JP2702275B2 - 消火装置 - Google Patents

消火装置

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造設備における火災を鎮火
させるための消火装置に関し、特に半導体基板を処理す
る処理装置に使用される薬品による火災を鎮火する消火
装置に関する。
〔従来の技術〕
一般に、半導体ICの製造工場では、半導体基板を洗
浄、エッチング等を行なう処理装置が多く設置されてい
る。そしてこれらの処理装置に種々の処理用薬品が使用
されている。例えば、洗浄装置の場合、当初、この薬品
に関しては、洗浄能力のあるフロンもしくは難燃性の有
機溶剤が使用されてきたが、最近は環境問題のため、代
替品としてアルコール類等の人体に無害であるが、引火
性の薬品に代えつつある。
しかしながら、このような引火性薬品は、火災を発生
させる危険度を多く含んでいる。このため、これら洗浄
装置には、1台あるいは数台の単位毎に消火装置をもっ
ている。また、この消火装置の消火剤については、消火
能力は勿論、洗浄装置に損傷を与えず、汚染されても容
易に復元出来る消火剤が選べられていた。例えば、半導
体基板を洗浄する洗浄装置の例をとっても、この消火剤
としては、その消火能力からハロンガスを使用してい
る。
第2図は従来の一例を示す消火装置の系統図である。
この消火装置は、同図に示すように、洗浄槽4に溜めら
れる液状の薬品5が発生する火炎を検知する光センサ8
及び計器9と、この光センサ8及び計器9の検知信号に
よりそのゲートを開くバルブ10と、このバルブ10と接続
し、消火剤を供給するボンベ11と、バルブ10が開くこと
により消火剤を洗浄槽4の開口全面に噴射するノズル6
とを有している。
次に、この消火装置の動作を説明する。まず、半導体
基板である被洗浄物1が複数枚収納されるマガジンケー
ス2を処理槽3に浸ける。次に、所定時間後、マガジン
ケース2を引上げ、矢印の方向に移動する。次に、マガ
ジンケース2を洗浄槽4の薬品5に浸ける。このとき、
薬品が何らかの原因で火災を発生したとすると、光セン
サ8が炎を検知し、計器9を介して電気信号を出力す
る。この電気信号によりバルブ10が開き、ボンベ11より
消火剤であるハロンガスが配管7を通して流れる。そし
てノズル8によりハロンガスが洗浄槽4の開口一杯に広
がりをもって噴射させ、槽内の消火及び周辺への延焼を
防止する。通常、この程度の火災なら0.2〜0.5秒程度で
鎮火される。
そして鎮火後は、薬品で汚染された洗浄槽は、洗浄す
ることによって復帰させていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかさながら、最近、この消火剤であるハロンも、環
境汚染の問題として取り上げられ、去る1989年11月13日
〜17日開催されたモントリオール議定書改正作業部会で
は、ハロンも使用禁止の方向付けを決定した。
このため、従来の消火装置に、このハロンがいずれ使
用できなくなるという問題がある。また、このハロンを
使用した従来の消火装置に代る火災消火システムを新た
に構築するとなると、工場全体に係わる消火システムに
しなければならず、システムが大掛りになり、多大な投
資が必要となるばかりか、一度火災が起きると洗浄装置
の復元が困難になる。それにもまして致命的なことは、
このハロンガスの代替品が現存しないことである。
本発明の目的は、かかる問題を解決すべく使用してい
る薬品が火災により発生する媒体を不燃性にするととも
に人畜無害の媒体に変え、かつ装置に損傷することなく
火災を鎮火する消火装置を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の特徴は、半導体基板を処理する処理装置の火
災を鎮火させる消火装置において、前記処理装置から発
生する火炎を検知する検知手段と、この検知手段により
前記処理装置内の処理用薬品に消火ガスを噴射する消火
ガス噴射手段と、前記消火ガスにより鎮火される前記処
理用薬品を前記処理装置より排出する薬品排出手段と、
排出される前記処理用薬品に水を混入させ引火点を高め
る水供給手段と、前記火災により前記処理用薬品から発
生するガスを希釈させ不燃性で人畜無害のガスに置換さ
せる置換用ガスを供給する置換ガス供給装置とを備える
消火装置である。また、前記消火ガスが炭酸ガスである
ことが望ましい。さらに、前記置換用ガスが不活性ガス
であることが望ましい。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す消火装置の系統図で
ある。この消火装置は、同図に示すように、駆動源15で
開くバルブ14と配管18を介して洗浄槽4より鎮火された
消火剤混入りの薬品を排出して溜める貯槽21と、この貯
槽21に溜められる前記消火剤が混入する薬品に水を供給
