JP2628514B2 - 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 - Google Patents
引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置Info
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- JP2628514B2 JP2628514B2 JP4050407A JP5040792A JP2628514B2 JP 2628514 B2 JP2628514 B2 JP 2628514B2 JP 4050407 A JP4050407 A JP 4050407A JP 5040792 A JP5040792 A JP 5040792A JP 2628514 B2 JP2628514 B2 JP 2628514B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータや各種電
子機器等に組み入れる実装用基板等の洗浄において、ア
ルコール類水溶液や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性
水系溶剤を利用した洗浄方法及び洗浄ライン装置に関す
る。
子機器等に組み入れる実装用基板等の洗浄において、ア
ルコール類水溶液や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性
水系溶剤を利用した洗浄方法及び洗浄ライン装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の分野においては、フロン
１１３（Ｃ２Ｆ３Ｃｌ３）等の有機フッ素系化合物を用
いて洗浄が行われるのが主であった。近年、有機フッ素
系化合物の人体に対する毒性がクローズアップされ、ま
た、その地球的規模の環境への影響（オゾン層の破壊）
等を考慮して、その使用が規制され始めている。そこ
で、引火性水系溶剤を用いて、実装用基板等の洗浄を行
う方法が各種提案されている。
１１３（Ｃ２Ｆ３Ｃｌ３）等の有機フッ素系化合物を用
いて洗浄が行われるのが主であった。近年、有機フッ素
系化合物の人体に対する毒性がクローズアップされ、ま
た、その地球的規模の環境への影響（オゾン層の破壊）
等を考慮して、その使用が規制され始めている。そこ
で、引火性水系溶剤を用いて、実装用基板等の洗浄を行
う方法が各種提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、現在用いら
れている引火性水系溶剤というのは、アルコール類水溶
液や石油系溶剤を含む水溶液なので、極めて揮発性・引
火性が高く、通常の洗浄装置では、乾燥工程や何かの拍
子（例・装置内のスイッチによる火花等）で誘爆する危
険性が非常に高く、また、水系溶剤が揮発・蒸発した蒸
気の作業中の人体に対する影響も見逃しがたい。ここに
おいて本発明は、前記従来の引火性水系溶剤を使用する
洗浄に関する問題点に鑑み、誘爆する危険性が少なく、
なおかつ人体に対する影響も考慮した、引火性水系溶剤
を使用した洗浄方法および装置を提供せんとするもので
ある。
れている引火性水系溶剤というのは、アルコール類水溶
液や石油系溶剤を含む水溶液なので、極めて揮発性・引
火性が高く、通常の洗浄装置では、乾燥工程や何かの拍
子（例・装置内のスイッチによる火花等）で誘爆する危
険性が非常に高く、また、水系溶剤が揮発・蒸発した蒸
気の作業中の人体に対する影響も見逃しがたい。ここに
おいて本発明は、前記従来の引火性水系溶剤を使用する
洗浄に関する問題点に鑑み、誘爆する危険性が少なく、
なおかつ人体に対する影響も考慮した、引火性水系溶剤
を使用した洗浄方法および装置を提供せんとするもので
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題の解決は、本発
