
炭酸水素ナトリウム(粉末)1050g(12.5モル)を加え
た後、この溶液に、強撹拌下、水40mlを加えた。激しい
発泡が静まった後、さらに水560mlを加えて1時間撹拌
した。反応液の有機層を分液し、水層からの酢酸エチル
抽出液と合わせて溶媒を留去して、得られた粗生成物を
酢酸エチルから再結晶により精製し、標題化合物831g
(収率90%)を得た。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.96(2H,d,J=6.3) 4.93〜5.80(7H,m) 6.62(1H,s) 7.26(4H,d,J=6.5) 7.97(4H,d,J=6.5) 実施例26 1−(2,3−ジブロモプロピル)−1,2−ジ(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)ヒドラジン 上記実施例25.で得られた1−アリル−1,2−ジ(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ヒドラジン831g(1.
93ミリモル)のクロロホルム/エタノール(3:1)の2,8
00ml溶液に−20℃ないし0℃で臭素372g(2.32モル)を
滴下した。10分後、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液550ml
を加え、反応液を分液し得られた有機層を飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、真空乾燥して標題化合
物1133g(収率定量的)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.55〜4.60(5H,m) 5.30(4H,s) 7.52(4H,d,J=8.0) 8.21(4H,d,J=8.0) 実施例27 4−ブロモ−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン 上記実施例26.で得られた1−(2,3−シブロモプロ
ル)1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
ヒドラジン1133g(1.92モル)のアセトニトリル19.2
溶液に無水炭酸カリウム(粉末)530g(4.0モル)を加
えて、70℃で4時間撹拌した。室温まで放冷した後生ず
る沈澱を濾去し、濾液を濃縮乾固して標題化合物979g
(収率定量的)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 3.55−4.60(5H,m) 5.30(4H,s) 7.52(4H,d,J=8.0) 8.21(4H,d,J=8.0) 実施例28. 3−クロロ−1,2−ジ(エトキシカルボニル)ピラゾリ
ジン−4−オン イソプロピルアミン0.706mlを10mlの無水テトラヒド
ロフランに溶解して、窒素気流中−78℃まで冷却した。
この溶液に1.6M n−ブチルリチウム3.5mlを加えて、同
温度のまま、窒素気流中で30分間撹拌した。該溶液全量
およびジエチルアゾジカルボキシレート870mg(5.0ミリ
モル)を、窒素気流中−78℃に冷却した1,3−ジクロロ
アセトン635mgのテトラヒドロフラン10ml溶液に加え
て、同温度のまま1時間、0℃まで昇温して1時間、さ
らに室温にて1時間撹拌した。反応終了後、溶液を冷や
した飽和塩化アンモニウム水溶液に投入して、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー(クロロホルム)に付して、
標題化合物740mg(収率56%)を得た。
H−NMR(CDCl3)δ; 1.26(6Hs,t,J=6Hz) 3.7〜3.9(3H,m) 4.20(4H,q,J=6Hz) 参考例1 4−アセチルチオ−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)ピラゾリジン 実施例27.で得られた4−ブロモ−1,2−ジ(p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン978g(1.92
モル)のアセトン9.6溶液にチオ酢酸カリウム328g
(2.88モル)を加え、室温で4時間撹拌した。反応液を
濃縮し、クロロホルム10に溶解して10%クエン酸水溶
液、次いで飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を留去して得た残渣に酢酸エチル1.5
を加えて、一夜放置して、析出した結晶を集め真空乾燥
して標題化合物776g(収率80%)を得た。
m.p.:148〜149℃1 H−NMR(CDCl3)δ; 2.32(3H,s) 3.05−4.90(5H,m) 5.30(4H,s) 7.50(4H,d,J=8.5) 8.20(4H,d,J=8.5) 参考例2 4−メルカプト−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ピラゾリジン 参考例1.で得られた4−アセチルチオ−1,2−ジ(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン774g
(1.53モル)のテトラヒドロフラン6およびメタノー
ル6の混合溶媒に溶解し、これに氷冷下、ナトリウム
メトキシドを28%濃度で含むメタノール溶液285g(1.53
モル)を添加する。5分間撹拌後、1N塩酸1.6を加え
た後溶媒を留去する。濃縮残渣を酢酸エチルで抽出し、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を濃縮乾固して標題化合物707g(収率定量的)
を得た。
本品は酢酸エチル−テトラヒドロフラン(3:1)混合
溶媒に溶解し、n−ヘキサンと処理することにより融点
122℃の結晶を与える。1 H−NMR(CDCl3)δ; 3.2−4.5(5H,m) 5.28(4H,s) 7.48(4H,d,J=9.0) 8.17(4H,d,J=9.0)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式(I): 式中、R1はハロゲン原子、水酸基または保護された水酸
    基を表わし、R2は水素原子、アルキル基またはアミノ保
    護基を表わし、R3は低級アルコキシカルボニル基、ヒド
    ロキシメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子を
    表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびその塩。
  2. 【請求項2】次式(II): 式中、R2およびR3は請求項1に記載の定義と同一の意味
    を表わす、 で示されるピラゾリジン−4−オン誘導体およびその
    塩。
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