することにより希釈し、その引火点を高くする水供給機
構と、貯層21及び配管18内の空間部19に浮遊する火災に
よる発生ガスを引火点の高く人畜無害のガスに置換する
ために不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置とを設
けたことである。また、不活性ガスに置換された安定し
たガスを屋外に排出する排気管23と、安定した廃液を貯
槽21より屋外に排出するための廃液管24及びバルブ25と
が貯槽21に接続されている。さらに、水供給機構は、図
示していない水源と、貯槽21を水源とを継なぐ配管とで
構成される。それ以外は従来例と同じである。
一方、前記不活性ガス供給装置は、貯槽21に一端を接
続する配管20と、この配管20の他端に流量計12、流量制
御弁13及び減圧弁17を介して接続される不活性ガス供給
用ボンベ16とを有している。ここで、消火剤としては、
炭酸ガスを用い、不活性ガスとしては、アルゴン、ヘリ
ウム等の種々があるが、最も安価な窒素ガスを用いた。
次に、この消火装置の動作を説明する。まず、従来例
と同様に、薬品5が着火すると、光センサ8が動作し、
ノズル8より消火剤である炭酸ガスが噴射される。これ
と同時に駆動源15が作動し、バルブ14が開く、このこと
により、鎮火されつつある炭酸ガス混入の薬品5は配管
18を通し貯槽21に流れ込む。これと同時に水が貯槽21に
供給されるので、消火剤混入の薬品は、水と同程度の引
火点まで希釈され貯槽21に溜められる。一方、このとき
生ずる消火剤混入のガスは不活性ガス用ボンベより供給
される窒素ガスに置換され、排気管23を通して屋外に排
出される。さらに、貯槽21に溜められる廃液は、水位計
で検知され所定以上のレベルに達したら、自動的に排液
管24を通して屋外に流す。
ここで、貯槽21内に供給される水の量と洗浄槽4にお
ける薬品の量との比は、水が薬品の1.5倍以上あれば良
く、燃えるときに有毒なガスが発生しない薬品であれ
ば、前記不活性ガス供給装置は必要はないかもしれな
い。
なお、この実施例では、ノズル6と洗浄槽4の開口の
間にフードがないが、発生するガスが洩れないようにフ
ードを設けた方が良い。また、このフードは、通常の作
業の邪魔にならない程度に、フードと開口面との間を開
け、非常時にこのフードが開口面を覆うようにすれば、
発生するガスは装置外に洩れることがない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、処理装置の炎燒する処
理用薬品に不燃性媒体を噴射する手段と、不燃性媒体が
混入する前記薬品を前記処理装置より排出し、蓄める貯
層と、この貯槽に溜められる前記薬品を希釈して引火点
を高めるために水を供給する水供給手段と、前記薬品が
燃焼時に発生するガスを不燃性でかつ人畜無害にする置
換ガスを供給する不活性ガス供給装置とを設けることに
よって、薬品が火災により発生する媒体を不燃性にする
とともに人畜無害の媒体に変え、かつ装置に損傷するこ
となく火災を鎮火させることの出来る消火装置が得られ
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す消火装置の系統図、第
2図は従来の一例を示す消火装置の系統図である。 1……被洗浄物、2……マガジンケース、3……処理
槽、4……洗浄槽、5……薬品、6……ノズル、7、1
8、20……配管、8……光センサ、9……計器、10、1
4、25……バルブ、11……ボンベ、12……計量計、13…
…流量制御弁、15……駆動源、16……不活性ガス用ボン
ベ、17……減圧弁、19……空間部、21……貯槽、23……
排気管、24……排液管。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体基板を処理する処理装置の火災を鎮
    火させる消火装置において、前記処理装置から発生する
    火炎を検知する検知手段と、この検知手段により前記処
    理装置内の処理用薬品に消火ガスを噴射する消火ガス噴
    射手段と、前記消火ガスにより鎮火される前記処理用薬
    品を前記処理装置より排出する薬品排出手段と、排出さ
    れる前記処理用薬品に水を混入させ引火点を高める水供
    給手段と、前記火災により前記処理用薬品から発生する
    ガスを希釈させ不燃性で人畜無害のガスに置換させる置
    換用ガスを供給する置換ガス供給装置とを備えることを
    特徴とする消火装置。
  2. 【請求項2】前記消火ガスが炭酸ガスであることを特徴
    とする請求項1記載の消火装置。
  3. 【請求項3】前記置換用ガスが不活性ガスであることを
    特徴とする請求項1または2記載の消火装置。
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