JP2731312B2 - 電磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法 - Google Patents

電磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は電磁鋼板の製造方法に
関連し、とくに欠陥のない平滑かつ均一性に優れるフォ
ステライト絶縁被膜を安定的に形成させるための予備処
理方法を提案しようとするものである。
【0002】方向性電磁鋼板は変圧器などの積鉄心ある
いは巻鉄心として用いられるため、各層間の電気絶縁性
が保たれるように鋼板表面に電気絶縁被膜が被覆され
る。この絶縁被膜は、電気絶縁性、表面平滑性、占積率
など多くの要件のほかに、地鉄との密着性、外観的な均
一性を併せて満足することが要求される。
【0003】絶縁被膜の形成方法としては、一般に所望
の最終板厚に冷間圧延された含けい素鋼冷延板をサブス
ケール生成事前処理として脱脂洗浄後、湿水素雰囲気中
で700 〜900 ℃の温度範囲、数分間の連続脱炭焼鈍(1
次再結晶も兼ねる)を行うことにより、脱炭と同時に鋼
中のSiを酸化してSiO2を含む酸化膜(サブスケール)を
鋼板表面に生じさせ、このサブスケール上にMgO を主成
分とする焼鈍分離剤を塗布してコイル状に巻取り、これ
を水素気流中で1100〜1250℃の温度範囲の2次再結晶及
び純化焼鈍を行うことにより、上記SiO2とMgO とを反応
させて鋼板上に主としてフォルステライト(Mg2SiO4)か
らなるガラス状の薄い絶縁被膜(以下単に絶縁被膜とい
う)を形成させる。この方法によって工業的に得られる
絶縁被膜は必ずしも鋼板表面上に均一に形成されるとは
限らず、ときには地鉄との密着性の弱い部分や斑点状に
地鉄が裸出するような被膜欠陥をともなう場合がある。
これらの欠陥は電気絶縁性の低下をもたらし、変圧器用
鉄心にあっては渦電流が発生し所期の性能を発揮できな
くなる。
【0004】したがって、方向性電磁鋼板の製造にあた
って、良好な特性を有する絶縁被膜を形成させることが
重要になる。
【0005】
【従来の技術】前記したような欠陥を改善し、特性の良
好な絶縁被膜を形成させるためには、脱炭焼鈍において
欠陥のない均一なサブスケールを生成させること、また
そのためには冷間圧延後脱炭焼鈍前鋼板の表面状況すな
わち脱脂洗浄等のサブスケール生成事前処理が重要であ
ることが知られていてこれまでにも多くの提案がなされ
ている。
【0006】例えば、特公昭53−22529号公報に
方向性珪素鋼板の絶縁被膜形成方法が開示されている
が、この方法は脱炭焼鈍前に鋼板の表面層が3g/m2
上除去されるように酸洗するものであり、脱炭焼鈍前の
鋼板表面の有害な付着物除去に効果があり、それなりに
絶縁被膜の欠陥の改善に有効であるが、地鉄表面を3g
/m2以上と多く溶失させるため、歩止り低下による経済
的損失が大きいこと(特に板厚が薄くなるとより顕著に
なる)、強酸洗を行うため鋼板表面の凹凸が大きくな
り、これが占積率に対し悪影響をおよぼすことなどの不
利があった。
【0007】また、特公昭58−46547号公報に方
向性珪素鋼板の絶縁被膜形成方法として、脱炭焼鈍後の
鋼板表面に絶縁被膜の形成に有利に作用するサブスケー
ルを得るために、脱炭焼鈍前鋼板表面にSi化合物を付着
させる手段が開示されている。しかしながら、電磁鋼板
の製造工程における熱延板のスケール除去不良や、中間
焼鈍時鋼板表面に形成されるスケールすなわちSiO2やFe
2SiO4(ファイヤライト) などの膜が、冷間圧延時に粉砕
され一部は圧延中に脱落するものの他は表面に不均一に
残った状態の鋼板に、上記手段を適用することになるた
め、得られた絶縁被膜の平滑性、均一性に問題が生じ、
加えて、鋼板表面に残ったスケールが、脱脂工程で鋼板
表面に付着する脱脂液中のNa, Na化合物の付着量を増加
させる要因となりこのNa, Na化合物が絶縁被膜の欠陥発
生原因になるという問題があった。
【0008】さらに、特公昭60−14104号公報に
方向性けい素鋼板のフォルステライト絶縁被膜の形成方
