JP2721247B2 - 精製インドールの製造方法 - Google Patents

精製インドールの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、精製インドールの製造方法に関する。
[従来の技術] 精製されたインドールは古くから知られた沸点53℃、
白色鱗片状結晶の化合物で、従来から染料、医薬、必須
アミノ酸の原料として用いられており、それ自身も香料
として使用されている有用な化合物である。インドール
は香料として使用する場合時に高純度が要求される。
精製インドールは化学合成後、反応混合物より分離回
収する方法又はコールタール中に存在しているインドー
ルを分離回収する方法によって得られている。未精製イ
ンドールを分離精製する方法としては(イ)蒸留法、
(ロ)インドールをアルカリ金属塩として分離した後加
水分解により回収する方法、(ハ)インドールを酸と接
触させるオリゴマー塩として分離した後、熱分解により
回収する方法、(ニ)溶媒による抽出法などが知られて
いる。
しかしながら、(イ)の方法によって得られたインド
ールには、インドールと沸点的に近い成分が多数存在し
ているため高純度のインドールを分離することは困難で
ある。また、(ロ)、(ハ)、(ニ)の方法で得られる
インドールの純度は40〜70%であり、これを蒸留するだ
けでは高純度のインドールを得ることは難しい。
一方、蒸留による分離が困難な場合、目的物を再結晶
により分離精製することは一般に知られている。特公昭
61−50942号公報では、コールタール中のインドールを
アルカリ金属塩として加水分解を行った後蒸留し、イン
ドールの濃度75〜98%かつメチルインドール類の濃度4
%以下の粗インドールとし、該留分をパラフィン系ある
いはナフテン系炭化水素溶媒から再結晶することによる
高純度インドールの精製法が公示されている。しかしな
がら、この方法で得られるインドールの純度は99.5%で
あり、工業用途には十分であるが香料用としては満足の
いく値ではない。
また、特開昭61−151170号公報には、未精製インドー
ルを再結晶法により精製するに際し、未精製インドール
と溶媒とを液−液または固−液接触することでインドー
ルを抽出し、得られたインドール溶液を分離した後、該
溶液からインドールを再結晶することによる高純度イン
ドールの精製法が公示されている。この場合未精製イン
ドールの純度は80〜98%のものを用い、未精製インドー
ルと溶媒とを液−液または固−液接触させる際の温度に
おいて、該溶媒中に抽出するインドール量以上の未精製
インドールをあらかじめ仕込む必要があり、その過剰率
は10重量%以上である。このように未精製インドールを
抽出量以上に仕込、一部残存させることで、インドール
中に溶媒以上に親和性の強いインドール誘導体を残存さ
せることができ、インドールの再結晶を行う際に有利と
なるが、過剰のインドールを用いなければならない、イ
ンドール過剰分にインドール誘導体などの不純物を濃縮
するため過剰分の再利用が難しいなどの欠点がある。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は得られるインドールの純度が高く、香料用と
して使用可能であり、且つインドール回収率が良好な精
製方法を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、極性溶媒で未精製インド
ール溶液を洗浄し再結晶すれば優れた功を奏することを
見出し、本発明を成すに至った。
即ち本発明は、80〜98%の純度の未精製インドールを
無極性溶媒に溶解し、これに該無極性溶媒と相溶性の低
い極性溶媒を加えて30〜50℃の温度で洗浄し、次いで該
極性溶媒層を除去した後、残った無極性溶媒層からイン
ドール結晶を析出させる純度99.6%以上の精製インドー
ルの製造方法を提供する。
本発明で用いる未精製インドールとしては特に限定さ
れず、例えば、コールタールからインドールをアルカリ
金属塩として分離した後加水分解により回収しさらに蒸
留を行い得られるもの、化学合成等で生成したインドー
ルを酸と接触させオリゴマー塩として分離した後熱分解
により回収するものなどが挙げられる。又上記未精製イ
ンドール中のインドール純度は特に限定されないが、例
えば60〜99重量%、好ましくは80〜98重量%である。
本発明で用いる無極性溶媒は未精製インドールの再結
晶溶媒として用いるもので、インドールに対し適当な溶
解度を持つものが好ましく、又容易に回収できるものが
好ましい。そのような無極性溶媒としては、例えば炭素
数5〜10を有する飽和炭化水素等が挙げられる。具体的
には例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン及びこれら
の混合物等が挙げられる。
上記未精製インドールを無極性溶媒に溶解するに際
し、使用する未精製インドールの量は特に限定されない
が例えば、溶解温度でのインドールの無極性溶媒に対す
る飽和溶解量の60〜120重量%、好ましくは80〜105重量
%である。使用量が60重量%より少ないとインドール結
晶の析出量が少なくインドールの回収率が低下し経済的
に不利となり、更に処理容量が増加し好ましくない。又
使用量が120重量%より多いと不純物が混入し十分な純
度のインドール結晶が得られず好ましくない。
上記溶解温度は、無極性溶媒の沸点以下ならばよく、
例えば、20〜80℃が好ましい。
次いで上記のようにして得られるインドール溶液に極
性溶媒を加え洗浄する。これによりインドール溶液中の
不純物は極性溶媒で抽出されインドール溶液層から除去
される。極性溶媒としては上記無極性溶媒と相溶性が低
く、且つ未精製インドール中に含まれる不純物を溶解す
る能力の大きい溶媒である。そのような極性溶媒として
は、例えばメタノール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ジエチレングリコール、ジメチルスチル
