JP2712391B2 - ディスク研摩装置 - Google Patents
ディスク研摩装置Info
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- JP2712391B2 JP2712391B2 JP63254982A JP25498288A JP2712391B2 JP 2712391 B2 JP2712391 B2 JP 2712391B2 JP 63254982 A JP63254982 A JP 63254982A JP 25498288 A JP25498288 A JP 25498288A JP 2712391 B2 JP2712391 B2 JP 2712391B2
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- load
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気ディスク，光ディスク等の円環状記録
媒体を構成するディスクの表面を研摩するためのディス
ク研摩装置に関するものである。
媒体を構成するディスクの表面を研摩するためのディス
ク研摩装置に関するものである。
［従来の技術］ 円環状の記録媒体として、磁気ディスクはアルミニウ
ム等の金属製のディスク表面に磁気記録膜を形成してな
るもので、この磁気記録膜の形成の前及び記録膜形成後
に、その表面の研摩加工が行われる。
ム等の金属製のディスク表面に磁気記録膜を形成してな
るもので、この磁気記録膜の形成の前及び記録膜形成後
に、その表面の研摩加工が行われる。
このディスク研摩装置としては、研摩テープを用い、
該研摩テープを加圧ローラによりディスクの表面に押し
付けた状態にして、該ディスクを回転させることによっ
てその全面を研摩加工するようにしたものは、従来から
知られている。ここで、研摩効率を向上すると共に、加
工むらが発生しないようにするために、特に、記録膜形
成後の研摩加工を行う場合においては、ディスクの記録
面の半径方向の長さより幅の広い研摩テープを用いるよ
うにしている。そして、このような幅広の研摩テープを
ディスクに押し付けるための加圧ローラは、その軸線方
向に長尺となるので、該加圧ローラを支軸に装着して、
この支軸の両端をブラケットにより支持させるようにし
ている。また、加圧ローラをディスクに対して均一な力
で押し付けるようにするために、平行板ばねが用いら
れ、この平行板ばねを所定量撓ませることによって、該
加圧ローラがディスクの表面と平行な方向に押し付ける
ようにしている。
該研摩テープを加圧ローラによりディスクの表面に押し
付けた状態にして、該ディスクを回転させることによっ
てその全面を研摩加工するようにしたものは、従来から
知られている。ここで、研摩効率を向上すると共に、加
工むらが発生しないようにするために、特に、記録膜形
成後の研摩加工を行う場合においては、ディスクの記録
面の半径方向の長さより幅の広い研摩テープを用いるよ
うにしている。そして、このような幅広の研摩テープを
ディスクに押し付けるための加圧ローラは、その軸線方
向に長尺となるので、該加圧ローラを支軸に装着して、
この支軸の両端をブラケットにより支持させるようにし
ている。また、加圧ローラをディスクに対して均一な力
で押し付けるようにするために、平行板ばねが用いら
れ、この平行板ばねを所定量撓ませることによって、該
加圧ローラがディスクの表面と平行な方向に押し付ける
ようにしている。
［発明が解決しようとする問題点］ ここで、磁気記録膜はスピンコーティング等の手段で
形成されるようになっているので、ディスクの内周側と
外周側とではその膜厚が異なっている。従って、この膜
厚の差に応じてディスクの半径方向に押し付け力に差を
持たせるようにする方が、より精密な加工を行うことが
できるようになるので好ましい。また、研摩装置の組付
け誤差等があったり、長期間使用している間に加圧ロー
ラが偏摩耗したりすると、加圧ローラのディスクへの押
し付け力が内周側と外周側とで変化することがある。こ
のためにも、加圧ローラによるディスクへの押し付け力
をその軸線方向に変化を持たせるように調整する必要も
ある。
形成されるようになっているので、ディスクの内周側と
外周側とではその膜厚が異なっている。従って、この膜
厚の差に応じてディスクの半径方向に押し付け力に差を
持たせるようにする方が、より精密な加工を行うことが
できるようになるので好ましい。また、研摩装置の組付
け誤差等があったり、長期間使用している間に加圧ロー
