JPH0267269A - ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体 - Google Patents
ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、医薬品の合成原料として有用な、新規ピラゾ
リジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体に関し、より
詳細には、次式(I)および(U):式中、R1はハロ
ゲン原子、水酸基または保護された水酸基を表わし、R
sは水素原子、アルキル基またはアミノの保護基を表わ
し、Hsは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子
を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘
導体を提供するものである。
リジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体に関し、より
詳細には、次式(I)および(U):式中、R1はハロ
ゲン原子、水酸基または保護された水酸基を表わし、R
sは水素原子、アルキル基またはアミノの保護基を表わ
し、Hsは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子
を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘
導体を提供するものである。
これらの化合物は、抗生物質の生理活性を修飾する目的
で種々の化合物に置換基として導入することが出来る、
有用な合成原料である。
で種々の化合物に置換基として導入することが出来る、
有用な合成原料である。
たとえば、本発明者らは、これまでに広範囲な抗菌スペ
クトラムを有する抗生物質であるカルバペネム化合物の
合成検索を行ってきており、特にカルバペネム骨格の1
位にβ−配置のメチル基を導入し、さらに2位の側鎖と
して4−ピラゾリジニルチオ基を導入した次式(A): 式中、H&およびHbは水素原子または有機置換残基を
表わす、 で示される(IR,55,65)−2−[(4−ピラゾ
リジニル)チオ] −6−[(R) −1−とドロキシ
エチルj−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘
導体に優れた抗菌活性が認められることを見出してきて
いる。
クトラムを有する抗生物質であるカルバペネム化合物の
合成検索を行ってきており、特にカルバペネム骨格の1
位にβ−配置のメチル基を導入し、さらに2位の側鎖と
して4−ピラゾリジニルチオ基を導入した次式(A): 式中、H&およびHbは水素原子または有機置換残基を
表わす、 で示される(IR,55,65)−2−[(4−ピラゾ
リジニル)チオ] −6−[(R) −1−とドロキシ
エチルj−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸誘
導体に優れた抗菌活性が認められることを見出してきて
いる。
この上記式(A)で示される特異的カルバペネム化合物
は、カルバペネム系抗生物質として現実の使用に供され
ているイミペネムに匹敵する抗菌活性を示すとともに、
腎デヒドロペプチダーゼ(PHP−1)に対する耐性は
イミベネムの数十倍にも及ぶものであって、その薬理活
性は特に優れたものであることが認められている。
は、カルバペネム系抗生物質として現実の使用に供され
ているイミペネムに匹敵する抗菌活性を示すとともに、
腎デヒドロペプチダーゼ(PHP−1)に対する耐性は
イミベネムの数十倍にも及ぶものであって、その薬理活
性は特に優れたものであることが認められている。
ところで、カルバペネム化合物の薬理活性は、その2位
に側鎖として導入する置換基によって影響を受けること
が知られており、当該置換基の開発は、臨床上有用なカ
ルバペネム化合物を開発するうえで重要な意味を持つ。
に側鎖として導入する置換基によって影響を受けること
が知られており、当該置換基の開発は、臨床上有用なカ
ルバペネム化合物を開発するうえで重要な意味を持つ。
しかし、従来、本発明で掲げる特定の化合物について、
具体的に詳細な検討を加えた例は報告されていない。
具体的に詳細な検討を加えた例は報告されていない。
本発明で提供する化合物は、上記式(A)で示すカルバ
ペネム化合物の2位に側鎖として導入される次式: 式中、88%RbおよびRcは上記定義と同一の意味を
表わし、Rdは水素原子または有機置換残基を表わす、 で示される種々のメルカプトとラゾリジン誘導体の重要
な合成原料となるものである。
ペネム化合物の2位に側鎖として導入される次式: 式中、88%RbおよびRcは上記定義と同一の意味を
表わし、Rdは水素原子または有機置換残基を表わす、 で示される種々のメルカプトとラゾリジン誘導体の重要
な合成原料となるものである。
以下に、式(1)および(II)の化合物の具体的な製
造法を述べ、本発明を説明する。
造法を述べ、本発明を説明する。
なお、本明細書において使用される用語として、「アル
キル基」とは、炭素原子数1〜6個の、直鎖状もしくは
分枝鎖状の低級アルキル基を意味し、例えば、メチル、
エチル、n−プロピル、1so−プロピル、n−ブチル
、1so−ブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、1so−ペンチル、n−ヘキシル、1
so−ヘキシル基等が包含される。
キル基」とは、炭素原子数1〜6個の、直鎖状もしくは
分枝鎖状の低級アルキル基を意味し、例えば、メチル、
エチル、n−プロピル、1so−プロピル、n−ブチル
、1so−ブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、1so−ペンチル、n−ヘキシル、1
so−ヘキシル基等が包含される。
「アルカノイル基」としては、アセチル、グロピオニル
、ブチロイル基等を例示することができる。
、ブチロイル基等を例示することができる。
「アリール基」は単環式または多環式であり、さらに環
上に1個もしくはそれ以上のアルキル基を有していても
よく、例えば、フェニル、トリル、キシリル、a−す7
チル、β−ナフチル基等が包含される。
上に1個もしくはそれ以上のアルキル基を有していても
よく、例えば、フェニル、トリル、キシリル、a−す7
チル、β−ナフチル基等が包含される。
「アラルキル基」とは、アルキル基およびアリール基が
それぞれ上記の意味を有するアリール置換アルキル基で
あり、具体的にはベンジル、ベンズヒドリル、トリチル
、p−メトキシベンジル、フェネチル、a−メチルベン
ジル、フェニルプロピル、ナフチルメチル基等を例示す
ることができる。
それぞれ上記の意味を有するアリール置換アルキル基で
あり、具体的にはベンジル、ベンズヒドリル、トリチル
、p−メトキシベンジル、フェネチル、a−メチルベン
ジル、フェニルプロピル、ナフチルメチル基等を例示す
ることができる。
「アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル
基等を例示することができる。
ニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル
基等を例示することができる。
「アミン保護基」としては、ペプチド化学の分野におい
てアミ7基の保護基として既知の、任意の保護基が保護
されるが、好ましくは、エトキシカルボニル、tert
−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル等の飽
和あるいは不飽和アルコキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル
、p−メトキシベンジルオキシカルボニル等の置換ある
いは非置換ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる
。
てアミ7基の保護基として既知の、任意の保護基が保護
されるが、好ましくは、エトキシカルボニル、tert
−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル等の飽
和あるいは不飽和アルコキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル
、p−メトキシベンジルオキシカルボニル等の置換ある
いは非置換ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる
。
「水酸基の保護基」とは、ペプチド化学においてセリン
の水酸基の保護基として一般に知られている、任意の保
護基を意味し、たとえばアセチル、ベンゾイル、メタン
スルホニル、p−トルエンスルホニル等の脂肪族あるい
は芳香族アシル基、ベンジル、トリフェニルメチル等の
アラルキル基、ベンジルオキシカルボニル オキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル等の置換あるいは非置換ベンジルオキシカルボニル
基の他、tert−ブチルジフェニルシリル基、フェニ
ルイソプロピルジメチルシリル基等を例示することがで
きる。
の水酸基の保護基として一般に知られている、任意の保
護基を意味し、たとえばアセチル、ベンゾイル、メタン
スルホニル、p−トルエンスルホニル等の脂肪族あるい
は芳香族アシル基、ベンジル、トリフェニルメチル等の
アラルキル基、ベンジルオキシカルボニル オキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル等の置換あるいは非置換ベンジルオキシカルボニル
基の他、tert−ブチルジフェニルシリル基、フェニ
ルイソプロピルジメチルシリル基等を例示することがで
きる。
また、「アシル基」とは、脂肪族または芳香族カルボン
酸の水酸基を除いた部分を意味し、具体的には、アセチ
ル基、プロピオニル基等のアルカノイル基、およびベン
ゾイル基等が例示される。
酸の水酸基を除いた部分を意味し、具体的には、アセチ
ル基、プロピオニル基等のアルカノイル基、およびベン
ゾイル基等が例示される。
本発明が提供するピラゾリジン誘導体およびピラゾリジ
ノン誘導体は、たとえば以下の図1に示す経路に従って
製造することができる。
ノン誘導体は、たとえば以下の図1に示す経路に従って
製造することができる。
図 1
R’NHNHR’ R”OCON=
NCO2R”(III) 、
(IV)式中、R1ないしR3は上記定義と同一の意
味を表わし R4は水素原子またはアルキル基を表わし
、R6はアルキル基を表わす。
NCO2R”(III) 、
(IV)式中、R1ないしR3は上記定義と同一の意
味を表わし R4は水素原子またはアルキル基を表わし
、R6はアルキル基を表わす。
すなわち、式(III)で示されるヒドラジン誘導体を
原料とする[A]、[B]、[C]の方法、および式(
mV)で示されるジアルキルアゾジカルボキシレートを
原料とする[D]の方法を例示することができる。
原料とする[A]、[B]、[C]の方法、および式(
mV)で示されるジアルキルアゾジカルボキシレートを
原料とする[D]の方法を例示することができる。
以下に、それぞれの製造法を詳細に説明するが、本発明
の化合物を得る方法が、以下の方法に限定されるもので
ないことはいうまでもない。
の化合物を得る方法が、以下の方法に限定されるもので
ないことはいうまでもない。
式(I)で示される化合物は、次式[A] :製造法[
A] 製造法[B] NHzNHz・R20 R’NHNHR’ (I) 式中、R1ないしR4は上記定義と同一の意味を表わし
、Xはハロゲン原子を表わす、あるいは次式[B1 : J 式中 R1ないしR1およびXは上記定義と同一の意味
を表わし、R6はアミノ保護基を表わす、 で示される経路に従って合成することができる。
A] 製造法[B] NHzNHz・R20 R’NHNHR’ (I) 式中、R1ないしR4は上記定義と同一の意味を表わし
、Xはハロゲン原子を表わす、あるいは次式[B1 : J 式中 R1ないしR1およびXは上記定義と同一の意味
を表わし、R6はアミノ保護基を表わす、 で示される経路に従って合成することができる。
製造法[A]は、ヒドラジン誘導体に式(V)で示され
るエビハロヒドリンを反応させて、得られる反応生成物
の遊離の水酸基および/あるいはアミノ基を保護するこ
とによって、式(■)で示される化合物を製造する方法
である。
るエビハロヒドリンを反応させて、得られる反応生成物
の遊離の水酸基および/あるいはアミノ基を保護するこ
とによって、式(■)で示される化合物を製造する方法
である。
反応は、ヒドラジン誘導体を、不活性有機溶媒、タトエ
ハメタノール、エタノール、n−プロパツール、インプ
ロパツール、n−ブタノール等のアルコール類、テトラ
ヒドロ7ラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素等の他、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、酢酸エチル、アセトン等の中から選択される適当な
