JP2724793B2 - 摺動面構成体 - Google Patents

摺動面構成体

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、相手部材との摺動面を
構成する摺動面構成体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種摺動面構成体としては、例
えば内燃機関用ピストンにおいて、Al合金製母材のラ
ンド部およびスカート部外周面に、耐摩耗性の向上を狙
って設けられるFeメッキ層が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ように構成すると、ピストンの耐摩耗性は向上するが、
シリンダスリーブは一般に鋳鉄より構成されているの
で、特に機関始動時の無潤滑状態に近い状況下でランド
部およびスカート部がシリンダスリーブを摺動すると、
硬さの高いFeメッキ層によってシリンダスリーブの摩
耗が進行することがある。
【0004】本発明は前記に鑑み、従来とは逆に硬さの
高い部材側に設けられて、無潤滑状態においてもそれ自
体の耐摩耗性が良好であると共に硬さの低い相手部材の
摩耗を抑制することができるようにした前記摺動面構成
体を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る摺動面構成
体は、体心立方構造を持つ金属結晶の集合体より構成さ
れ、その集合体は、ミラー指数で(3hh0)面を摺動
面側に向けた(3hh0)配向性金属結晶を含み、その
(3hh0)配向性金属結晶の存在率 3hh0 はS 3hh0
40%であることを特徴とする。
【0006】ここで、前記存在率S 3hh0 、つまりSm
(mは、3hh0等のミラー指数、以下同じ)について
説明する。摺動面構成体がbcc構造を持つ金属結晶の
集合体より構成されている場合、X線照射方向を摺動面
4aに対し直角方向に定めてX線回折を行うと、X線回
折図には、原則として、(hh0)面を摺動面4a側に
向けた(hh0)配向性金属結晶、(h00)面を摺動
面4a側に向けた(h00)配向性金属結晶、(2hh
h)面を摺動面4a側に向けた(2hhh)配向性金属
結晶、(3hh0)面を摺動面4a側に向けた(3hh
0)配向性金属結晶および(hhh)面を摺動面4a側
に向けた(hhh)配向性性金属結晶によるX線反射強
度が現出する。
【0007】この場合、各結晶面の測定感度が異なるの
で、それら測定感度を同一感度レベルに補正すべく、各
配向性金属結晶におけるX線反射強度の測定値Imは、
ASTMカードにおいて、対応する結晶面のX線反射強
度比IAmで除され、これにより補正値Im/IAmが
得られる。
【0008】また、全ての配向性金属結晶によるX線反
射強度の測定値の和は、前記補正値の和Tとして表わさ
れる。
【0009】そこで、本発明においては、或一種の配向
性金属結晶の存在率Sm(%)を Sm={(Im/IAm)/T}×100 と定義する。
【0010】したがって、(hh0),(h00),
(2hhh),(3hh0)および( hhh)配向性金
属結晶の存在率は次のように表わされる。 (hh0)配向性金属結晶:S hh0 ={(I hh0 /IA
hh0 )/T}×100、 (h00)配向性金属結晶:S h00 ={(I h00 /IA
h00 )/T}×100、 (2hhh)配向性金属結晶:S 2hhh ={(I 2hhh /I
2hhh )/T}×100、 (3hh0)配向性金属結晶:S 3hh0 ={(I 3hh /I
3hh )/T}×100、 (hhh)配向性金属結晶:S hhh ={(I hhh /IA
hhh )/T}×100 ここで、I hh0 、I h00 、I 2hhh 、I 3hh0 、I hhh は各
結晶面のX線反射強度の測定値である。またIA hh0
IA h00 、IA 2hhh 、IA 3hh0 、IA hhh はASTMカ
ードにおける各結晶面のX線反射強度比であって、IA
hh0 =100、IA h00 =20、IA 2hhh =30、IA
3hh0 =12、IA hhh =6である。さらにTは、T=
(I hh0 /IA hh0 )+(I h00 /IA h00 )+(I
2hhh /IA 2hhh )+(I 3hh0 /IA 3hh0 )+(I hhh
IA hhh )である。
【0011】
【作用】体心立方構造を持つ金属結晶の集合体におい
て、ミラー指数で(3hh0)面を摺動面側に向けた
(3hh0)配向性金属結晶が存在すると、その存在率
3hh0 の増加に伴い摺動面構成体を構成する金属結晶が
微細粒化されると共に摺動面が平滑化され、また摺動面
構成体の硬さが低減する。