ラが偏摩耗したりすると、加圧ローラのディスクへの押
し付け力が内周側と外周側とで変化することがある。こ
のためにも、加圧ローラによるディスクへの押し付け力
をその軸線方向に変化を持たせるように調整する必要も
ある。
ところが、前述した従来技術によるディスク研摩装置
のように、平行板ばねによって加圧ローラのディスクに
対する押し付け力を発生させるようにすると、該加圧ロ
ーラ全体の押し付け力の調整を行うことができるもの
の、その軸線方向に押し付け力の変化を持たせて、ディ
スクの内周側と外周側との間における荷重に変化を持た
せるように調整することができないという欠点がある。
また、該加圧ローラのディスクに対する押し付け荷重の
測定は、荷重センサを用いることにより行うことができ
るが、前述した従来技術のものにあっては、全体荷重を
測定することができるが、ディスクの内周側と外周側と
の荷重をそれぞれ個別的に測定することができなかっ
た。
のように、平行板ばねによって加圧ローラのディスクに
対する押し付け力を発生させるようにすると、該加圧ロ
ーラ全体の押し付け力の調整を行うことができるもの
の、その軸線方向に押し付け力の変化を持たせて、ディ
スクの内周側と外周側との間における荷重に変化を持た
せるように調整することができないという欠点がある。
また、該加圧ローラのディスクに対する押し付け荷重の
測定は、荷重センサを用いることにより行うことができ
るが、前述した従来技術のものにあっては、全体荷重を
測定することができるが、ディスクの内周側と外周側と
の荷重をそれぞれ個別的に測定することができなかっ
た。
本発明は叙上の点に鑑みてなされたものであって、そ
の目的とするところは、ディスクの半径方向に押し付け
力の変化を持たせるように調整することができ、またデ
ィスクの内周側と外周側との荷重を個別的に測定するこ
とができるようにしたディスク研摩装置を提供すること
にある。
の目的とするところは、ディスクの半径方向に押し付け
力の変化を持たせるように調整することができ、またデ
ィスクの内周側と外周側との荷重を個別的に測定するこ
とができるようにしたディスク研摩装置を提供すること
にある。
［問題点を解決するための手段］ 前述した目的を達成するために、本発明は、加圧ロー
ラを回転自在に支持する支軸の両端部を非連結状態にし
て、それぞれの端部に取り付けた一対の支持部材と、各
支持部材をそれぞれ独立にディスク面と直交する方向に
変位させて、各支持部材による加圧ローラのディスクへ
の押し付け力を調整する荷重調整手段と、各支持部材に
よるディスクへの押し付け荷重をそれぞれ個別的に検出
する荷重検出手段とを備える構成としたことをその特徴
とするものである。
ラを回転自在に支持する支軸の両端部を非連結状態にし
て、それぞれの端部に取り付けた一対の支持部材と、各
支持部材をそれぞれ独立にディスク面と直交する方向に
変位させて、各支持部材による加圧ローラのディスクへ
の押し付け力を調整する荷重調整手段と、各支持部材に
よるディスクへの押し付け荷重をそれぞれ個別的に検出
する荷重検出手段とを備える構成としたことをその特徴
とするものである。
［作用］ このような構成を採用することによって、加圧ローラ
の支軸のうち、ディスクの内周側に位置する部分の支持
部材の押し付け力と、外周側に位置する部分の支持部材
の押し付け力とをそれぞれ別個に調整することができる
ようになり、加圧ローラによる押し付け力を内周側と外
周側とに差を持たせるように調整することができる。ま
た、これら各支持部材に荷重検出手段を設けるようにし
ているので、加圧ローラにおけるディスクの内周側の荷
重と外周側の荷重とをそれぞれ別個に測定することがで
きるようになり、この測定結果に基づいて加圧ローラの
荷重を極めて容易、かつ微細に調整することができるよ
うになる。
の支軸のうち、ディスクの内周側に位置する部分の支持
部材の押し付け力と、外周側に位置する部分の支持部材
の押し付け力とをそれぞれ別個に調整することができる
ようになり、加圧ローラによる押し付け力を内周側と外
周側とに差を持たせるように調整することができる。ま
た、これら各支持部材に荷重検出手段を設けるようにし
ているので、加圧ローラにおけるディスクの内周側の荷
重と外周側の荷重とをそれぞれ別個に測定することがで
きるようになり、この測定結果に基づいて加圧ローラの
荷重を極めて容易、かつ微細に調整することができるよ
うになる。
［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
まず、第１図にディスク研摩装置の全体構成を示す。