法として、鋼板表面のブラッシングを強化する手段が、
特開昭61−281816号公報に一方向性けい素鋼板
の製造方法として、鋼板表面を超音波洗浄する手段がそ
れぞれ開示されている。これらは共に脱炭焼鈍前の鋼板
表面の清浄度を向上させるものであるが、付着物の除去
効果はあるものの、これらの手段によっても前工程の変
動を完全に吸収しきれずに鋼板上のスケールを十分に除
去することが困難な場合があり、上記したようなスケー
ルの残存に加えて有害なNa, Na化合物の付着量が増加す
ることによる問題があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、前記した
問題点を有利に解決しようとするものであり、欠陥のな
い均一かつ平滑な絶縁被膜を形成させるために、含けい
素鋼冷延板のサブスケール生成事前処理を適正化し脱炭
焼鈍により欠陥のない平滑なサブスケールが得られる電
磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法を提案するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、最終板厚に
冷間圧延した含けい素鋼板のサブスケール生成事前処理
として、脱脂後酸洗を施して鋼板上のスケールを除去
し、さらにSi化合物を鋼板表面に付着させるものであ
り、かくすることにより脱炭焼鈍で良好なサブスケール
が生成し、最終焼鈍で欠陥のない優れた特性を有する絶
縁被膜が得られることを見出したことによるものであ
る。
【0011】すなわち、この発明の要旨は、含けい素鋼
冷延板にサブスケール生成事前処理を施してから脱炭・
1次再結晶焼鈍を行うに当り、該サブスケール事前処理
が、含けい素鋼冷延板を脱脂後、残留スケールを除去す
る酸洗を行い、つづいてSi化合物の付着処理を施すこと
から成る電磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法で
あり、さらにサブスケール生成事前処理と脱炭焼鈍とを
連続して行うものである。
【0012】ここに、鋼板表面に付着させるSi化合物と
は、オルトけい酸(H4SiO4)、メタけい酸(H2SiO3) 、
コロイダルシリカの如き水溶状超微粒SiO2及びけい酸ア
ルカリ水溶液中で電解処理したときに鋼板に電着するSi
O2またはこれにH2O が結合した化合物等をいう。
【0013】
【作用】この発明をさらに詳しく以下に述べる。この発
明は、最終板厚に冷間圧延した鋼板の脱炭焼鈍前のサブ
スケール生成事前処理として、まず、脱脂して鋼板上に
付着している圧延油などを除去してつぎの酸洗を容易に
し、酸洗によりスケールを除去したのちサブスケールの
形成に有利に作用するSi化合物を鋼板表面に付着させる
ものであり、このような処理を行うことにより脱炭焼鈍
で欠陥のない均一なサブスケールが得られ、さらにその
後の焼鈍分離剤の塗布につづく最終焼鈍により欠陥のな
い均一かつ平滑な絶縁被膜を得るものである。
【0014】この発明において、酸洗前に脱脂を行うの
は、圧延油など油分の付着した鋼板をそのまま酸洗する
と均一に酸洗することが困難なためであり、また酸洗後
Si化合物を付着させるのは、Si化合物が単に脱炭焼鈍で
のサブスケールの生成に有利に作用すること以外に、Si
化合物を付着させることにより、その前工程の酸洗で強
酸洗を行わなくても欠陥のない均一なサブスケールを得
ることができ、ひいては良好な絶縁被膜が得られること
によるものである。
【0015】このように酸洗後Si化合物を付着させるこ
とにより、前記した特公昭53−22529号公報の場
合のような強酸洗を必要としなくなり弱酸洗ですむこと
から、酸洗によって前記したような歩止りの低下、占積
率に影響する鋼板表面の凹凸の発生を抑制することがで
きる。
【0016】また、脱脂及びSi化合物を付着させる際
に、絶縁被膜の形成に有害なNa及びNa化合物が、酸化膜
の割れ目に残留したり、酸洗不良により鋼板上に残った
酸化物などの汚物と一緒になって残留したりするが、上
記のように脱脂後酸洗することによりスケールが除去さ