【0012】そこで、前記存在率 3hh0 をS 3hh0 ≧40
%に設定すると、無潤滑状態においてもそれ自体の耐摩
耗性が良好であると共に、例えば、摺動面構成体の硬さ
の略1/2以下の硬さを有する硬さの低い相手部材との
摺動において、その相手部材の摩耗を抑制し得る摺動面
構成体を提供することが可能となる。ただし、前記存在
3hh0 がS 3hh0 <40%では、摺動面構成体の硬さが
増すため、無潤滑状態においてそれ自体の摩耗量は少な
くなるが相手部材の摩耗量が増加する。
【0013】
【実施例】図1において、内燃機関用シリンダブロック
1はAl合金製シリンダブロック本体2と鋳鉄製シリン
ダスリーブ3とを備え、そのシリンダスリーブ3の内周
面に、メッキ処理により層状摺動面構成体4が形成され
る。シリンダスリーブ3内には、Al合金製ピストン5
が摺動自在に設けられる。
【0014】図2に示すように、摺動面構成体4は体心
立方構造(bcc構造)を持つ金属結晶の集合体より構
成される。その集合体はミラー指数で(3hh0)面を
摺動面4a側に向けた(3hh0)配向性金属結晶を含
み、その(3hh0)配向性金属結晶の存在率 3hh0
3hh0 ≧40%に設定されている。
【0015】体心立方構造を持つ金属結晶の集合体にお
いて、(3hh0)配向性金属結晶が存在すると、その
存在率 3hh0 の増加に伴い摺動面構成体4を構成する金
属結晶が微細粒化されると共に摺動面4aが平滑化さ
れ、また摺動面構成体4の硬さが低減する。
【0016】そこで、(3hh0)配向性金属結晶の存
在率 3hh0 を前記のように設定すると、無潤滑状態にお
いてもそれ自体の耐摩耗性が良好であると共に、例え
ば、摺動面構成体4の硬さの略1/2以下の硬さを有す
る硬さの低いピストン5との摺動において、そのピスト
ン5の摩耗を抑制し得る摺動面構成体4を提供すること
が可能となる。ただし、前記存在率SがS<40%で
は、摺動面構成体4の硬さが増すため、無潤滑状態にお
いてそれ自体の摩耗量は少なくなるがピストン5の摩耗
量が増加する。
【0017】図3に示すように、摺動面4aに沿う仮想
面6に対する(3hh0)面の傾きは摺動面構成体4の
硬さに影響を与える。そこで、(3hh0)面が仮想面
6に対してなす傾き角θは0°≦θ≦15°に設定され
る。この場合、(3hh0)面の傾き方向については限
定されない。傾き角θがθ>15°になると、摺動面構
成体4の硬さが高くなり過ぎる。
【0018】bcc構造を持つ金属結晶としては、F
e、Cr、Mo、W、Ta、Zr、Nb、V等の単体ま
たは合金の結晶を挙げることができる。
【0019】本発明に係る摺動面構成体4を形成するた
めのメッキ処理において、電気Feメッキ処理を行う場
合の基本的条件は、表1、表2の通りである。
【0020】
【表1】
【0021】有機系添加剤としては、尿素、サッカリン
等が用いられる。
【0022】
【表2】
【0023】前記条件下で行われる電気Feメッキ処理
において、陰極電流密度、メッキ浴pH、有機系添加剤
の配合量等によって(3hh0)配向性Fe結晶の晶出
および存在量を制御する。
【0024】メッキ処理としては、電気メッキ処理の外
、例えば気相メッキ法であるPVD法、CVD法、
パッタ法、イオンプレーティング等を挙げることができ
る。スパッタ法によりW、Moメッキを行う場合の条件
は、例えばAr圧力 0.8Pa、Ar加速電力 直流
1kW、母材温度 100℃である。CVD法によりW
メッキを行う場合の条件は、例えば原材料 WF6 、ガ
ス流量10cc/min 、チャンバ内圧力 100Pa、母
材温度 500℃である。
【0025】以下、具体例について説明する。
【0026】鋳鉄製シリンダスリーブ3の内周面に、電
気Feメッキ処理を施すことによりFe結晶の集合体よ
り構成された摺動面構成体4を形成した。
【0027】表3、表4は、摺動面構成体4の例1〜5
における電気Feメッキ処理条件を示す。
【0028】
【表3】
【0029】
【表4】
【0030】表5は、例1〜5における摺動面4aの結
晶形態、Fe結晶の粒径、各配向性Fe結晶の存在率
および硬さをそれぞれ示す。
【0031】
【表5】
【0032】存在率Smは、例1〜5のX線回折図(X
線照射方向は摺動面4aに対して直角方向)に基づいて
次式から求められたものである {110}配向性Fe結晶:S110 ={(I110 /IA
110 )/T}×100、 {200}配向性Fe結晶:S200 ={(I200 /IA
200 )/T}×100、 {211}配向性Fe結晶:S211 ={(I211 /IA
211 )/T}×100、 {310}配向性Fe結晶:S310 ={(I310 /IA