同図において、１はディスクを示し、該ディスク１はス
ピンドル２に装着されて、回転駆動させることができる
ようになっている。そして、このディスク１の回転中
に、その表裏両面に研摩テープ３を摺接させることによ
り、該ディスク１の表面の研摩加工を行うことができる
ようになっている。この研摩テープ３は、供給リール４
から繰り出されて、加圧ローラ５によってディスク１に
押し付けられて、巻取リール６に巻き取られるようにな
っている。
同図において、１はディスクを示し、該ディスク１はス
ピンドル２に装着されて、回転駆動させることができる
ようになっている。そして、このディスク１の回転中
に、その表裏両面に研摩テープ３を摺接させることによ
り、該ディスク１の表面の研摩加工を行うことができる
ようになっている。この研摩テープ３は、供給リール４
から繰り出されて、加圧ローラ５によってディスク１に
押し付けられて、巻取リール６に巻き取られるようにな
っている。
ここで、第２図及び第３図に示したように、研摩テー
プ３はディスク１の記録面における半径方向の長さより
広い幅のものであり、また加圧ローラ５の軸線方向の長
さも、この記録面の半径方向の長さより長くなってい
る。該加圧ローラ５には、支軸10が挿通されており、該
支軸10と加圧ローラ５の内面との間には軸受11が介装さ
れて、該加圧ローラ５はこの支軸10に対して回転自在と
なっている。そして、支軸10の両端に相互は連結されて
はおらず、各端部は独立した支持アーム12a,12bがそれ
ぞれ装着されており、該各支持アーム12a,12bは基台13
に設置したガイドレール14a,14bに沿ってディスク１に
対して近接・離間する方向に往復変位可能にガイドされ
ている。支持アーム12a,12bの後端部には立壁15a、15b
が突設されており、該各立壁15a,15bにはセンサブロッ
ク16a,16bに装着した荷重センサ17a,17bのセンサヘッド
18a,18bが当接している。これらセンサブロック16a,16b
はそれぞれガイドレール14a,14bに沿って移動可能とな
っている。
プ３はディスク１の記録面における半径方向の長さより
広い幅のものであり、また加圧ローラ５の軸線方向の長
さも、この記録面の半径方向の長さより長くなってい
る。該加圧ローラ５には、支軸10が挿通されており、該
支軸10と加圧ローラ５の内面との間には軸受11が介装さ
れて、該加圧ローラ５はこの支軸10に対して回転自在と
なっている。そして、支軸10の両端に相互は連結されて
はおらず、各端部は独立した支持アーム12a,12bがそれ
ぞれ装着されており、該各支持アーム12a,12bは基台13
に設置したガイドレール14a,14bに沿ってディスク１に
対して近接・離間する方向に往復変位可能にガイドされ
ている。支持アーム12a,12bの後端部には立壁15a、15b
が突設されており、該各立壁15a,15bにはセンサブロッ
ク16a,16bに装着した荷重センサ17a,17bのセンサヘッド
18a,18bが当接している。これらセンサブロック16a,16b
はそれぞれガイドレール14a,14bに沿って移動可能とな
っている。
さらに、ガイドレール14a、14bにおけるセンサブロッ
ク16a,16bより後端側の位置には、調整ブロック19a,19b
が往復移動可能に設けられており、該各調整ブロック19
a,19bとセンサブロック16a,16bとの間にはばね20a,20b
が縮設されている。また、各調整ブロック19a,19bに
は、基台13に装着した取付部材21に装着したマイクロメ
ータ22a、22bのヘッド23a,23bが当接している。
ク16a,16bより後端側の位置には、調整ブロック19a,19b
が往復移動可能に設けられており、該各調整ブロック19
a,19bとセンサブロック16a,16bとの間にはばね20a,20b
が縮設されている。また、各調整ブロック19a,19bに
は、基台13に装着した取付部材21に装着したマイクロメ
ータ22a、22bのヘッド23a,23bが当接している。
ここで、マイクロメータ22a,22bは、調整ブロック19
a,19bの位置をそれぞれ個別的に調整するためのもので
あって、該マイクロメータ22a,22bを適宜螺回してヘッ
ド23a,23bを伸長または縮小させることによって、該各
調整ブロック19a,19bをガイドレール14a,14bに沿って往
復移動させることができるようになっている。そして、
このように調整ブロック19a,19bの位置を調整すると、
センサブロック16a,16bが変位し、さらに支持アーム12
a,12bも追従変位するようになっている。而して、支持