溶媒に溶解させる。この溶液を一30℃ないし50℃程
度の温度で撹拌下、式(V)のエピハロヒドリンを数分
間ないし1時間かけて加え、上記温度のままさらに1時
間ないし4時間撹拌する(工程(i))。
ハメタノール、エタノール、n−プロパツール、インプ
ロパツール、n−ブタノール等のアルコール類、テトラ
ヒドロ7ラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素等の他、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、酢酸エチル、アセトン等の中から選択される適当な
溶媒に溶解させる。この溶液を一30℃ないし50℃程
度の温度で撹拌下、式(V)のエピハロヒドリンを数分
間ないし1時間かけて加え、上記温度のままさらに1時
間ないし4時間撹拌する(工程(i))。
本反応で用いられるヒドラジン誘導体としては、特定の
水分を含有するヒドラジン水和物、あるいは抱水ヒドラ
ジンのほか、l、2−ジメチルヒドラジン・2塩酸塩等
のジアルキルヒドラジンを例示することができる。また
、エピハロヒドリンとしては、例えばエビブロモヒドリ
ン、エビクロロヒドリン等が好ましく用いられる。
水分を含有するヒドラジン水和物、あるいは抱水ヒドラ
ジンのほか、l、2−ジメチルヒドラジン・2塩酸塩等
のジアルキルヒドラジンを例示することができる。また
、エピハロヒドリンとしては、例えばエビブロモヒドリ
ン、エビクロロヒドリン等が好ましく用いられる。
反応終了後、溶媒を留去して得られる反応生成物は、精
製処理をすることなく、上記不活性有機溶媒の中から選
ばれた適当な溶媒に溶解し、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在
下、所望のクロル炭酸化合物、例えばエトキシカルボニ
ルクロライド、アリルオキシカルボニルクロライド、ベ
ンジルオキシカルボニルクロライド、tert−ブトキ
シカルボニルクロリド等を作用させて、7ミノ基を保護
することによって式(I)で示される化合物へ誘導する
ことができる。該反応は、室温程度で1時間ないし6時
間で完結する(工程00)。
製処理をすることなく、上記不活性有機溶媒の中から選
ばれた適当な溶媒に溶解し、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在
下、所望のクロル炭酸化合物、例えばエトキシカルボニ
ルクロライド、アリルオキシカルボニルクロライド、ベ
ンジルオキシカルボニルクロライド、tert−ブトキ
シカルボニルクロリド等を作用させて、7ミノ基を保護
することによって式(I)で示される化合物へ誘導する
ことができる。該反応は、室温程度で1時間ないし6時
間で完結する(工程00)。
得られる反応生成物は、カラムクロマトグラフィーに付
して、単離精製することができる。
して、単離精製することができる。
製造法[B]は、ヒドラジン・水和物をホルミル化した
のち、遊離のアミノ基をいわゆるシッフ塩基として保護
して式(Vl)で示される化合物を得る。この化合物(
Vl)にアリル基を導入した後、ホルミル基を脱離させ
、さらにシップ塩基を加水分解して得られる化合物のア
ミノ基をアミノ保護基で保護し式(■)の化合物を得る
。次いで、このアリルヒドラジン誘導体にハロゲン原子
を付加させた後、閉環反応を行なわせて式(1)の化合
物へ誘導する方法である。
のち、遊離のアミノ基をいわゆるシッフ塩基として保護
して式(Vl)で示される化合物を得る。この化合物(
Vl)にアリル基を導入した後、ホルミル基を脱離させ
、さらにシップ塩基を加水分解して得られる化合物のア
ミノ基をアミノ保護基で保護し式(■)の化合物を得る
。次いで、このアリルヒドラジン誘導体にハロゲン原子
を付加させた後、閉環反応を行なわせて式(1)の化合
物へ誘導する方法である。
反応は、ヒドラジン水和物を上記の適当な不活性有機溶
媒に溶解し、溶液を一30℃ないし50℃程度の温度で
撹拌下、ギ酸エチルを10分間ないし2時間かけて滴下
し、滴下終了後さらに2時間ないし20時間、0℃ない
し80℃程度の温度下で撹拌した後、反応溶液をアセト
ンに10分間ないし2時間かけて添加して、さらに30
分間ないし20時間、0℃ないし80℃程度の温度で撹
拌する(工程(至))。
媒に溶解し、溶液を一30℃ないし50℃程度の温度で
撹拌下、ギ酸エチルを10分間ないし2時間かけて滴下
し、滴下終了後さらに2時間ないし20時間、0℃ない
し80℃程度の温度下で撹拌した後、反応溶液をアセト
ンに10分間ないし2時間かけて添加して、さらに30
分間ないし20時間、0℃ないし80℃程度の温度で撹
拌する(工程(至))。
上記反応で得られる式(Vl)で示される化合物は反応
溶媒を留去したのち、精製することなく、そのまま上記
適当な不活性有機溶媒に溶解し、これに塩基、たとえば
ナトリウムメトキサイドのメタノール溶液を加えて10
分間ないし2時間、加熱還流する。次いで、この溶液を
一30℃から20℃程度まで冷却したのちハロゲン化ア
リルたとえば、臭化アリル、塩化アリル、ヨウ化アリル
等を加えて、そのままの温度で30分間ないし2時間撹
拌したのち、さらに30分間ないし2時間加熱撹拌して
反応を完結させる。次に、この反応溶液を再び一30℃
ないし20℃程度にまで冷却したのち、塩酸メタノール
溶液に投入して、室温にて5時間ないし20時間程度撹
拌する。反応終了後、溶媒を留去して得られる反応生成
物の塩酸塩を適当な不活性有機溶媒に溶解し、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン等の塩基の存在下、所望のクロル炭酸化合物、たと
えば、フタロイルクロライド、ベンジルオキシカルボニ
ルクロライド、tert−ブトキシカルボニルクロライ
ド、p−ニトロペンジルオキシカルボニルクロライド等
の化合物を作用させて、遊離のアミノ基をこれら保護基
で保護することによって、式(■)で示される化合物へ
誘導することができる(工程6v))。
溶媒を留去したのち、精製することなく、そのまま上記
適当な不活性有機溶媒に溶解し、これに塩基、たとえば
ナトリウムメトキサイドのメタノール溶液を加えて10
分間ないし2時間、加熱還流する。次いで、この溶液を
一30℃から20℃程度まで冷却したのちハロゲン化ア
リルたとえば、臭化アリル、塩化アリル、ヨウ化アリル
等を加えて、そのままの温度で30分間ないし2時間撹
拌したのち、さらに30分間ないし2時間加熱撹拌して
反応を完結させる。次に、この反応溶液を再び一30℃
ないし20℃程度にまで冷却したのち、塩酸メタノール
溶液に投入して、室温にて5時間ないし20時間程度撹
拌する。反応終了後、溶媒を留去して得られる反応生成
物の塩酸塩を適当な不活性有機溶媒に溶解し、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン等の塩基の存在下、所望のクロル炭酸化合物、たと
えば、フタロイルクロライド、ベンジルオキシカルボニ
ルクロライド、tert−ブトキシカルボニルクロライ
ド、p−ニトロペンジルオキシカルボニルクロライド等
の化合物を作用させて、遊離のアミノ基をこれら保護基
で保護することによって、式(■)で示される化合物へ
誘導することができる(工程6v))。
次に、上記工程6→で得られた式(■)のアリルヒドラ
ジン誘導体を不活性有機溶媒に溶解させたのち、−30
℃から20°C程度まで冷却し、該溶液にハロゲン、た
とえば臭素を10分間ないし2時間にわたって滴下して
、滴下終了後、さらに5分間ないし30分間撹拌する。
ジン誘導体を不活性有機溶媒に溶解させたのち、−30
℃から20°C程度まで冷却し、該溶液にハロゲン、た
とえば臭素を10分間ないし2時間にわたって滴下して
、滴下終了後、さらに5分間ないし30分間撹拌する。
この反応液に還元剤、例えば亜硫酸ナトリウム水溶液を
加えて反応を終了させる(工程(V))。
加えて反応を終了させる(工程(V))。
次に、上記工程(v)で得られた反応生成物を不活性有
機溶媒中に溶解して、これに炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の中から適
当に選択された塩基を加えて、40℃から100℃程度
の温度で1時間ないし6時間撹拌する(工程(VD )
。本反応の反応生成物をカラムクロマトグラフィーに付
すことによって、式(I[)で示される4−ハロ置換ピ
ラゾリジン誘導体を得ることができる。この式(II)
の化合物は、必要に応じて4位のハロゲン原子を水酸基
あるいは保護された水酸基と置換し、あるいは後述する
方法によってアミノ保護基を脱離せしめることにより、
式(1)の化合物へ誘導することができる(工程しゆ)
。
機溶媒中に溶解して、これに炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の中から適
当に選択された塩基を加えて、40℃から100℃程度
の温度で1時間ないし6時間撹拌する(工程(VD )
。本反応の反応生成物をカラムクロマトグラフィーに付
すことによって、式(I[)で示される4−ハロ置換ピ
ラゾリジン誘導体を得ることができる。この式(II)
の化合物は、必要に応じて4位のハロゲン原子を水酸基
あるいは保護された水酸基と置換し、あるいは後述する
方法によってアミノ保護基を脱離せしめることにより、
式(1)の化合物へ誘導することができる(工程しゆ)
。
上記製造法[A]および製造法[B]で説明した方法に
よって得られる式(1)の化合物において、置換基R3
は水素原子を意味する。
よって得られる式(1)の化合物において、置換基R3
は水素原子を意味する。
以下に、上記製造法によって得られるピラゾリジン誘導
体を例示すると、 4−ヒドロキシ−1,2−ジメチルピラゾリジン: 1.2−ジベンゾイル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−ヒドロ
キシピラゾリジン: 1.2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−ヒドロキシピラゾリジン:4−アセトキシ−1,2
−ジ(ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン: 4−ベンジルオキシ−1,2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン: 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−メチル
スルホニルオキシピラゾリジン:4−ベンゾイルオキシ
−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
ピラゾリジン:4−ベンゾイルオキシピラゾリジン・2
酢酸塩=1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4
−tert−ブチルジフェニルシリルオキシピラゾリジ
ン: 4− tert−ブチルジフェニルシリルオキシピラゾ
リジン・2酢酸塩: 4−7’ロモー1.2−’; (p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)ピラゾリジン 等を挙げることができる。
体を例示すると、 4−ヒドロキシ−1,2−ジメチルピラゾリジン: 1.2−ジベンゾイル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−ヒドロ
キシピラゾリジン: 1.2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−ヒドロキシピラゾリジン:4−アセトキシ−1,2
−ジ(ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン: 4−ベンジルオキシ−1,2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン: 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−メチル
スルホニルオキシピラゾリジン:4−ベンゾイルオキシ
−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
ピラゾリジン:4−ベンゾイルオキシピラゾリジン・2
酢酸塩=1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4
−tert−ブチルジフェニルシリルオキシピラゾリジ
ン: 4− tert−ブチルジフェニルシリルオキシピラゾ
リジン・2酢酸塩: 4−7’ロモー1.2−’; (p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)ピラゾリジン 等を挙げることができる。
一方、式(U)で示される化合物は、次式【C1:製造