フォキシド及びこれらの混合物等が挙げられる。
上記極性溶媒の添加量は、無極性溶媒の種類、未精製
インドールの純度等により適宜選択されるが、無極性溶
媒に対し0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜10重量%であ
る。0.1重量%より少ないと不純物が十分除去できず
又、30重量%より多いとインドールが極性溶媒に溶解し
損失するので好ましくない。上記インドール溶液を極性
溶媒にて洗浄する際の温度は、以下に述べる再結晶工程
を考慮すると30〜50℃が好ましい。洗浄温度が低過ぎる
と続けて行う再結晶工程での歩留が低下するため、工業
的に不利となり、又高過ぎると再結晶の精製の効果が十
分でなくなり好ましくない。
又上記洗浄方法は通常の方法、例えば撹拌、振とう等
で行ってもよい。洗浄終了後は極性溶媒層を分液法等に
より除去し次いで再結晶工程へ進んでもよいが、上記イ
ンドール溶液中に極性溶媒が溶解して残存していると再
結晶での精製インドールの収率(歩留)が低下するた
め、再結晶工程前にインドール溶液を予め水などで更に
洗浄を行い極性溶媒を除いておくことが好ましい。
上記再結晶方法としては、通常の冷却法、濃縮法等で
も良いが、取り扱いの容易さから冷却法が好ましい。冷
却温度は適宜選択され特に限定されないが例えば、0〜
50℃である。上記析出した精製インドール結晶は、通常
の濾過法等を用いて単離してよい。
尚濾液は、結晶の析出終了温度における飽和溶解量の
インドールを含んでおり、又上記極性溶媒洗浄により不
純物の大部分は除かれている。従ってそのまま次回の再
結晶溶媒として濾液を使用することか出来、その結果再
結晶に於けるインドールの損失を減らすことが出来る。
[発明の効果] 本発明の方法により容易に得られる精製されたインド
ールは、非常に高純度であるため、医薬、染料、必須ア
ミノ酸の原料として有用であると共にそれ自身香料とし
て用いることが可能である。
[実施例] 次に本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1 未精製インドール(純度97.7重量%)30.0gにシクロ
ヘキサン100.0gを加え34℃にて撹拌・溶解した。このイ
ンドールのシクロヘキサン溶液にエチレングリコール1.
0gを加え34℃にて30分間撹拌を行った。撹拌終了後静置
して分層し、暗茶色に着色したエチレングリコール層を
除いた。次いで水10.0gを加え15分間34℃にて撹拌を行
った後静置して分層し、水層を除いた。この様にして得
られたインドールのシクロヘキサン溶液を25℃まで冷却
しインドール結晶を析出させた。析出したインドール結
晶を濾過により単離し、これをあらかじめ10℃に冷やし
ておいたシクロヘサン50gを洗浄を行って乾燥して精製
インドール結晶15.9gを得た。尚、濾液は以下の実施例
2及び3に使用した。得られた精製インドール結晶の純
度は99.9重量%で回収率(歩留)は未精製インドールに
対し53.0%であった。
実施例2 未精製インドールの量を30.0gから20.0gに、又シクロ
ヘキサン100.0gを実施例1の濾液11.0gに代えた以外は
実施例1と同様に濾過して精製インドール結晶を得た。
尚、濾液は実施例3に使用した。得られた精製インドー
ルの純度は99.9重量%で回収率は88.3%であった。
実施例3 実施例1の濾液の代わりに実施例2の濾液を使用する
以外は実施例2と同様にして精製インドール結晶を得
た。得られた精製インドールの純度は99.9重量%で回収
率は92.1%であった。
実施例1〜3の純度及び回収率より分るように、濾液
をリサイクル使用することにより無駄無く高純度の精製
インドールが得られる。
実施例4 未精製インドール(純度;97.7重量%)10.0gに無極性
溶媒としてシクロヘキサン100.0gを加え溶解温度34℃に
て撹拌・溶解した。このインドールのシクロヘキサン溶
液に極性溶媒としてエチレングリコール0.5gを加え洗浄
温度42℃にて30分間撹拌洗浄を行った。洗浄終了後静置
し分層して、着色したエチレングリコール層を除いた。
次いで水10.0gを加え15分間42℃にて撹拌洗浄を行った
後静置して分層し、水層を除いた。この様にして得られ
たインドールのシクロヘキサン溶液を5℃まで冷却しイ
ンドール結晶を析出させた。析出したインドール結晶は
濾過により単離し、あらかじめ0℃に冷やしておいたn
−ヘキサン25gで洗浄を行った後乾燥し精製インドール
5.5gを得た。なお得られたインドールの純度は99.9重量
%であった。
実施例5〜10 製造条件を表−1に示すように代えた以外は実施例4
と同様にして精製インドールを得た。得られた精製イン
ドールの収量及び純度を表−1に示す。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】80〜98%の純度の未精製インドールを無極
    性溶媒に溶解し、これに該無極性溶媒と相溶性の低い極
    性溶媒を加えて30〜50℃の温度で洗浄し、次いで該極性
    溶媒層を除去した後、残った無極性溶媒層からインドー
    ル結晶を析出させる純度99.6%以上の精製インドールの
    製造方法。
  2. 【請求項2】該無極性溶媒が炭素数5〜10の飽和炭化水
    素である請求項1記載の製造方法。
  3. 【請求項3】該飽和炭化水素がペンタン、ヘキサン、ヘ
    プタン、オクタン、シクロヘキサン及びメチルシロクヘ
    キサンから成る群より選ばれる化合物である請求項2記
    載の製造方法。
  4. 【請求項4】該極性溶媒がメタノール、エチレングリコ
    ール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール及
    びジメチルスルホキシドから成る群より選ばれる化合物
    である請求項1記載の製造方法。
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