アーム12a,12bは個別的に変位するようになっており、
この結果、支軸10はガイドレール14a,14bに対してある
角度で傾いた状態となることがある。この支軸10の傾き
を可能ならしめるために、支軸10は支持アーム12a,12b
の先端に設けた長溝24a,24bにそれぞれ挿通されて、ピ
ン25a,25bで止着されて、支軸10はディスク１の板厚方
向に回動可能となっている。しかも、該支軸10に設けた
ピン挿通孔26a,26bのうちの一方のピン挿通孔26aはその
軸方向に長孔となっている。
a,19bの位置をそれぞれ個別的に調整するためのもので
あって、該マイクロメータ22a,22bを適宜螺回してヘッ
ド23a,23bを伸長または縮小させることによって、該各
調整ブロック19a,19bをガイドレール14a,14bに沿って往
復移動させることができるようになっている。そして、
このように調整ブロック19a,19bの位置を調整すると、
センサブロック16a,16bが変位し、さらに支持アーム12
a,12bも追従変位するようになっている。而して、支持
アーム12a,12bは個別的に変位するようになっており、
この結果、支軸10はガイドレール14a,14bに対してある
角度で傾いた状態となることがある。この支軸10の傾き
を可能ならしめるために、支軸10は支持アーム12a,12b
の先端に設けた長溝24a,24bにそれぞれ挿通されて、ピ
ン25a,25bで止着されて、支軸10はディスク１の板厚方
向に回動可能となっている。しかも、該支軸10に設けた
ピン挿通孔26a,26bのうちの一方のピン挿通孔26aはその
軸方向に長孔となっている。
本実施例は前述のように構成されるものであって、次
にその作用について説明する。
にその作用について説明する。
ディスク１をスピンドル２に装着し、該ディスク１の
表裏両面に研摩テープ３を加圧ローラ５によって押し付
ける。そして、研摩テープ３を供給リール４から巻取リ
ール６に向けて走行させると共に、スピンドル２により
ディスク１を回転させることによって、該ディスク１の
表裏両面の研摩加工を行うことができるようになる。
表裏両面に研摩テープ３を加圧ローラ５によって押し付
ける。そして、研摩テープ３を供給リール４から巻取リ
ール６に向けて走行させると共に、スピンドル２により
ディスク１を回転させることによって、該ディスク１の
表裏両面の研摩加工を行うことができるようになる。
ここで、加圧ローラ５による研摩テープ３のディスク
１に対する押し付け力は調整ブロック19a,19bとセンサ
ブロック16a,16bとの間に縮設されたばね20a,20bの付勢
力により得られるものである。即ち、調整ブロック19a,
19bには取付部材21に取り付けたマイクロメータ22a,22b
のヘッド23a,23bが当接して、その位置が規制されてい
る。従って、ばね20a,20bの付勢力はセンサブロック16
a,16bに作用し、このセンサブロック16a,16bに装着した
荷重センサ17a,17bのセンサヘッド18a,18bが支持アーム
2a,12bをガイドレール14a,14bに沿ってディスク１に近
接する方向に押し付けて、該支持アーム12a,12b間に設
けた支軸10に装着した加圧ローラ５がディスク１に押し
付けられることになる。
１に対する押し付け力は調整ブロック19a,19bとセンサ
ブロック16a,16bとの間に縮設されたばね20a,20bの付勢
力により得られるものである。即ち、調整ブロック19a,
19bには取付部材21に取り付けたマイクロメータ22a,22b
のヘッド23a,23bが当接して、その位置が規制されてい
る。従って、ばね20a,20bの付勢力はセンサブロック16
a,16bに作用し、このセンサブロック16a,16bに装着した
荷重センサ17a,17bのセンサヘッド18a,18bが支持アーム
2a,12bをガイドレール14a,14bに沿ってディスク１に近
接する方向に押し付けて、該支持アーム12a,12b間に設
けた支軸10に装着した加圧ローラ５がディスク１に押し
付けられることになる。
而して、マイクロメータ22a,22bを適宜螺回してヘッ
ド23a,23bを伸長させたり、縮小させたりすれば、加圧
ローラ５のディスク１に対する押し付け力を調整するこ
とができるようになるが、この押し付け力の調整はディ
スク１の内周側と外周側とでそれぞれ独立して行うこと
ができるようになる。即ち、マイクロメータ22aのヘッ
ド23aを伸長させれば、加圧ローラ５のうち、ディスク
１の内周側の押し付け力が大きくなり、該ヘッド23aを