法[C] R’NHNHR’ (X) (n) CαMC (n) (II) 式中、R1、R3、RゝおよびR1は上記定義と同一の
意味を表わす、 あるいは次式[D] : 製造法[D] R’0CON=NCO2R5 (IV) (X■) 、1び″3 J (II) 式中、R2、R3、RSおよびXは上記定義と同一の意
味を表わす、 で示される経路に従って合成することができる。
法[C] R’NHNHR’ (X) (n) CαMC (n) (II) 式中、R1、R3、RゝおよびR1は上記定義と同一の
意味を表わす、 あるいは次式[D] : 製造法[D] R’0CON=NCO2R5 (IV) (X■) 、1び″3 J (II) 式中、R2、R3、RSおよびXは上記定義と同一の意
味を表わす、 で示される経路に従って合成することができる。
製造法[C]は、ヒドラジン水和物の遊離のアミノ基を
アミノ保護基で保護した式(X)の化合物に、ハロゲン
置換酢酸のアルキルエステルを作用させて式(n)の化
合物としたのち、これに塩基を反応させて閉環せしめる
ことによって、式(]][)で示される化合物へ誘導す
る方法である。
アミノ保護基で保護した式(X)の化合物に、ハロゲン
置換酢酸のアルキルエステルを作用させて式(n)の化
合物としたのち、これに塩基を反応させて閉環せしめる
ことによって、式(]][)で示される化合物へ誘導す
る方法である。
反応は、ヒドラジン水和物を上記の適当な不活性有機溶
媒に溶解して、炭厳水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、上記クロ
ル炭酸化合物の中から適当に選択した試薬を室温程度で
1時間ないし6時間反応させて、式(X)で示される化
合物を得る。
媒に溶解して、炭厳水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、上記クロ
ル炭酸化合物の中から適当に選択した試薬を室温程度で
1時間ないし6時間反応させて、式(X)で示される化
合物を得る。
このヒドラジン誘導体を、上記不活性有機溶媒の中から
適当に選択された溶媒に溶解して、−2000ないし4
0°C程度の温度下に塩基、たとえばナトリウムメトキ
シド、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カ
リウム、n−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチウム
、tert−ブチルマグネシウム、リチウムジイソプロ
ピルアミド等のいずれかを加えて、20分間ないし4時
間撹拌し、該溶液に原料のヒドラジン誘導体に対して2
モル等量のハロゲン置換酢酸のアルキルエステル誘導体
を加えて、0℃ないし80℃程度の温度で30分間ない
し5時間撹拌する(工程6時)。
適当に選択された溶媒に溶解して、−2000ないし4
0°C程度の温度下に塩基、たとえばナトリウムメトキ
シド、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カ
リウム、n−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチウム
、tert−ブチルマグネシウム、リチウムジイソプロ
ピルアミド等のいずれかを加えて、20分間ないし4時
間撹拌し、該溶液に原料のヒドラジン誘導体に対して2
モル等量のハロゲン置換酢酸のアルキルエステル誘導体
を加えて、0℃ないし80℃程度の温度で30分間ない
し5時間撹拌する(工程6時)。
上記反応で得られる式(XI)で示される化合物は、結
晶化法あるいはカラムクロマトグラフィーに付して単離
精製したのち、上記不活性溶媒のいずれかに溶解し、塩
基、たとえばナトリウムアルコキシド、あるいは水素化
ナトリウムを加えて0℃ないし60°C程度の温度で2
0分間から3時間撹拌しく工程OQ1反応終了後、得ら
れる粗生成物をたとえばカラムクロマトグラフィーに付
すことによって式(n[)のピラゾリジン−4−オン誘
導体を単離精製することができる。この式(II)の化
合物は、必要に応じて3位のアルコキシカルボニル基を
加水分解もしくは還元し、あるいは後述する方法によっ
てアミノ保護基を脱離せしめることにより、式(I)の
化合物へ誘導することができる(工程凶)。
晶化法あるいはカラムクロマトグラフィーに付して単離
精製したのち、上記不活性溶媒のいずれかに溶解し、塩
基、たとえばナトリウムアルコキシド、あるいは水素化
ナトリウムを加えて0℃ないし60°C程度の温度で2
0分間から3時間撹拌しく工程OQ1反応終了後、得ら
れる粗生成物をたとえばカラムクロマトグラフィーに付
すことによって式(n[)のピラゾリジン−4−オン誘
導体を単離精製することができる。この式(II)の化
合物は、必要に応じて3位のアルコキシカルボニル基を
加水分解もしくは還元し、あるいは後述する方法によっ
てアミノ保護基を脱離せしめることにより、式(I)の
化合物へ誘導することができる(工程凶)。
製造法[D]は、式(IV)で示されるジアルキルアゾ
ジカルボキシレートに式(Xn[)の1.3−一ソハロ
置換アセトンを作用させることIこよって式(X ■)
で示される3−ハロ置換ピラゾリジン−4−オン誘導体
へ導く方法である。
ジカルボキシレートに式(Xn[)の1.3−一ソハロ
置換アセトンを作用させることIこよって式(X ■)
で示される3−ハロ置換ピラゾリジン−4−オン誘導体
へ導く方法である。
反応は、l、3−ジハロ置換アセトンを上記不活性有機
溶媒のいずれかに溶解し、この溶液を一78°Cないし
一20℃まで冷却したのち、塩基、I;とえばn−ブチ
ルリチウムおよび式(IV)の化合物を加えて一78℃
ないし室温程度の温度で1時間から5時間撹拌する(工
程(xi))。該反応で得られる式(X IV)の化合
物はカラムクロマトグラフィーに付して精製単離するこ
とができる。
溶媒のいずれかに溶解し、この溶液を一78°Cないし
一20℃まで冷却したのち、塩基、I;とえばn−ブチ
ルリチウムおよび式(IV)の化合物を加えて一78℃
ないし室温程度の温度で1時間から5時間撹拌する(工
程(xi))。該反応で得られる式(X IV)の化合
物はカラムクロマトグラフィーに付して精製単離するこ
とができる。
上記反応で得られた式(xrv)の3−ハロ置換ピラゾ
リジン−4−オン誘導体は、必要に応じて後述する方法
によってアミノ保護基を脱離せしめることにより、式(
II)の化合物へ誘導することができる。
リジン−4−オン誘導体は、必要に応じて後述する方法
によってアミノ保護基を脱離せしめることにより、式(
II)の化合物へ誘導することができる。
以上の製造法[C]あるいは製造法[D]に示す方法に
よって得られた式(II)の化合物は、必要に応じて更
に、以下に示す製造法[E]に従って、式(I)でしめ
されるピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
よって得られた式(II)の化合物は、必要に応じて更
に、以下に示す製造法[E]に従って、式(I)でしめ
されるピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
製造法[E]
R1
(I[)
式中 R1ないしR3は上記定義と同一の意味を表わす
。
。
すなわち、式(II)で示されるピラゾリジン−4−オ
ン誘導体に水素化金属化合物を作用させることによって
式(I)のピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
ン誘導体に水素化金属化合物を作用させることによって
式(I)のピラゾリジン誘導体へ導くことができる。
反応は、式(…)の化合物を、上記した適当な不活性有
機溶媒に溶解し、これに水素化金属化合物、たとえば、
水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム
、三アルコキシ水素化ホウ素ナトリウム等の中から適当
に選択される還元剤を加えて、0°Cないし60℃程度
の温度で30分間から5時間撹拌することにより行なう
ことができる(工程(xi) )。本反応によって得ら
れる反応生成物をカラムクロマトグラフィーに付するこ
とによって、式(I)で示されるピラゾリジン誘導体を
得ることができる。
機溶媒に溶解し、これに水素化金属化合物、たとえば、
水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム
、三アルコキシ水素化ホウ素ナトリウム等の中から適当
に選択される還元剤を加えて、0°Cないし60℃程度
の温度で30分間から5時間撹拌することにより行なう
ことができる(工程(xi) )。本反応によって得ら
れる反応生成物をカラムクロマトグラフィーに付するこ
とによって、式(I)で示されるピラゾリジン誘導体を
得ることができる。
なお、本反応で用いられる水素化金属化合物の還元力に
よっては、出発物質である式(II)の化合物の置換基
R3が低級アルコキシカルボニル基の場合、式(1)に
おける置換基R3がヒドロキシメチル基である反応生成
物を得ることができる。
よっては、出発物質である式(II)の化合物の置換基
R3が低級アルコキシカルボニル基の場合、式(1)に
おける置換基R3がヒドロキシメチル基である反応生成
物を得ることができる。
以下に、上記製造法[C]、[D]および[E]によっ
て得られるピラゾリジノン誘導体およびピラゾリジン誘
導体を例示すると、 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−メトキ
シカルボニルピラゾリジン−4−オン:3−メトキシカ
ルボニル−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン−4−オン: 1.2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3メト
キシカルボニルピラゾリジン−4−オン=1.2−ジベ
ンゾイル−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−
オン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニルピラゾリジン−4−オン:3−メトキシカル
ボニルピラゾリジン−4−オン: 1.2−ジベンゾイル−3−ヒドロキシメチルピラゾリ
ジン−4−オン: 3−ヒドロキシメチルピラゾリジン−4−オン:4−オ
キソ−1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル 4−オキソ−1.2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)ピラゾリジン−3−カルボン酸: 4−オキソ−1.2−ジ(tart−ブトキシカルボニ
ル)ピラゾリジン−3−カルボン酸:1、2−ジ(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン−4−
オン: 1、2−ジベンゾイルピラゾリジン−4−オン:ピラゾ
リジン−4−オン: 3 70o−1.2−シ(エトキシカルボニル)ピラ
ゾリジン−4−オン: 3−ブロモ−1.2−ジ(tert−ブトキシカルボニ
ル)ピラゾリジン−4−オン: 3−クロロピラゾリジン−4−オン: 3−ブロモピラゾリジン−4−オン: 1、2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−クロロ
−4−ヒドロキシピラゾリジン=3ークロロ−4−ヒド
ロキシ−1.2−ジ(pニトロベンジルオキシカルボニ
ル)ピラゾリジン: 1、2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3−ク
ロロ−4−ヒドロキシピラゾリジン=1、2−ジベンゾ
イル−3−クロロ−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−クロロ−
4−ヒドロキシピラゾリジン:1.2−ジ(アリルオキ
シカルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボ
ニルピラゾリジン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−エトキシ
カルボニル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル ヒドロキシメチルピラゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シピラゾリジン−3−カルボン酸:4−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチル−1。
て得られるピラゾリジノン誘導体およびピラゾリジン誘
導体を例示すると、 1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−メトキ
シカルボニルピラゾリジン−4−オン:3−メトキシカ