310 )/T}×100、 {222}配向性Fe結晶:S222 ={(I222 /IA
222 )/T}×100 ここで、I110 、I200 、I211 、I310 、I222 は各
結晶面のX線反射強度の測定値(cps)であり、また
IA110 、IA200 、IA211 、IA310 、IA222
ASTMカードにおける各結晶面のX線反射強度比で、
IA110 =100、IA200 =20、IA211 =30、
IA310 =12、IA222 =6である。さらにTは、T
=(I110 /IA110 )+(I200 /IA200 )+(I
211 /IA211 )+(I310 /IA310 )+(I222
IA222 )である。
【0033】図4は例1のX線回折図である。図5は、
例1における摺動面4aの結晶構造を示す顕微鏡写真
(5000倍)である。図5において、(3hh0)
面、したがって{310}面を摺動面4a側に向けた
{310}配向性Fe結晶の存在に起因する平滑面が観
察され、また多数の皺も認められる。この場合、{31
0}配向性Fe結晶の存在率 310 は、表5、図5に示
すように、 310 =60%である。
【0034】図6は、表5に基づいて、例1〜5におけ
る{310}配向性Fe結晶の存在率 310 と硬さとの
関係をグラフ化したものである。図中、点(1)〜
(5)は例1〜5にそれぞれ対応する。図6より、{3
10}配向性Fe結晶の存在率 310 の増加に伴い摺動
面構成体4の硬さが低減することが判る。
【0035】次に、例1〜5について、無潤滑状態でチ
ップオンディスク方式による摩耗テストを行って、{3
10}配向性Fe結晶の存在率 310 と、チップおよび
ディスクの摩耗量との関係を求めたところ、表6および
図7の結果を得た。テスト条件は次の通りである。ディ
スクの材質 Al−10重量%Si合金、ディスクの回
転速度 0.5m/sec 、荷重 100N、摺動距離
1km、摺動面構成体より製作されたチップの摺動面の面
積 1cm2 。摩耗量はディスクおよびチップの面積1cm
2 当りの減量(mg) である。
【0036】
【表6】
【0037】図7は、表6をグラフ化したもので、図
中、点(1)〜(5)は例1〜5のチップにそれぞれ対
応する。表6、図7から明らかなように、{310}配
向性Fe結晶の存在率 310 310 ≧40%である例
1〜3のチップは、比較的摩耗量が少なく、また例4,
5のチップの場合に比べて、相手部材であるディスクの
摩耗を大幅に抑制することができるものである。
【0038】前記摩耗テストは無潤滑状態で行われた
が、潤滑状態での摩耗テストにおいても、無潤滑状態の
ときと略同様の傾向がみられた。なお、潤滑状態での摩
耗テスト条件は次の通りである。ディスクの材質 Al
−10重量%Si合金、ディスクの回転速度 5m/se
c 、給油量 0.3ml/min 、荷重 100N、摺動距
離 10km、摺動面構成体より製作されたチップの摺動
面の面積 1cm2 。摩耗量については前記と同じであ
る。
【0039】摺動面構成体は、例えば、表7に示すよう
な摺動部材の組合せにおいて、硬さの高い部材側に設け
られる。
【0040】
【表7】
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、結晶構造を前記のよう
に特定することによって、優れた耐摩耗性を有し、また
硬さの低い相手部材の摩耗を抑制し得る摺動面構成体を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ピストンを備えたシリンダブロックの要部縦断
側面図である。
【図2】体心立方構造およびその(3hh0)面を示す
斜視図である。
【図3】体心立方構造における(3hh0)面の傾きを
示す説明図である。
【図4】摺動面構成体の一例におけるX線回折図であ
る。
【図5】摺動面構成体の一例における摺動面の結晶構造
を示す顕微鏡写真である。
【図6】{310}配向性Fe結晶の存在率と硬さとの
関係を示すグラフである。
【図7】摩耗テスト結果を示すグラフである。
【符号の説明】
4 摺動面構成体

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 体心立方構造を持つ金属結晶の集合体よ
    り構成され、その集合体は、ミラー指数で(3hh0)
    面を摺動面側に向けた(3hh0)配向性金属結晶を含
    み、その(3hh0)配向性金属結晶の存在率 3hh0
    3hh0 ≧40%であることを特徴とする摺動面構成体。
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