縮小させれば、内周側の押し付け力が小さくなる。ま
た、マイクロメータ22bのヘッド23bを伸長させると、加
圧ローラ５におけるディスク１の外周側の部分に対する
押し付け力が大きくなり、該ヘッド23bを縮小させる
と、この外周側部分の押し付け力が小さくなる。このよ
うに、マイクロメータ22a,22bをそれぞれ独立して動か
すことによって加圧ローラ５の内周側の押し付け力を調
整した時に、外周側の押し付け力が変化することはな
く、また外周側の押し付け力を調整した時に、内周側の
押し付け力が影響を受けることはない。さらに、押し付
け力の調整はマイクロメータ22a,22bで行うようにして
いるから、内外周における押し付け力を自在に、しかも
容易かつ微細に調整することができる。
ド23a,23bを伸長させたり、縮小させたりすれば、加圧
ローラ５のディスク１に対する押し付け力を調整するこ
とができるようになるが、この押し付け力の調整はディ
スク１の内周側と外周側とでそれぞれ独立して行うこと
ができるようになる。即ち、マイクロメータ22aのヘッ
ド23aを伸長させれば、加圧ローラ５のうち、ディスク
１の内周側の押し付け力が大きくなり、該ヘッド23aを
縮小させれば、内周側の押し付け力が小さくなる。ま
た、マイクロメータ22bのヘッド23bを伸長させると、加
圧ローラ５におけるディスク１の外周側の部分に対する
押し付け力が大きくなり、該ヘッド23bを縮小させる
と、この外周側部分の押し付け力が小さくなる。このよ
うに、マイクロメータ22a,22bをそれぞれ独立して動か
すことによって加圧ローラ５の内周側の押し付け力を調
整した時に、外周側の押し付け力が変化することはな
く、また外周側の押し付け力を調整した時に、内周側の
押し付け力が影響を受けることはない。さらに、押し付
け力の調整はマイクロメータ22a,22bで行うようにして
いるから、内外周における押し付け力を自在に、しかも
容易かつ微細に調整することができる。
このように、ディスク１の内周側と外周側とにおける
押し付け力に差を持たせるように調整したときに、支軸
10の軸線はガイドレール14a,14bと直交する線に対して
一定の角度傾くことになる。しかしながら、支軸10の両
端はそれぞれピン25a,25bを介して支持アーム12a,12bに
連結されており、しかも該ピン25a,25bを挿通させるピ
ン挿通孔26a,26bのうち一方のピン挿通孔26aは長孔とな
っているので、かかる支軸10の傾きが可能となる。
押し付け力に差を持たせるように調整したときに、支軸
10の軸線はガイドレール14a,14bと直交する線に対して
一定の角度傾くことになる。しかしながら、支軸10の両
端はそれぞれピン25a,25bを介して支持アーム12a,12bに
連結されており、しかも該ピン25a,25bを挿通させるピ
ン挿通孔26a,26bのうち一方のピン挿通孔26aは長孔とな
っているので、かかる支軸10の傾きが可能となる。
前述した如く、加圧ローラ６のディスク１に対する内
周側の押し付け力と外周側の押し付け力とをそれぞれ独
立して調整することができるようになっているので、例
えば組付け誤差等により加圧ローラ５のディスク１に対
する押し付け力が均一でない場合において、この押し付
け力の均一化を図るように微細に調整することができ
る。また、加圧ローラ５が偏摩耗した場合にも、同様に
押し付け力の調整を行うことができるようになる。ここ
で、センサブロック16a,16bには、それぞれ荷重の測定
を行うための荷重センサ17a,17bが装着されているの
で、この荷重センサ17a、17bによって測定結果に基づい
てディスク１の内周側または外周側の押し付け力を調整
すれば、その調整を極めて容易に行うことができる。
周側の押し付け力と外周側の押し付け力とをそれぞれ独
立して調整することができるようになっているので、例
えば組付け誤差等により加圧ローラ５のディスク１に対
する押し付け力が均一でない場合において、この押し付
け力の均一化を図るように微細に調整することができ
る。また、加圧ローラ５が偏摩耗した場合にも、同様に
押し付け力の調整を行うことができるようになる。ここ
で、センサブロック16a,16bには、それぞれ荷重の測定
を行うための荷重センサ17a,17bが装着されているの
で、この荷重センサ17a、17bによって測定結果に基づい
てディスク１の内周側または外周側の押し付け力を調整
すれば、その調整を極めて容易に行うことができる。
また、ディスク１の磁気記録膜はスピンコーディング
により形成されるものであって、このために該ディスク
１の外周部分の記録膜の膜厚は厚く、内周側は薄くなっ