れるためその付着量が減少し、その後のサブスケール生
成及び絶縁被膜の形成に有利に作用する。
【0017】さらに、脱脂、酸洗により清浄化した鋼板
表面に所定量のSi化合物を付着させることにより、焼鈍
時にFeO の生成が抑制されること、たまFeO の生成しな
い領域の脱炭焼鈍雰囲気であっても好適なサブスケール
の組成であるSiO2、Fe2SiO4 の形の酸化物の形成を促進
させ均一なサブスケールが得られる。
【0018】そしてこれらの予備処理により最終焼鈍に
より欠陥がなく均一かつ平滑な絶縁被膜が得られ、前記
した脱脂のみでSi化合物を付着させた場合の問題点は解
消される。
【0019】つぎにこの発明の実施態様を図面により説
明する。図1は、この発明を適用する場合の脱脂−酸洗
−Si化合物付着処理(電着)ラインの1例を示す模式図
である。図1においては、1はペイオフリール、2はス
トリップ、3はアルカリ浸漬槽、4,5,8,9,12,
13はスクラバー、6,10, 14は湯洗槽、7は酸洗槽、11
は電解槽(Si化合物付着)、15はドライヤー、16はテン
ションリールである。
【0020】なお、この発明では上記ラインを連続焼鈍
ラインに組み込み、湯洗槽14を経たストリップ2を直接
連続焼鈍ラインに送り連続的に脱炭焼鈍することもよ
い。
【0021】上記において、アルカリ浸漬槽3のアルカ
リ溶液は圧延油などのストリップ2の表面に付着してい
る油分を除去できるものであればよいが、けい酸ナトリ
ウム類を用いることが好適である。なお、脱脂方法はこ
の例の浸漬脱脂のほか、スプレー脱脂、電解脱脂などを
用いてもよい。
【0022】酸洗槽7の酸洗液は塩酸、硫酸、リン酸な
どいずれでもよく、その酸洗条件は、除去する酸化物の
量により液の濃度、温度及び酸洗時間を調整するが、過
酸洗は歩止りを低下させるとともに表面粗度を大きくし
製品での占積率を低下させるという問題が生じる。した
がって、通常の使用範囲としては塩酸を用いる場合、濃
度3〜10%、温度40〜70℃酸洗時間3〜60秒間程度の弱
酸洗でよく、前工程で脱脂され、後工程でSi化合物が塗
布されるため、この程度の弱酸洗で最終的に欠陥のない
均一かつ平滑な絶縁被膜を得ることができる。
【0023】なお、塩酸酸洗の場合の液の濃度及び温度
をパラメーターとする酸洗時間と鋼板の溶失減量の関係
を図3に示すが、液の濃度60%、温度60℃、酸洗時間20
秒の条件でも溶失減量は0.6 g/m2程度てあり、酸洗によ
る歩止り低下はわずかである。
【0024】電解槽11に用いる電解液は、オルトけい酸
ナトリウム(Na4SiO4) 、メタけい酸ナトリウム(Na2Si
O3) あるいは種々のけい酸ナトリウムの液体混合物であ
る水ガラスなどが適している。これらの電解液を用いて
電解処理することにより、鋼板表面にけい酸、けい酸塩
あるいはこれらと鉄の水酸化物の化合物すなわちSi化合
物をストリップ2表面に電着させる。またこの電解によ
り有害なNa及びその化合物の付着を抑制することができ
る。
【0025】なお、Si化合物のストリップ2表面への付
着処理は、浸漬法によってもよいが、上記した電解法
が、電流量により付着量の制御が容易であること、酸洗
によりスケールが除去されていることと相まって絶縁被
膜の形成に有害なNa及びその化合物の付着を抑制できる
ことなどから有利に適合する。
【0026】以上のような脱脂−酸洗−Si化合物付着の
サブスケール事前処理を行うことにより、つぎの脱炭焼
鈍でストリップ表面に欠陥のない薄く均一なサブスケー
ルを生成させることができ、その後の焼鈍分離剤の塗
布、最終焼鈍により欠陥のない均一かつ平滑な絶縁被膜
を形成させることができる。
【0027】さらに、上記ラインを連続焼鈍ラインに組
込み連続してこれらの処理を行うことにより、連続焼鈍
前に一度コイルに巻取ることによって発生するコイル両
端部の不均一部の発生が解消され、より均一で安定した
品質の製品が得られる。
【0028】
【実施例】適合例 Si:3.30wt%と抑制剤としてSe, Sbを含有する0.3 mmの
最終板厚に冷間圧延された方向性電磁鋼板用冷延コイル