明が次に列挙する新規な特徴的構成手法及び手段を採用
することにより達成される。即ち、本発明方法の特徴
は、二重開閉扉を備えた密閉待機室へ実装用基板等の被
洗浄物を載置水平搬入して外気から隔離して一時待機さ
せる密閉待機工程と、密閉・隔離した窒素等の不活性ガ
ス雰囲気を有し、消火剤を散布可能かつ前記密閉待機室
に開閉扉にて連結した密閉防爆洗浄室に被洗浄物を載置
水平搬送する搬送工程と、前記密閉防爆洗浄室にて、ア
ルコール類水溶液や石油系溶剤を含む引火性水系溶剤の
洗浄槽に縦吊り搬送しながら複数回垂直静浸漬して室内
溶剤蒸気圧を一定に保持するとともに前記不活性ガスと
のバランスを保持しつつ洗浄する洗浄工程と、被洗浄物
を載置水平水中搬送する受渡水槽と当該受渡水槽の水面
下まで延在する防爆仕切壁により前記密閉防爆洗浄室か
ら仕切られた通常雰囲気水洗室にて、水洗槽に縦吊り搬
送しながら引火性水系溶剤の付着がなくなるまで複数回
垂直静浸漬する水洗工程と、前記水洗工程に連結して水
平載置搬送しながら熱風乾燥する乾燥工程とを一貫連続
経由して行う引火性水系洗浄剤を用いる洗浄方法にあ
る。
明が次に列挙する新規な特徴的構成手法及び手段を採用
することにより達成される。即ち、本発明方法の特徴
は、二重開閉扉を備えた密閉待機室へ実装用基板等の被
洗浄物を載置水平搬入して外気から隔離して一時待機さ
せる密閉待機工程と、密閉・隔離した窒素等の不活性ガ
ス雰囲気を有し、消火剤を散布可能かつ前記密閉待機室
に開閉扉にて連結した密閉防爆洗浄室に被洗浄物を載置
水平搬送する搬送工程と、前記密閉防爆洗浄室にて、ア
ルコール類水溶液や石油系溶剤を含む引火性水系溶剤の
洗浄槽に縦吊り搬送しながら複数回垂直静浸漬して室内
溶剤蒸気圧を一定に保持するとともに前記不活性ガスと
のバランスを保持しつつ洗浄する洗浄工程と、被洗浄物
を載置水平水中搬送する受渡水槽と当該受渡水槽の水面
下まで延在する防爆仕切壁により前記密閉防爆洗浄室か
ら仕切られた通常雰囲気水洗室にて、水洗槽に縦吊り搬
送しながら引火性水系溶剤の付着がなくなるまで複数回
垂直静浸漬する水洗工程と、前記水洗工程に連結して水
平載置搬送しながら熱風乾燥する乾燥工程とを一貫連続
経由して行う引火性水系洗浄剤を用いる洗浄方法にあ
る。
【０００５】本発明装置の特徴は、アルコール類水溶液
や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性水系溶剤を用いて
洗浄を行う洗浄装置において、窒素等の不活性ガスを噴
出する窒素補給ノズルと消火剤を散布する消火ノズルと
を設けるとともに前記引火性水系溶剤を貯留した洗浄槽
を有して独立内架した縦吊り搬送機構で運搬しながら室
内の溶剤蒸気圧を一定に保持しかつ不活性ガスとのバラ
ンスをも保持する垂直静浸漬洗浄を行う密閉防爆洗浄室
と、当該密閉防爆洗浄室へ洗浄のため被洗浄物を扉を開
いて搬入するため、外気と直接前記不活性ガス雰囲気を
遮断自在に前記密閉防爆洗浄室と外気との間に設けられ
る二重開閉扉を有する密閉待機室と、前記密閉防爆洗浄
室とは水を充填した水槽で被洗浄物受渡し自在に連結さ
れ僅かに混入してくる引火性水系溶剤の蒸気を排出する
ための排気ダクトを有して通常の空気雰囲気を呈し、前
記密閉防爆洗浄室とは水槽以外防爆壁等の適宜仕切手段
により隔離されて独立に内架した縦吊り搬送機構で運搬
しながら垂直静浸漬水洗を複数回多段に行う水洗室と、
当該水洗室に扉を介し連続して被洗浄物の熱風乾燥を水
平載置搬送しながら行う乾燥室とを一貫ライン連結して
なる洗浄ライン装置にある。
や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性水系溶剤を用いて
洗浄を行う洗浄装置において、窒素等の不活性ガスを噴
出する窒素補給ノズルと消火剤を散布する消火ノズルと
を設けるとともに前記引火性水系溶剤を貯留した洗浄槽
を有して独立内架した縦吊り搬送機構で運搬しながら室
内の溶剤蒸気圧を一定に保持しかつ不活性ガスとのバラ