ており、このために該ディスク１は僅かではあるが傾斜
面となっている。従って、加圧ローラ５をこの傾斜面に
沿わせるようにする場合には、内周側の支持アーム12a
の押し付け力が大きくなるように、マイクロメータ22a
のヘッド23aを伸長させる。一方、この傾斜面を平坦化
するには、外周側の支持アーム12bの押し付け力が大き
くなるように、マイクロメータ22bのヘッド23bを伸長さ
せる。そして、この調整を行うには、加圧ローラ５にお
けるディスク１の外周側と内周側との押し付け荷重を個
別的に測定する荷重センサ17a,17bにおける測定結果に
基づいて行うようにすれば、格別熟練を要することな
く、この荷重の調整を行うことができるようになる。
により形成されるものであって、このために該ディスク
１の外周部分の記録膜の膜厚は厚く、内周側は薄くなっ
ており、このために該ディスク１は僅かではあるが傾斜
面となっている。従って、加圧ローラ５をこの傾斜面に
沿わせるようにする場合には、内周側の支持アーム12a
の押し付け力が大きくなるように、マイクロメータ22a
のヘッド23aを伸長させる。一方、この傾斜面を平坦化
するには、外周側の支持アーム12bの押し付け力が大き
くなるように、マイクロメータ22bのヘッド23bを伸長さ
せる。そして、この調整を行うには、加圧ローラ５にお
けるディスク１の外周側と内周側との押し付け荷重を個
別的に測定する荷重センサ17a,17bにおける測定結果に
基づいて行うようにすれば、格別熟練を要することな
く、この荷重の調整を行うことができるようになる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明は、加圧ローラを支持す
る支軸の相互に連結することなく、これら支軸の各端部
を荷重調整手段で相互に独立に押し付け荷重の調整を行
うようにしているから、内周側及び外周側のいずれか一
方で押し付け荷重を設定した後に、荷重調整手段を操作
して他方の押し付け荷重を設定する際に、既に設定され
ている側の押し付け荷重が変化するようなことはなく、
またこれら支軸の両端の荷重はそれぞれ独立に設けた荷
重検出手段で個別的に検出できることから、加圧ローラ
によるディスクの半径方向における押し付け荷重に自在
な変化を持たせ、かつ微細に調整できるようになり、こ
の荷重の調整を極めて容易に行うことができる。
る支軸の相互に連結することなく、これら支軸の各端部
を荷重調整手段で相互に独立に押し付け荷重の調整を行
うようにしているから、内周側及び外周側のいずれか一
方で押し付け荷重を設定した後に、荷重調整手段を操作
して他方の押し付け荷重を設定する際に、既に設定され
ている側の押し付け荷重が変化するようなことはなく、
またこれら支軸の両端の荷重はそれぞれ独立に設けた荷
重検出手段で個別的に検出できることから、加圧ローラ
によるディスクの半径方向における押し付け荷重に自在
な変化を持たせ、かつ微細に調整できるようになり、こ
の荷重の調整を極めて容易に行うことができる。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図はディス
ク研摩装置の全体構成図、第２図は加圧ローラ及びその
押し付け力調整機構を示す平面図、第３図は第２図の正
面図である。 1:ディスク、2:スピンドル、3:研摩テープ、5:加圧ロー
ラ、10:支軸、11:軸受、12a,12b:支持アーム、13:基
台、14a,14b:ガイドレール、15a,15b:立壁、16a,16b:セ
ンサブロック、17a,17b:荷重センサ、18a18b:センサヘ
ッド、19a,19b:調整ブロック、20a,20b:ばね、21:取付
部材、22a,22b:マイクロメータ、23a,23b:ヘッド、25a,
25b:ピン、26a,26b:ピン挿通孔。
ク研摩装置の全体構成図、第２図は加圧ローラ及びその
押し付け力調整機構を示す平面図、第３図は第２図の正
面図である。 1:ディスク、2:スピンドル、3:研摩テープ、5:加圧ロー
ラ、10:支軸、11:軸受、12a,12b:支持アーム、13:基
台、14a,14b:ガイドレール、15a,15b:立壁、16a,16b:セ
ンサブロック、17a,17b:荷重センサ、18a18b:センサヘ
ッド、19a,19b:調整ブロック、20a,20b:ばね、21:取付
部材、22a,22b:マイクロメータ、23a,23b:ヘッド、25a,