ルボニル−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)ピラゾリジン−4−オン: 1.2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3メト
キシカルボニルピラゾリジン−4−オン=1.2−ジベ
ンゾイル−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−4−
オン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニルピラゾリジン−4−オン:3−メトキシカル
ボニルピラゾリジン−4−オン: 1.2−ジベンゾイル−3−ヒドロキシメチルピラゾリ
ジン−4−オン: 3−ヒドロキシメチルピラゾリジン−4−オン:4−オ
キソ−1,2−ジ(ベンジルオキシカルボニル 4−オキソ−1.2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)ピラゾリジン−3−カルボン酸: 4−オキソ−1.2−ジ(tart−ブトキシカルボニ
ル)ピラゾリジン−3−カルボン酸:1、2−ジ(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン−4−
オン: 1、2−ジベンゾイルピラゾリジン−4−オン:ピラゾ
リジン−4−オン: 3 70o−1.2−シ(エトキシカルボニル)ピラ
ゾリジン−4−オン: 3−ブロモ−1.2−ジ(tert−ブトキシカルボニ
ル)ピラゾリジン−4−オン: 3−クロロピラゾリジン−4−オン: 3−ブロモピラゾリジン−4−オン: 1、2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−3−クロロ
−4−ヒドロキシピラゾリジン=3ークロロ−4−ヒド
ロキシ−1.2−ジ(pニトロベンジルオキシカルボニ
ル)ピラゾリジン: 1、2−ジ(tert−ブトキシカルボニル)−3−ク
ロロ−4−ヒドロキシピラゾリジン=1、2−ジベンゾ
イル−3−クロロ−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−クロロ−
4−ヒドロキシピラゾリジン:1.2−ジ(アリルオキ
シカルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボ
ニルピラゾリジン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−エトキシ
カルボニル−4−ヒドロキシピラゾリジン: 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル ヒドロキシメチルピラゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−ヒドロキ
シピラゾリジン−3−カルボン酸:4−ヒドロキシ−3
−ヒドロキシメチル−1。
2−1”(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラ
ゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニル−4−メチルスルホニルオキシピラゾリジン
: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−クロロ−
3−メトキシカルボニルピラゾリジン:4−アセトキシ
−3−メトキシカルボニル−■。
ゾリジン: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−メトキシ
カルボニル−4−メチルスルホニルオキシピラゾリジン
: 1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−クロロ−
3−メトキシカルボニルピラゾリジン:4−アセトキシ
−3−メトキシカルボニル−■。
2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾ
リジン: 4−ベンジルオキソ−1.2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン 等を挙げることができる。
リジン: 4−ベンジルオキソ−1.2−ジ(ベンジルオキシカル
ボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン 等を挙げることができる。
以上の方法によって得られた式(1)および(II)の
ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体の水酸
基の保護基のおよび/あるいはアミノ保護基は、必要に
応じて、ペプチド化学において通常行なわれる方法、た
とえば加水分解または金属触媒による接触水素化等によ
って脱離させることかでさ、アミノ保護基を脱保護した
場合には、得られる化合物について、無機酸による、た
とえば塩酸塩、または、有機酸による、たとえば酢酸塩
クエン酸塩、あるいはシュウ酸塩等とすることができる
。
ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体の水酸
基の保護基のおよび/あるいはアミノ保護基は、必要に
応じて、ペプチド化学において通常行なわれる方法、た
とえば加水分解または金属触媒による接触水素化等によ
って脱離させることかでさ、アミノ保護基を脱保護した
場合には、得られる化合物について、無機酸による、た
とえば塩酸塩、または、有機酸による、たとえば酢酸塩
クエン酸塩、あるいはシュウ酸塩等とすることができる
。
本発明で提供する化合物は、たとえば、その構造中に有
する水酸基を、後述する参考例に示す方法と同様の方法
によってチオール基に変換して次式: 式中、R2およびR3は上記定義と同一の意味を表わす
、 で例示される種々のメルカプトピラゾリジン誘導体とす
ることができる。該化合物は次式に示すように、優れた
抗菌活性を持ち臨床上有用な抗生物質であるカルバペネ
ム誘導体を得るための、重要な合成原料となるものであ
る。
する水酸基を、後述する参考例に示す方法と同様の方法
によってチオール基に変換して次式: 式中、R2およびR3は上記定義と同一の意味を表わす
、 で例示される種々のメルカプトピラゾリジン誘導体とす
ることができる。該化合物は次式に示すように、優れた
抗菌活性を持ち臨床上有用な抗生物質であるカルバペネ
ム誘導体を得るための、重要な合成原料となるものであ
る。
式中、R1およびR3は上記定義と同一の意味を表わし
、Rはカルボキシル基の保護基を表わす。
、Rはカルボキシル基の保護基を表わす。
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明は、これらの記載によって何ら限定されるもの
ではない。
、本発明は、これらの記載によって何ら限定されるもの
ではない。
なお、以下の実施例の記載中、略号で示すもには、
THF :テトラヒドロフラン
DMF ニジメチルホルムアミド
2:ベンジルオキシカルボニル
PNZ : p−ニトロベンジルオキシカルボニル
Acニアセチル
の意味を表わすものとする。
実施例1
1、2−ジ(ベンゾイル)−4−ヒドロキシピラゾリジ
ン 抱水ヒドラジンl 9.3.? (0,386モル)
tl>エタノール33m12溶液を0℃まで冷却し、
これにエピクロルヒドリン18.9 (0,194モ
ル)全滴下して、同温度で1時間撹拌した。反応終了後
、溶媒を減圧留去して、THFIO00m12および飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液400mI2を加えて0°
Cまで冷却した。これに塩化ベンゾイル1362(0,
563モル)を滴下した後、室温で1時間撹拌した。反
応終了後、固形物を濾去し、濾液の溶媒を減圧留去して
得られた残渣をクロロホルムで抽出した。該溶液をIN
塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥しt;後
、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(クロロホルム:アセトン−5:1)に付
して、標題化合物142 (収率24%)を得た。
ン 抱水ヒドラジンl 9.3.? (0,386モル)
tl>エタノール33m12溶液を0℃まで冷却し、
これにエピクロルヒドリン18.9 (0,194モ
ル)全滴下して、同温度で1時間撹拌した。反応終了後
、溶媒を減圧留去して、THFIO00m12および飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液400mI2を加えて0°
Cまで冷却した。これに塩化ベンゾイル1362(0,
563モル)を滴下した後、室温で1時間撹拌した。反
応終了後、固形物を濾去し、濾液の溶媒を減圧留去して
得られた残渣をクロロホルムで抽出した。該溶液をIN
塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和
食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥しt;後
、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(クロロホルム:アセトン−5:1)に付
して、標題化合物142 (収率24%)を得た。
H−NMR(CDCI3)δ:
3.10 (IH,d)
3.40〜4.25 (4H,m)
4.55〜4.75 (1)1.m)
7.25−7.75 (lOH,m)実施例2
N 、N’−ジメチルヒドラジン・2塩酸塩2.66:
j (20ミリモル)のアセトニトリルloom<1溶
液に、ジイソプロピルエチルアミン2.581(20ミ
リモル)およびエビクロロヒドリンl。
j (20ミリモル)のアセトニトリルloom<1溶
液に、ジイソプロピルエチルアミン2.581(20ミ
リモル)およびエビクロロヒドリンl。
85I (20ミリモル)を加えて、15時間加熱還流
した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮残
渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:メタノール:28%アンモニア水溶液−100:
to:l)に付して、標題化合物596m1 (収率2
6%)を得た。
した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮残
渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:メタノール:28%アンモニア水溶液−100:
to:l)に付して、標題化合物596m1 (収率2
6%)を得た。
HNMR(CD C1s>δ:
2−7 (6H,s)
3.0=3−5 (4H,m)
実施例3
1.2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−4−抱水ヒ
ドラジン58.9 (1,16−T−ル)およびエビ
クロロヒドリン54.? (0,58モル)を用いて
、上記実施例1に記載した方法と同様の方法に従って、
標題化合物86ノ (収率42%)を得た。
ドラジン58.9 (1,16−T−ル)およびエビ
クロロヒドリン54.? (0,58モル)を用いて
、上記実施例1に記載した方法と同様の方法に従って、
標題化合物86ノ (収率42%)を得た。
HNMR(CDC1s)δ;
3.0〜4.3 (4H,m)
4.4〜4.8 (IH,1))
5.16 (4H,s)
7.29 (IOH,s)
実施例4
上記実施例3.で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン761
(0,214モル)のジクロルメタン600m(2溶液
を0℃まで冷却し、これにトリエチルアミン32.42
(o、321モル)、次イテ塩化メチルスルホニル3
6.689 (o、321モル)を加えた後、同温度で
30分間、および室温で30分間撹拌した。反応液をI
N塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去して標題化合物901 (収率100%)
を得た。
カルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン761
(0,214モル)のジクロルメタン600m(2溶液
を0℃まで冷却し、これにトリエチルアミン32.42
(o、321モル)、次イテ塩化メチルスルホニル3
6.689 (o、321モル)を加えた後、同温度で
30分間、および室温で30分間撹拌した。反応液をI
N塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去して標題化合物901 (収率100%)
を得た。
H−NMR(CDCI、)II 。
2.80 (3H,s)
3.0〜4.5 (4H,m)
5.19 (4H,s)
7.30 (IOH,s)
実施例5
8.00〜7.20 (15H,m)上記実施例3.