ンスをも保持する垂直静浸漬洗浄を行う密閉防爆洗浄室
と、当該密閉防爆洗浄室へ洗浄のため被洗浄物を扉を開
いて搬入するため、外気と直接前記不活性ガス雰囲気を
遮断自在に前記密閉防爆洗浄室と外気との間に設けられ
る二重開閉扉を有する密閉待機室と、前記密閉防爆洗浄
室とは水を充填した水槽で被洗浄物受渡し自在に連結さ
れ僅かに混入してくる引火性水系溶剤の蒸気を排出する
ための排気ダクトを有して通常の空気雰囲気を呈し、前
記密閉防爆洗浄室とは水槽以外防爆壁等の適宜仕切手段
により隔離されて独立に内架した縦吊り搬送機構で運搬
しながら垂直静浸漬水洗を複数回多段に行う水洗室と、
当該水洗室に扉を介し連続して被洗浄物の熱風乾燥を水
平載置搬送しながら行う乾燥室とを一貫ライン連結して
なる洗浄ライン装置にある。
【０００６】
【作用】本発明は、前記のような手法及び手段を講じる
ので、引火性水系溶剤を用いて行う洗浄工程は密閉防爆
室内の窒素等の不活性ガス雰囲気中において行い、その
直後に、隔離された水洗室内で水洗工程を行い、その後
に乾燥室で乾燥工程を行うので、洗浄工程中における誘
爆事故の発生は皆無に等しく、さらに、洗浄工程後の水
洗工程において僅かに混入してくる引火性水系溶剤の蒸
気も、排気ダクトにより他の場所へ排気処理されるの
で、水洗工程における誘爆事故もなく、乾燥工程へと被
洗浄物を搬送することができる。
ので、引火性水系溶剤を用いて行う洗浄工程は密閉防爆
室内の窒素等の不活性ガス雰囲気中において行い、その
直後に、隔離された水洗室内で水洗工程を行い、その後
に乾燥室で乾燥工程を行うので、洗浄工程中における誘
爆事故の発生は皆無に等しく、さらに、洗浄工程後の水
洗工程において僅かに混入してくる引火性水系溶剤の蒸
気も、排気ダクトにより他の場所へ排気処理されるの
で、水洗工程における誘爆事故もなく、乾燥工程へと被
洗浄物を搬送することができる。
【０００７】
（装置例）本発明装置の実施例を図面につき説明する。
図１は、本実施例の洗浄ライン装置の概略図である。本
実施例においては、防爆のための不活性ガスとして窒素
ガスＮＧを選択した。図中、αは本実施例の洗浄ライン
装置、βは実装用基板等の被洗浄物、γはアルコール類
水溶液や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性水系溶剤、
Ａは密閉待機室、Ｂは窒素ガスＮＧ雰囲気中にある密閉
防爆洗浄室、Ｃは通常雰囲気中で水洗を行う通常雰囲気
水洗室、Ｄは乾燥室、Ｗは水である。
図１は、本実施例の洗浄ライン装置の概略図である。本
実施例においては、防爆のための不活性ガスとして窒素
ガスＮＧを選択した。図中、αは本実施例の洗浄ライン
装置、βは実装用基板等の被洗浄物、γはアルコール類
水溶液や石油系溶剤を含む水溶液等の引火性水系溶剤、
Ａは密閉待機室、Ｂは窒素ガスＮＧ雰囲気中にある密閉
防爆洗浄室、Ｃは通常雰囲気中で水洗を行う通常雰囲気
水洗室、Ｄは乾燥室、Ｗは水である。
【０００８】１，１′はロック式の二重扉、２，２′は
引火性水系溶剤γにより被洗浄物βに噴射衝撃等による
悪影響を与えない垂直静浸漬洗浄を行う洗浄槽、３は水
中受渡コンベヤ３ａにより受け渡しを行いその途中で粗
水洗を行って付着した引火性水系溶剤γをある程度落と
す受渡水槽、４，４′は被洗浄物βに噴射衝撃等による
悪影響を与えない垂直静浸漬精水洗を行って引火性水系
溶剤γを完全に落とす水洗槽、５は乾燥機、５ａは搬送
コンベヤ、６は密閉防爆洗浄室Ｂと通常雰囲気水洗室Ｃ
とを隔てて受渡水槽３の水面下まで延在する防爆仕切壁
である。
引火性水系溶剤γにより被洗浄物βに噴射衝撃等による
悪影響を与えない垂直静浸漬洗浄を行う洗浄槽、３は水
中受渡コンベヤ３ａにより受け渡しを行いその途中で粗
水洗を行って付着した引火性水系溶剤γをある程度落と
す受渡水槽、４，４′は被洗浄物βに噴射衝撃等による
悪影響を与えない垂直静浸漬精水洗を行って引火性水系