を、前掲図1に示したラインを用いて、濃度:3%、温
度:80℃のけい酸ナトリウム中で浸漬時間:7秒間の
脱脂を行ったのち、ブラッシング、湯洗し、濃度:5
%、温度:60℃の塩酸溶液中で浸漬時間:7秒間の酸洗
を行い、さらにブラッシング、湯洗したのち、濃度:3
%、温度:80℃のけい酸ナトリウム中で電流密度:1
0C/dm2 の電解処理を行って付着量:2mg/m2のSi化合
物を付着させ、ブラッシング、水洗した。
【0029】この最終の水洗に用いる水には、Na:1pp
m 以下の純水を用い、その温度は80℃とした。ついで、
露点:60℃、H2:50%、残部N2ガスよりなる湿水素雰囲
気中で、830℃、3分間の連続脱炭焼鈍を施し、さらにM
gO を主成分とする焼鈍分離剤を塗布したのちコイル状
に巻取り、850 ℃に保持して2次再結晶を完了させたの
ち、H2雰囲気中で1200℃、10時間の純化焼鈍を施した。
【0030】比較例 前掲図1の6の湯洗槽、7の酸洗槽、8,9のスクラバ
ー、10の湯洗槽を用いないで、その他の条件は適合例と
同様の条件で処理した。
【0031】これらの適合例、比較例とも複数のコイル
を用いて処理したもので、各冷延板の酸素目付量と、こ
れに対応する最終焼鈍後の絶縁膜の欠陥発生率の関係を
調査した。これらの調査結果を図2にまとめて示す。
【0032】ここに、絶縁被膜の欠陥発生率は最終焼鈍
後の板面を全面にわたって表面観察を行い、鋼帯の長さ
100mを1区画とし、被膜欠陥が検出された区画数の
全区画数に対する割合として算出したものである。
【0033】図2から明らかなように、適合例は冷延板
の酸素目付量が多くなっても絶縁被膜の欠陥発生率は少
なく安定しているのに対し、比較例は酸素目付量の増加
とともに絶縁被膜の欠陥発生率も増加している。
【0034】すなわち、比較例では冷間圧延までの前工
程の変動があった場合これを吸収しきれずに絶縁被膜の
欠陥発生率が変動することを示しているのに対し、この
発明の適合例は前工程の変動があってもこれに影響され
ることなく、欠陥の少ない絶縁被膜を得ることができる
ことを示している。
【0035】
【発明の効果】この発明は、冷延板を脱脂後酸洗するこ
とにより、鋼板表面上に残留する酸化膜の除去を容易に
し、加えてSi化合物を鋼板上に均一に付着させ脱炭焼鈍
により欠陥のない均一なサブスケールを生成させ、その
結果最終焼鈍において欠陥のない均一かつ平滑な絶縁被
膜を歩止りの低下をともなうことなく形成させるもので
あって、電磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法と
して有利に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明を適用する場合の脱脂−酸洗−Si化合
物付着処理(電解)ラインの1例を示す模式図である。
【図2】冷延板の酸素目付量と絶縁被膜の欠陥発生率の
関係を示すグラフである。
【図3】塩酸酸洗による酸洗時間と溶失減量の関係を示
すグラフである。
【符号の説明】
1 ペイオフリール 2 ストリップ 3 アルカリ浸漬槽 4,5,8,9,12, 13 スクラバー 6,10, 14 湯洗槽 7 酸洗槽 11 電解槽 15 ドライヤー 16 テンションリール

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 含けい素鋼冷延板にサブスケール生成事
    前処理を施してから脱炭・1次再結晶焼鈍を行うに当
    り、 該サブスケール事前処理が、含けい素鋼冷延板を脱脂
    後、残留スケールを除去する酸洗を行い、つづいてSi化
    合物の付着処理を施すことから成る電磁鋼板絶縁被膜の
    均一形成用予備処理方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のサブスケール生成事前
    処理と脱炭・1次再結晶焼鈍とを連続して行うことを特
    徴とする電磁鋼板絶縁被膜の均一形成用予備処理方法。
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