で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−
4−ヒドロキシピラゾリジン3.56jl (10ミ
リモル)のジクロルメタン50mQ溶液に、塩化ベンゾ
イル1.4m(1(12ミリモル)、トリエチルアミン
1.74m12(12ミリモル)8よび4−ジメチルア
ミノピリジン10m2を加えて、室温で12時間撹拌し
た。反応液をIN塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた濃縮残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エ
チル−4:1)に付して、標題化合物4.1? (収
率89%)を得た。
で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシカルボニル)−
4−ヒドロキシピラゾリジン3.56jl (10ミ
リモル)のジクロルメタン50mQ溶液に、塩化ベンゾ
イル1.4m(1(12ミリモル)、トリエチルアミン
1.74m12(12ミリモル)8よび4−ジメチルア
ミノピリジン10m2を加えて、室温で12時間撹拌し
た。反応液をIN塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた濃縮残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エ
チル−4:1)に付して、標題化合物4.1? (収
率89%)を得た。
HNMR(CDCI s>δ;
3.20〜4.80 (4H,m)
5.17 (4H,s)
5.50〜5.80 (l H,m)
実施例6
4−ベンゾイルオキシピラゾリジン・2酢酸塩上記実施
例5.で得られた4−ベンゾイルオキシ−1,2−ジ(
ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン460m7(
1ミリモル)をTHF5mQ、メタノール25m12お
よび酢酸0.5mQの混合溶媒に溶解して、これにlθ
%パラジウム炭素460m&を加え、4kl/cm”の
水素雰囲気下4時間反応させた。触媒を濾去し、溶媒を
減圧留去して標題化合物312mJ?(収率100%)
を得た。
例5.で得られた4−ベンゾイルオキシ−1,2−ジ(
ベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン460m7(
1ミリモル)をTHF5mQ、メタノール25m12お
よび酢酸0.5mQの混合溶媒に溶解して、これにlθ
%パラジウム炭素460m&を加え、4kl/cm”の
水素雰囲気下4時間反応させた。触媒を濾去し、溶媒を
減圧留去して標題化合物312mJ?(収率100%)
を得た。
H−NMR(CD30D−CDC13)J ;2.00
(6H,s) 2.90〜4.90 (5H,m) 7.20〜7.90 (5H,m) 8.50 (4H,b) 実施例7 terL−プチルジフェニルシリルオキシピラゾリジ5
.10 (4H,s) 7.20〜7.90 (20H,m)実施例8 上記実施例3.で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン3.65.
? (10ミリモル)のDMF 10−溶液にter
t−ブチルジフェニルクロロシラン3.3、? (1
2ミリモル)およびイミダゾール1.63、? (2
4ミリモル)を加えて、50℃で36時間撹拌した。反
応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた濃縮残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
−4:l)に付して、標題化合物5.517(収率93
%)を得た。
(6H,s) 2.90〜4.90 (5H,m) 7.20〜7.90 (5H,m) 8.50 (4H,b) 実施例7 terL−プチルジフェニルシリルオキシピラゾリジ5
.10 (4H,s) 7.20〜7.90 (20H,m)実施例8 上記実施例3.で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシピラゾリジン3.65.
? (10ミリモル)のDMF 10−溶液にter
t−ブチルジフェニルクロロシラン3.3、? (1
2ミリモル)およびイミダゾール1.63、? (2
4ミリモル)を加えて、50℃で36時間撹拌した。反
応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた濃縮残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル
−4:l)に付して、標題化合物5.517(収率93
%)を得た。
HN M R(CD CI s)δ;
1.00 (9H,s)
2.80〜4.70 (5H,m)
上記実施例7.で得られた1、2−ジ(ベンジルオキシ
カルボニル) 4−tert−ブチルジフェニルシリ
ルオキシピラゾリジン ミリモル)を用いて、実施例6.に記載した方法と同様
の方法に従って、標題化合物446mlC収率100%
)を得た。
カルボニル) 4−tert−ブチルジフェニルシリ
ルオキシピラゾリジン ミリモル)を用いて、実施例6.に記載した方法と同様
の方法に従って、標題化合物446mlC収率100%
)を得た。
H NMR (CDC I 3)δ;1、00 (9
H,s) 2、00 (6H,s) 2、90〜4.80 (5H,m) 7、2 0 〜7.8 0 ( 1 0 H.m)8、
4 5 (4 H,b) 実施例9 抱水ヒドラジン58jJ (1,16モル)およびエ
ビクロロヒドリン53.8.? (0,581モル)
を用いて、上記実施例1に記載した方法と同様の方法に
従って、標題化合物65.5j? (収率25%)を
得た。
H,s) 2、00 (6H,s) 2、90〜4.80 (5H,m) 7、2 0 〜7.8 0 ( 1 0 H.m)8、
4 5 (4 H,b) 実施例9 抱水ヒドラジン58jJ (1,16モル)およびエ
ビクロロヒドリン53.8.? (0,581モル)
を用いて、上記実施例1に記載した方法と同様の方法に
従って、標題化合物65.5j? (収率25%)を
得た。
H−NMR(CDC13)δ;
3.20〜4.40 (4H,m)
5.37 (4H,s)
5、OO〜5.40 (LH,m)
7.48 (4H,d、J−9,0)
8.15 (4H,d、J−9,0)
実施例10
4−メチルスルホニルオキシ−1,2−ジ(p −二ト
ロペンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン上記実施例
9.で得られた4−ヒドロキシ−1゜2−ジ(p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン57.oy
(0,128モル)を用いて、実施例4.に記載し
た方法と同様の方法に従って、標題化合物62.3.?
(収率93%)を得た。
ロペンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン上記実施例
9.で得られた4−ヒドロキシ−1゜2−ジ(p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン57.oy
(0,128モル)を用いて、実施例4.に記載し
た方法と同様の方法に従って、標題化合物62.3.?
(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl s)δ;
2.98 (3H,s)
3.60−4.70 (4H,m)
5.30 (4H,s)
5.30−5.50 (l H,m)
7.50 (4H,d、J−9,0)8.17 (4
H,d、J−9,0) 実施例11゜ 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)ヒドラジNH!
NH2・H!O→ (Nf(Co、CI、CH=C
H,)。
H,d、J−9,0) 実施例11゜ 1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)ヒドラジNH!
NH2・H!O→ (Nf(Co、CI、CH=C
H,)。
ヒドラジン・水和物(80%)6.2i(to。
ミリモル)と炭酸水素ナトリウム20.1i(240ミ
リモル)をベンゼア200m12と水200mQの二層
系溶媒に溶解した。この溶液に、室温下、アリルオキシ
カルボニルクロライド24.1Ojl(200ミリモル
)のベンゼンloOmQ溶液を加えて5時間撹拌した。
リモル)をベンゼア200m12と水200mQの二層
系溶媒に溶解した。この溶液に、室温下、アリルオキシ
カルボニルクロライド24.1Ojl(200ミリモル
)のベンゼンloOmQ溶液を加えて5時間撹拌した。
反応液の有機層を分液し、水層からの酢酸エチル抽出液
と合わせて飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して白色固体の標題化合物17.
761(収率89%)を得た。
と合わせて飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去して白色固体の標題化合物17.
761(収率89%)を得た。
’H−NMR(CDCI3)δ;
4.65 (4H,brs)
5.1−5.5 (4H,m)
5.7−6.2 (2H,m)
6.85 (2H,brs)
実施例12゜
ジアリル1.2−ジ(メトキシカルボニルメチル)1.