25b:ピン、26a,26b:ピン挿通孔。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−237859（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−89264（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−39170（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−140154（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】ディスクの記録面における半径方向の全長
より広い幅の研摩テープを加圧ローラによって前記ディ
スクの表面に押し付けた状態で、該ディスクを回転させ
ることにより、その表面研摩を行うようにしたものにお
いて、前記加圧ローラを回転自在に支持する支軸の両端
部間は非連結状態にして、それぞれの端部に取り付けた
一対の支持部材と、該各支持部材をそれぞれ独立に前記
ディスク面と直交する方向に変位させて、該各支持部材
による前記加圧ローラのディスクへの押し付け力を調整
する荷重調整手段と、前記各支持部材による前記ディス
クへの押し付け荷重をそれぞれ個別的に検出する荷重検
出手段とを備える構成としたことを特徴とするディスク
研摩装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254982A JP2712391B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | ディスク研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254982A JP2712391B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | ディスク研摩装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02106264A JPH02106264A (ja) | 1990-04-18 |
| JP2712391B2 true JP2712391B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=17272572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63254982A Expired - Fee Related JP2712391B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | ディスク研摩装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2712391B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4180409B2 (ja) | 2003-03-17 | 2008-11-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 研磨装置およびこの研磨装置を用いた磁気ディスク製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59140154U (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-19 | 日本電気株式会社 | デイスク研摩装置 |
| JPS6239170A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-20 | Hitachi Zosen Corp | 円盤状工作物の鏡面加工装置 |
| JPS6389264A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | デイスク加工装置 |
| JPS63237859A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-04 | Hitachi Seiko Ltd | テ−プ研磨装置 |
-
1988
- 1988-10-12 JP JP63254982A patent/JP2712391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02106264A (ja) | 1990-04-18 |
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