2−ヒドラジンジカルボキシレートCHs 0COCH
! NCO2CHx CH=CHx上記実施例11.で
得られf−1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)ヒド
ラジン12.91 (64,5ミリモル)のテトラヒド
ロフラン600m12溶液に、室温下、水素化ナトリウ
ム(55%)5.632(129ミリモル)を加えて、
室温で20分間撹拌した。この反応溶液にジメチルホル
ムアミド60m12およびブロモ酢酸メチルエステル1
5.2m<2(160ミリモル)を加えて、さらに室温
で18時間撹拌した。次いで、lN塩酸水溶液を加えて
、反応溶液を酸性にし、テトラヒドロフランを減圧留去
した。残留水溶液から酢酸エチルで抽出した有機層を水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し
た。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
クロロホルム:アセトン−20: l)に付し、白色固
体の標題化合物20.2.?(収率91%)を得た。
2−ヒドラジンジカルボキシレートCHs 0COCH
! NCO2CHx CH=CHx上記実施例11.で
得られf−1,2−ジ(アリルオキシカルボニル)ヒド
ラジン12.91 (64,5ミリモル)のテトラヒド
ロフラン600m12溶液に、室温下、水素化ナトリウ
ム(55%)5.632(129ミリモル)を加えて、
室温で20分間撹拌した。この反応溶液にジメチルホル
ムアミド60m12およびブロモ酢酸メチルエステル1
5.2m<2(160ミリモル)を加えて、さらに室温
で18時間撹拌した。次いで、lN塩酸水溶液を加えて
、反応溶液を酸性にし、テトラヒドロフランを減圧留去
した。残留水溶液から酢酸エチルで抽出した有機層を水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し
た。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
クロロホルム:アセトン−20: l)に付し、白色固
体の標題化合物20.2.?(収率91%)を得た。
’HNMR(CDCI3)δ;
3.71 (6H,s)
3.8−4.0 (2H,m)
4.6−4.75 (6H,m)
5.1 5−5.32 (4H,m)5.7−6.2
(2H,m) 実施例13゜ CHsOCOCHJC()zcHzcH”cHzCH,
0COCH,NC02CH2CH=CH。
(2H,m) 実施例13゜ CHsOCOCHJC()zcHzcH”cHzCH,
0COCH,NC02CH2CH=CH。
上記実施例12.で得られたジアリル1.2−ジ(メト
キシカルボニルメチル)−1,2−ヒドラジンジカルボ
キシレート17.21 (50ミリモル)のテトラヒ
ドロフラン500mg溶液に、水冷下、28%のナトリ
ウムメトキサイド・メタノール溶液19.3o+ff(
100ミリモル)を1時間かけて加えた。この溶液を室
温まで昇温して、1時間撹拌した後、IN塩酸水溶液を
加えて酸性にし、テトラヒドロフランを濃縮留去した。
キシカルボニルメチル)−1,2−ヒドラジンジカルボ
キシレート17.21 (50ミリモル)のテトラヒ
ドロフラン500mg溶液に、水冷下、28%のナトリ
ウムメトキサイド・メタノール溶液19.3o+ff(
100ミリモル)を1時間かけて加えた。この溶液を室
温まで昇温して、1時間撹拌した後、IN塩酸水溶液を
加えて酸性にし、テトラヒドロフランを濃縮留去した。
濃縮残渣からクロロホルムで抽出した有機層を、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮留去した。これにより
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
クロロホルム:アセトン−20:l)に付し、無色油状
の標題化合物5.04&(収率33%)を得た。
グネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮留去した。これにより
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
クロロホルム:アセトン−20:l)に付し、無色油状
の標題化合物5.04&(収率33%)を得た。
’H−NMR(CDCl 3)δ;
3.7−4.3 (6H,m)
4.5−4.7 (4H,m)
5.1−5.35 (4H,m)
5.7−6.2 (2H,m)
I R(neat) cm−”: 1.720実施例1
4゜ 一オン ヒドラジン水和物(80%)6.21 (100ミリ
モル)を用いて、上記実施例11ないし13に記載した
方法と同様の方法に従って、標題化合物16.087
(収率32%)を得た。
4゜ 一オン ヒドラジン水和物(80%)6.21 (100ミリ
モル)を用いて、上記実施例11ないし13に記載した
方法と同様の方法に従って、標題化合物16.087
(収率32%)を得た。
H−NMR(CDC1,)a 。
3.80 (3H,s)
5.38 (4H,s)
7.48 (4H,a、J−9,0)
8.15 (4H,d 、J −9,0)実施例15゜
1.2−ジベンゾイルピラゾリジン−4−オンした。反
応終了後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:n−
ヘキサン−1:l)に付して、標記化合物130mj(
収率11.5%)を得た。
応終了後、溶媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:n−
ヘキサン−1:l)に付して、標記化合物130mj(
収率11.5%)を得た。
H−NMR(CDCI3)δ;
3.8 (4H,s)
7.3−8.1 (l OH,m)
実施例16゜
(そのl)
上記実施例11および12に記載した方法と同様の方法
に従って得られた1、2−ジベンゾイル−1,2−ジ(
メトキシカルボニル)ヒドラジン1.357 (3,
52ミリモル)のTHF50m12溶液に、カリウムt
ert−ブトキサイド448m1(4,0ミリモル)を
加えて、30分間加熱還流上記実施例13.で得られた
1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−(メトキ
シカルボニル)ピラゾリジン−4−オン740mj
(2,38ミリモル)のメタノール5mff溶液に、室
温下、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム1.56j
(13ミリモル)を加えて1時間撹拌した。反応溶液に
IN塩酸水溶液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽
出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶
媒を留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n −ヘキサン:酢酸エチル−4=1
)に付し、無色油状の標題化合物200m1 (収率2
7%)を得た。
に従って得られた1、2−ジベンゾイル−1,2−ジ(
メトキシカルボニル)ヒドラジン1.357 (3,
52ミリモル)のTHF50m12溶液に、カリウムt
ert−ブトキサイド448m1(4,0ミリモル)を
加えて、30分間加熱還流上記実施例13.で得られた
1、2−ジ(アリルオキシカルボニル)−3−(メトキ
シカルボニル)ピラゾリジン−4−オン740mj
(2,38ミリモル)のメタノール5mff溶液に、室
温下、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム1.56j
(13ミリモル)を加えて1時間撹拌した。反応溶液に
IN塩酸水溶液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽
出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶
媒を留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n −ヘキサン:酢酸エチル−4=1
)に付し、無色油状の標題化合物200m1 (収率2
7%)を得た。
’H−NMR(CDCI、)δ;
3.75 (3H,s)
3.6−4.2 (4H,m)
4.5−4.7 (4H,m)
5.1−5.5 (4H,m)
5.6−6.2 (2H,m)
I R(neat) cm−’; 3450.1720
実施例17゜ 上記実施例13.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン− モル)のテトラヒドロ7ラン15mQ溶液を一20℃ま
で冷却し、これに、Zn(BH.)!のジエチルエーテ
ル溶液8.57ma(2ミリモル)を加えた後、室温ま
で昇温して12時間撹拌した。反応溶液にIN塩酸水溶
液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去して
得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル−1 : l)に付し、
無色油状の標題化合物9mj!(収率6%)を得た。
実施例17゜ 上記実施例13.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン− モル)のテトラヒドロ7ラン15mQ溶液を一20℃ま
で冷却し、これに、Zn(BH.)!のジエチルエーテ
ル溶液8.57ma(2ミリモル)を加えた後、室温ま
で昇温して12時間撹拌した。反応溶液にIN塩酸水溶
液を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去して
得られる濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル−1 : l)に付し、
無色油状の標題化合物9mj!(収率6%)を得た。
氷晶のNMRスペクトルは、実施例16で得られたもの
と完全に一致した。
と完全に一致した。
実施例18。
(その2)
しu,t.;us
しυ2しn3
上記実施例13.で得られた1.2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−
4−オン 5 4ml (0.1 7 3ミリモル)
のエタノール5m12溶液に、水冷下、水素化ホウ素ナ
トリウム46rl(1.22ミリモル)を加えて2時間
撹拌した。反応溶液にIN塩酸水溶液を加えて酸性にし
た後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧上溶媒を留去して得られる濃縮残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:
酢酸エチル−1:1)に付し、無色油状の標題化合物1
0mj?(収率18.5%)を得た。
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−
4−オン 5 4ml (0.1 7 3ミリモル)
のエタノール5m12溶液に、水冷下、水素化ホウ素ナ
トリウム46rl(1.22ミリモル)を加えて2時間
撹拌した。反応溶液にIN塩酸水溶液を加えて酸性にし
た後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧上溶媒を留去して得られる濃縮残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:
酢酸エチル−1:1)に付し、無色油状の標題化合物1
0mj?(収率18.5%)を得た。
’H − N M R ( C D C 1 3)δ;
1、2 8 (3H,t 、J−7) 3、6−4−1 (4H.m) 4、23 (2H.q.J−7) 4、5−4.7 (4H.m) 5、1−5.4 (4H,m) 5、7−6、2 (2H.m) 実施例19。
1、2 8 (3H,t 、J−7) 3、6−4−1 (4H.m) 4、23 (2H.q.J−7) 4、5−4.7 (4H.m) 5、1−5.4 (4H,m) 5、7−6、2 (2H.m) 実施例19。
上記実施例13.で得られた1.2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−
4−オン150m,? (0.48ミリモル)のTH
F15m12溶液を一20’0まで冷却し、この溶液に
Zn(BHi)!のジエチルエーテル溶液8、57n+
12(2ミリモル)を加えて、同温度で2時間、0℃で
2時間、さらに室温で12時間撹拌した。IN塩酸水溶
液を加えて反応を終了させた後、溶媒を減圧留去した。
カルボニル)−3−メトキシカルボニルピラゾリジン−
4−オン150m,? (0.48ミリモル)のTH
F15m12溶液を一20’0まで冷却し、この溶液に
Zn(BHi)!のジエチルエーテル溶液8、57n+
12(2ミリモル)を加えて、同温度で2時間、0℃で
2時間、さらに室温で12時間撹拌した。IN塩酸水溶
液を加えて反応を終了させた後、溶媒を減圧留去した。
濃縮残留物を酢酸エチルで抽出して硫酸マグネシウムで
乾燥した後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル
ー1 : l)に付して、淡黄色油状の標題化合物4m
jl (収率1.4%)を得た。
乾燥した後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(n−へキサン:酢酸エチル
ー1 : l)に付して、淡黄色油状の標題化合物4m
jl (収率1.4%)を得た。
HNMR(CDCI 3)δ:
1.5−2.3 (2H,b)
3.1−3.5 (4H,m)
3.2−3.5 (3H,m)
3.6−3.85 (2H,m)
3.9−4.1 (IH,m)
4.5−4.7 (4H,m)
5.7−6.2 (2H,m)
実施例20゜
ラゾリジン
上記実施例14.で得られた3−メトキシカルボニル−
1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピ
ラゾリジン−4−オン128m、9(0,255ミリモ
ル)のメタノール5mC溶液に室温下水素化ホウ素ナト
リウム80mj? (2゜12ミリモル)を40分間
にわたり徐々に加えた。
1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピ
ラゾリジン−4−オン128m、9(0,255ミリモ
ル)のメタノール5mC溶液に室温下水素化ホウ素ナト
リウム80mj? (2゜12ミリモル)を40分間
にわたり徐々に加えた。
反応終了後、IN塩酸水溶液を加えて溶液を酸性ニジ、
クロロホルムで抽出した。該クロロホルム溶液を無水硫
酸ナトリウムで乾燥しt;後、溶媒を減圧留去して得ら
れた濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロ
ホルム)に付し、淡黄色柱状結晶の標題化合物60mj
?(収率49%)をptこ。
クロロホルムで抽出した。該クロロホルム溶液を無水硫
酸ナトリウムで乾燥しt;後、溶媒を減圧留去して得ら
れた濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロ
ホルム)に付し、淡黄色柱状結晶の標題化合物60mj
?(収率49%)をptこ。
HNMR(CDC13)δ:
1.9〜2.1 (lH,b)
3.2〜3.5 (2H,m)
3.6〜3.8 (3H,m)
5.20 (4H,s)
5.0〜5.4 (lH,b)
7.45 (4H,d、J−9Hz)
8.20 (4H,d、J−9Hz)
実施例21゜
1.2−ジ(アリルオキシカルボニル)−4−クロロ−
3−メトキシカルボニルピラゾリジン4.6〜5.0
(4H,m) 5.2−5.5 (4H,m) 実施例22゜ 上記実施例16.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 74m#(0,24ミリモル)のテト
ラヒドロフラン5m(l溶液を一20℃まで冷却して、
チオニルクロライド89μ(2(1,2ミリモル)とピ
リジン98μ+2(1,2ミリモル)を加え、4°Cま
で昇温して終夜撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加丸
で水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶液
を留去して得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル−5:l)j
コ付し、淡黄色油状の標題化合物40rl(収率52%
)を得た。
3−メトキシカルボニルピラゾリジン4.6〜5.0
(4H,m) 5.2−5.5 (4H,m) 実施例22゜ 上記実施例16.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 74m#(0,24ミリモル)のテト
ラヒドロフラン5m(l溶液を一20℃まで冷却して、
チオニルクロライド89μ(2(1,2ミリモル)とピ
リジン98μ+2(1,2ミリモル)を加え、4°Cま
で昇温して終夜撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加丸
で水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶液
を留去して得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル−5:l)j
コ付し、淡黄色油状の標題化合物40rl(収率52%
)を得た。
’H−NMR(CDCI3)δ:
3.4〜4−2 (4H,m)
3.73 (3H,s)
ピラゾリジン
上記実施例16.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 50m’i (0,16ミリモル)を
用いて、実施例4.に記載した方法と同様の方法に従っ
て、標題化合物60.6 r+J(収率97%)を得た
。
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 50m’i (0,16ミリモル)を
用いて、実施例4.に記載した方法と同様の方法に従っ
て、標題化合物60.6 r+J(収率97%)を得た
。
H−N M R(CD CI 3)δ;2.81 (3
H,s) 3.75 (3H,s) 3.6〜4.2 (4H,m) 4.5〜4.7 (4H,m) 5.6〜6.2 (2H,m) 実施例23゜ 上記実施例16.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 40ml (0,12ミリモル)をT
HF4mffと水0.5m(2の混合溶媒に溶解し、水
冷下、IN水酸化ナトリウム水溶液0.12m4を加え
て1時間撹拌した。反応終了後、IN塩酸水溶液を加え
て溶液を酸性にし、酢酸エチルで抽出して、硫酸マグネ
シウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去して得られた濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロ
ホルム:メタノール−10:1)に付し、無色油状の標
題化合物16m1 (収率44%)を得た。
H,s) 3.75 (3H,s) 3.6〜4.2 (4H,m) 4.5〜4.7 (4H,m) 5.6〜6.2 (2H,m) 実施例23゜ 上記実施例16.で得られた1、2−ジ(アリルオキシ
カルボニル)−4−ヒドロキシ−3−メトキシカルボニ
ルピラゾリジン 40ml (0,12ミリモル)をT
HF4mffと水0.5m(2の混合溶媒に溶解し、水
冷下、IN水酸化ナトリウム水溶液0.12m4を加え
て1時間撹拌した。反応終了後、IN塩酸水溶液を加え
て溶液を酸性にし、酢酸エチルで抽出して、硫酸マグネ
シウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去して得られた濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロ
ホルム:メタノール−10:1)に付し、無色油状の標
題化合物16m1 (収率44%)を得た。
HNMR(CDC1s)δ;
(4H,m)
(4H,m)
(4H、m)
(2H,m)
3.6〜4.3
4.5〜4.8
5.1〜5.5
5.7〜6,2
実施例24
アリルヒドラジン・2塩酸塩
NH,NH,IIH,o → NH,NHCHO→
CH,=CHCH,NHNH,・2HC1抱水ヒドラジ
ン3772(7,54モル)のエタノール760III
4溶液に、氷冷下ギ酸エチル726mQ溶液に、水冷下
ギ酸エチル726m12(9,0モル)を1時間かけて
滴下した。水冷下で30分間撹拌し、さらに室温で14
時間撹拌したのち反応液をアセトンio11m12(1
5,0モル)に30分間かけて加え、さらに30分間撹
拌した。反応液を濃縮乾固して得られる白色個体を、メ
タノール1100m12に溶解し、これに室温でナトリ
ウムメトキシドを28%濃度で含むメタノール溶液18
32g (9,5モル)を−度に加えて30分間加熱還
流した。この反応溶液に、氷冷下臭化アリル1.254
j’ (10,4モル)を加え、水冷下1時間撹拌し
、さらに30分間加熱還流した。反応溶液を室温まで放
冷後、氷冷しf:、2N HCl−水性メタノール1
112に加えて室温で14時間撹拌した。反応液を濃縮
乾固して得た残渣をエタノール3Qに転溶し、不溶解物
を濾去する。この濾液の溶媒を留去して得た残渣を、少
量のTHFで洗浄後、真空乾燥して標題化合物907.
?(収率84%)を得た。
CH,=CHCH,NHNH,・2HC1抱水ヒドラジ
ン3772(7,54モル)のエタノール760III
4溶液に、氷冷下ギ酸エチル726mQ溶液に、水冷下
ギ酸エチル726m12(9,0モル)を1時間かけて
滴下した。水冷下で30分間撹拌し、さらに室温で14
時間撹拌したのち反応液をアセトンio11m12(1
5,0モル)に30分間かけて加え、さらに30分間撹
拌した。反応液を濃縮乾固して得られる白色個体を、メ
タノール1100m12に溶解し、これに室温でナトリ
ウムメトキシドを28%濃度で含むメタノール溶液18
32g (9,5モル)を−度に加えて30分間加熱還
流した。この反応溶液に、氷冷下臭化アリル1.254
j’ (10,4モル)を加え、水冷下1時間撹拌し
、さらに30分間加熱還流した。反応溶液を室温まで放
冷後、氷冷しf:、2N HCl−水性メタノール1
112に加えて室温で14時間撹拌した。反応液を濃縮
乾固して得た残渣をエタノール3Qに転溶し、不溶解物
を濾去する。この濾液の溶媒を留去して得た残渣を、少
量のTHFで洗浄後、真空乾燥して標題化合物907.
?(収率84%)を得た。
H−NMR(CD、OD)δ;
3.87 (2H,a、J−6,0)
5.43=5.73 (2H,m)
5.82=6.25 (I H,m)
実施例25
CH2=CHCH!NHNH2@2HC1−4CH*”
CHCHJ−NH−PNZPNZ クロロp−ニトロベンジルホルメート9232(4,3
モル)の1.4−ジオキサン2,000m12溶液に上
記実施例24.で得られたアリルヒドラジン2塩酸塩4
31 (3,0モル)、炭酸水素ナトリウム(粉末)
l O502(12,5モル)を加えた後、この溶液に
、強撹拌下、水40maを加えた。激しい発泡が静まっ
た後、さらに水560n+2を加えて1時間撹拌した。
CHCHJ−NH−PNZPNZ クロロp−ニトロベンジルホルメート9232(4,3
モル)の1.4−ジオキサン2,000m12溶液に上
記実施例24.で得られたアリルヒドラジン2塩酸塩4
31 (3,0モル)、炭酸水素ナトリウム(粉末)
l O502(12,5モル)を加えた後、この溶液に
、強撹拌下、水40maを加えた。激しい発泡が静まっ
た後、さらに水560n+2を加えて1時間撹拌した。
反応液の有機層を分液し、水層からの酢酸エチル抽出液
と合わせて溶媒を留去して、得られた粗生成物を酢酸エ
チルから再結晶により精製し、標題化合物8317(収
率90%)を得た。
と合わせて溶媒を留去して、得られた粗生成物を酢酸エ
チルから再結晶により精製し、標題化合物8317(収
率90%)を得た。
IH−NMR(CDC13)δ;
3.96 (2H,d、J =6.3)4−93〜5.
80 (7H,m) 6.62 (1M、s) 7.26 (4H,d、J−6,5) 7.97 (4H,d、J−6,5) 実施例26 1−(2,3−ジブロモプロピル)−1,2−ジ(p二
トロベンジルオキシカルボニル)ヒドラジン4−7’C
fモー1.2−ジ(p−ニトロベンジルオ上記実施例2
5.で得られたl−アリル−1,2−ジ(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)ヒドラジン831.? (
1,93モル)のクロロホルム/エタノール(3・:l
)の2.800mQ溶液に一20°Cないし0℃で臭素
3729 (2,32モル)を滴下した。10分後、
飽和亜硫酸ナトリウム水溶液550IIIQを加え、反
応液を分液し得られた有機層を飽和重炭酸ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。
80 (7H,m) 6.62 (1M、s) 7.26 (4H,d、J−6,5) 7.97 (4H,d、J−6,5) 実施例26 1−(2,3−ジブロモプロピル)−1,2−ジ(p二
トロベンジルオキシカルボニル)ヒドラジン4−7’C
fモー1.2−ジ(p−ニトロベンジルオ上記実施例2
5.で得られたl−アリル−1,2−ジ(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)ヒドラジン831.? (
1,93モル)のクロロホルム/エタノール(3・:l
)の2.800mQ溶液に一20°Cないし0℃で臭素
3729 (2,32モル)を滴下した。10分後、
飽和亜硫酸ナトリウム水溶液550IIIQを加え、反
応液を分液し得られた有機層を飽和重炭酸ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。
溶媒を留去し、真空乾燥して標題化合物11332 (
収率定量的)を得た。
収率定量的)を得た。
HN M R(CD Cl s)δ:
3.55〜4.60 (5H,m)
5.30 (4B、s)
7.52 (4H,d、J−s、o)
8.21 (4H,a、J−8,0)
実施例27
上記実施例26.で得られた1−(2,3−ジブロモプ
ロピル)−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)ヒドラジン1133I(1,92モル)のアセ
トニトリル19.212溶液に無水炭酸カリウム(粉末
)530j (4,0モル)を加えて、70℃で4時
間撹拌した。室温まで放冷した後生ずる沈澱を濾去し、
濾液を濃縮乾固して標題化合物971(収率定量的)を
得た。
ロピル)−1,2−ジ(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)ヒドラジン1133I(1,92モル)のアセ
トニトリル19.212溶液に無水炭酸カリウム(粉末
)530j (4,0モル)を加えて、70℃で4時
間撹拌した。室温まで放冷した後生ずる沈澱を濾去し、
濾液を濃縮乾固して標題化合物971(収率定量的)を
得た。
H−NMR(CDCI、)δ;
3.55−4.60 (5H,m)
5.30 (4H,s)
7.52 (4H,a 、J −8゜0)a、21 (
4H,a 、J −8,0)実施例28゜ I イソプロピルアミン0.706mffを10−の無水テ
トラヒドロフランに溶解して、窒素気流中−78℃まで
冷却した。この溶液に1.6Mn−ブチルリチウム3.
5m+2を加えて、同温度のまま、窒素気流中で30分
間撹拌した。該溶液全量およびジエチルアゾジカルボキ
シレート87omLi(5,0ミリモル)を、窒素気流
中−78℃に冷却した1、3−ジクロロアセトン635
mjのテトラヒドロフラン10m12溶液に加えて、同
温度のまま1時間、0℃まで昇温しで1時間、さらに室
温にて1時間撹拌した。反応終了後、溶液を冷やした飽
和塩化アンモニウム水溶液に投入して、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(クロロホルム)に付して、標題化
合物740mj(収率56%)を得た。
4H,a 、J −8,0)実施例28゜ I イソプロピルアミン0.706mffを10−の無水テ
トラヒドロフランに溶解して、窒素気流中−78℃まで
冷却した。この溶液に1.6Mn−ブチルリチウム3.
5m+2を加えて、同温度のまま、窒素気流中で30分
間撹拌した。該溶液全量およびジエチルアゾジカルボキ
シレート87omLi(5,0ミリモル)を、窒素気流
中−78℃に冷却した1、3−ジクロロアセトン635
mjのテトラヒドロフラン10m12溶液に加えて、同
温度のまま1時間、0℃まで昇温しで1時間、さらに室
温にて1時間撹拌した。反応終了後、溶液を冷やした飽
和塩化アンモニウム水溶液に投入して、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去して得られる濃縮残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(クロロホルム)に付して、標題化
合物740mj(収率56%)を得た。
H−NMR(CDCI、)δ;
1.26 (6H,t、J−6Hz)
3.7〜3.9 (3H,m)
4.20 (4H,q、J=6Hz)
参考例1
実施例27.で得られた4−ブロモ−1,2−ジ(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン978
j (1,92モル)のアセトン9.6Q溶液にチオ
酢酸カリウム3289 (2,88モル)を加え、室
温で4時間撹拌した。反応液を濃縮し、クロロホルム1
012に溶解して10%クエン酸水溶液、次いで飽和食
塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去して得た残渣に酢酸エチル1.512を加えて、−
夜装置して、析出した結晶を集め真空乾燥して標題化合
物7769 (収率80%)を得た。
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピラゾリジン978
j (1,92モル)のアセトン9.6Q溶液にチオ
酢酸カリウム3289 (2,88モル)を加え、室
温で4時間撹拌した。反応液を濃縮し、クロロホルム1
012に溶解して10%クエン酸水溶液、次いで飽和食
塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去して得た残渣に酢酸エチル1.512を加えて、−
夜装置して、析出した結晶を集め真空乾燥して標題化合
物7769 (収率80%)を得た。
m、p、: 148〜149°C
’HNMR(CDCI s”)δ:
2.32 (3H,s)
3.05−4.90 (5H,m)
5.30 (4H,s)
7.50 (4H,a、J−8,5)
8.20 (4H,d 、J −8,5)参考例2
ルオキシカルボニル)ピラゾリジン
に溶解し、これに氷冷下、ナトリウムメトキシドを28
%濃度で含むメタノール溶液2851(1,53モル)
を添加する。5分間撹拌後、IN塩酸1.612を加え
た後溶媒を留去する。濃縮残渣を酢酸エチルで抽出し、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、溶媒を濃縮乾固して標題化合物7071 (収率定量
的)を得た。
%濃度で含むメタノール溶液2851(1,53モル)
を添加する。5分間撹拌後、IN塩酸1.612を加え
た後溶媒を留去する。濃縮残渣を酢酸エチルで抽出し、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、溶媒を濃縮乾固して標題化合物7071 (収率定量
的)を得た。
’H−NMR(CDCIs) δ :3.2−4.5
(5H,m) 5.28 (4H,s) 7.48 (4H,d、J−9,0)8.17 (
4H,d、J−9,0)参考例1.で得られた4−アセ
チルチオ−1,2−ジ(p−二トロペンジルオキシカル
ポニJし)ピラゾリジン7741 (1,53モル)
のテトラヒドロフラン6Qおよびメタノール6aの混合
溶媒手続補正書岨発) 平成1年5月29日 特許庁長官 吉 1)文 毅 殿 1、事件の表示 昭和63年特許願第218556号 2、発明の名称 ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体3、補
正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 日本レダリー株式会社 5、補正命令の日付 6、補正の対象 なし く1) 特許請求の範囲の記載(明細書第1頁第6行〜
第2頁第4行)を別紙のとおり訂正する。
(5H,m) 5.28 (4H,s) 7.48 (4H,d、J−9,0)8.17 (
4H,d、J−9,0)参考例1.で得られた4−アセ
チルチオ−1,2−ジ(p−二トロペンジルオキシカル
ポニJし)ピラゾリジン7741 (1,53モル)
のテトラヒドロフラン6Qおよびメタノール6aの混合
溶媒手続補正書岨発) 平成1年5月29日 特許庁長官 吉 1)文 毅 殿 1、事件の表示 昭和63年特許願第218556号 2、発明の名称 ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体3、補
正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 日本レダリー株式会社 5、補正命令の日付 6、補正の対象 なし く1) 特許請求の範囲の記載(明細書第1頁第6行〜
第2頁第4行)を別紙のとおり訂正する。
(2)明細書第2頁第13行に「アミノの保護基」とあ
るをrアミノ保護基1と訂正する。
るをrアミノ保護基1と訂正する。
(3) 同第4頁第7行にr(PHP−I)Jとあるを
r(DHP −I >s トMT正tル。
r(DHP −I >s トMT正tル。
(4) 同第5頁第2〜3行に「式中、R”、R’およ
びRoは上記定義と同一の意味を表わし、」とあるを次
のとおり訂正する。
びRoは上記定義と同一の意味を表わし、」とあるを次
のとおり訂正する。
1式中、R”およびRゝは上記定義と同一の意味を表わ
し、Rcは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子
を表わし、1 (5)同第12頁第14行に「フミン」とあるを「アミ
ノ1と訂正する。
し、Rcは水素原子、低級アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシメチル基、カルボキシル基またはハロゲン原子
を表わし、1 (5)同第12頁第14行に「フミン」とあるを「アミ
ノ1と訂正する。
(6)同第21頁第16行に「式(I)」とあるを1式
(■)1と訂正する。
(■)1と訂正する。
(7) 同第28頁第8行に「保護基の」とあるを1保
護基1と訂正する。
護基1と訂正する。
(8) 同第36頁第4行に
」
とあるを
」
と訂正する。
(9)同第62頁第10行に
と訂正する。
(11) 同第64頁第8行と第9行の間に以下の文を
加入する。
加入する。
V本島は酢酸エチル−テトラヒドロフラン(3:1)混
合溶媒に溶解し、n−ヘキサンと処理することにより融
点122℃の結晶を与える。J以上 とあるを 」 」 と訂正する。
合溶媒に溶解し、n−ヘキサンと処理することにより融
点122℃の結晶を与える。J以上 とあるを 」 」 と訂正する。
(10)同第63頁第14行に
」
(別紙)
[特許請求の範囲]
r(1)次式(■):
その塩。
式中、R1はハロゲン原子、水酸基または保護された水
酸基を表わし、R2は水素原子、アルキル基またはアミ
ZJL護基を表わし、Rコは水素原子、低級アルコキシ
カルボニル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシル基ま
たはハロゲン原子を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびその塩。
酸基を表わし、R2は水素原子、アルキル基またはアミ
ZJL護基を表わし、Rコは水素原子、低級アルコキシ
カルボニル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシル基ま
たはハロゲン原子を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびその塩。
(2)次式(■):
式中、R2およびR3は上記定義と同一の意味を表わす
、
、
Claims (2)
- (1)次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1はハロゲン原子、水酸基または保護された
水酸基を表わし、R^2は水素原子、アルキル基または
アミノの保護基を表わし、R^3は水素原子、低級アル
コキシカルボニル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシ
ル基またはハロゲン原子を表わす、 で示されるピラゾリジン誘導体およびその塩。 - (2)次式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^2およびR^3は上記定義と同一の意味を表
わす、 で示されるピラゾリジン−4−オン誘導体およびその塩
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63218556A JP2735840B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63218556A JP2735840B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0267269A true JPH0267269A (ja) | 1990-03-07 |
JP2735840B2 JP2735840B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=16721792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63218556A Expired - Lifetime JP2735840B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | ピラゾリジン誘導体およびピラゾリジノン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2735840B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5223791A (en) * | 1991-01-14 | 1993-06-29 | Yazaki Corporation | Cross coil type indicating instrument having internally disposed engaging gears |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3660426A (en) * | 1969-06-25 | 1972-05-02 | Robins Co Inc A H | Process for the preparation of 4-pyrazolidinols |
US4207327A (en) * | 1977-08-19 | 1980-06-10 | A. H. Robins Company, Inc. | N-(4-Pyrazolidinyl)benzamides and their amino precursors |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63218556A patent/JP2735840B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3660426A (en) * | 1969-06-25 | 1972-05-02 | Robins Co Inc A H | Process for the preparation of 4-pyrazolidinols |
US4207327A (en) * | 1977-08-19 | 1980-06-10 | A. H. Robins Company, Inc. | N-(4-Pyrazolidinyl)benzamides and their amino precursors |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5223791A (en) * | 1991-01-14 | 1993-06-29 | Yazaki Corporation | Cross coil type indicating instrument having internally disposed engaging gears |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2735840B2 (ja) | 1998-04-02 |
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