溶剤γを完全に落とす水洗槽、５は乾燥機、５ａは搬送
コンベヤ、６は密閉防爆洗浄室Ｂと通常雰囲気水洗室Ｃ
とを隔てて受渡水槽３の水面下まで延在する防爆仕切壁
である。
【０００９】７は密封防爆洗浄室８に個別に内架して洗
浄槽２，２′と受渡水槽３との間を被洗浄物βを搬送す
る縦吊り搬送機構、８は通常雰囲気水洗室Ｃに個別に内
架して受渡水槽３と水洗槽４，４′と図示しない熱風循
環ファンをセットした乾燥機５の導入部９との間を被洗
浄物βを搬送する縦吊り搬送機構、１０は洗浄ライン装
置αの搬入部、１１は洗浄ライン装置αの搬出部、１２
は通常雰囲気水洗室Ｃから排気ファン１２ａにより強制
排気を行い図示しない引火性水系溶剤γのリサイクル装
置等の別途処理工程へ送気する排気ダクト、１３は万が
一の場合の為に密閉防爆洗浄室Ｂ内に設置される消火液
噴出用の消火ノズル１３ａから消火液Ｆを撒布する消火
管、１４は密閉防爆洗浄室Ｂ内の酸素濃度を一定以下に
保つための窒素補給ノズル１４ａから窒素ガスＮＧを噴
射する窒素供給管である。
浄槽２，２′と受渡水槽３との間を被洗浄物βを搬送す
る縦吊り搬送機構、８は通常雰囲気水洗室Ｃに個別に内
架して受渡水槽３と水洗槽４，４′と図示しない熱風循
環ファンをセットした乾燥機５の導入部９との間を被洗
浄物βを搬送する縦吊り搬送機構、１０は洗浄ライン装
置αの搬入部、１１は洗浄ライン装置αの搬出部、１２
は通常雰囲気水洗室Ｃから排気ファン１２ａにより強制
排気を行い図示しない引火性水系溶剤γのリサイクル装
置等の別途処理工程へ送気する排気ダクト、１３は万が
一の場合の為に密閉防爆洗浄室Ｂ内に設置される消火液
噴出用の消火ノズル１３ａから消火液Ｆを撒布する消火
管、１４は密閉防爆洗浄室Ｂ内の酸素濃度を一定以下に
保つための窒素補給ノズル１４ａから窒素ガスＮＧを噴
射する窒素供給管である。
【００１０】（方法例）洗浄ライン装置αに適用した本
発明方法の実行例をその手順に従って図１につき説明す
る。まず、搬入部１０に被洗浄物βを載置する。搬入部
１０側の二重扉１が開き、搬入部１０の搬入コンベヤ１
０ａが被洗浄物βを密閉待機室Ａに搬入する（搬入待機
工程）。次に、密閉防爆洗浄室Ｂ側の二重扉１が開き、
密閉防爆洗浄室Ｂへと被洗浄物βは搬入される。密閉防
爆洗浄室Ｂは、予めその室内に窒素補給ノズル１４ａに
より窒素が噴散充満されていて、既に窒素雰囲気となっ
ている。
発明方法の実行例をその手順に従って図１につき説明す
る。まず、搬入部１０に被洗浄物βを載置する。搬入部
１０側の二重扉１が開き、搬入部１０の搬入コンベヤ１
０ａが被洗浄物βを密閉待機室Ａに搬入する（搬入待機
工程）。次に、密閉防爆洗浄室Ｂ側の二重扉１が開き、
密閉防爆洗浄室Ｂへと被洗浄物βは搬入される。密閉防
爆洗浄室Ｂは、予めその室内に窒素補給ノズル１４ａに
より窒素が噴散充満されていて、既に窒素雰囲気となっ
ている。
【００１１】密閉防爆洗浄室Ｂに搬入された被洗浄物β
は、まず、洗浄槽２中の引火性水系溶剤γに一度浸さ
れ、粗洗浄が行われ、そして、搬送機構７により隣の洗
浄槽２′へと搬送されて、もう一度洗浄槽２′中の引火
性水系溶剤γに浸されて精洗浄が行われる（溶剤洗浄工
程）。密閉防爆洗浄室Ｂ内の酸素濃度は、図示しない酸
素濃度計等の監視機構により監視され、一定の条件、例
えば監視機構が酸素濃度計であれば、酸素が一定濃度以
上になった時に、窒素補給ノズル１４ａにより窒素が補
給される（窒素パージ工程）。なお、図１においては図
示されていないが、密閉防爆洗浄室Ｂ内で用いられる引
火性水系溶剤γ補給・排出のためのポンプ等は、全て防
爆処置の講じられてあるポンプ等であることはいうまで
もない。
は、まず、洗浄槽２中の引火性水系溶剤γに一度浸さ
れ、粗洗浄が行われ、そして、搬送機構７により隣の洗
浄槽２′へと搬送されて、もう一度洗浄槽２′中の引火
性水系溶剤γに浸されて精洗浄が行われる（溶剤洗浄工
程）。密閉防爆洗浄室Ｂ内の酸素濃度は、図示しない酸
素濃度計等の監視機構により監視され、一定の条件、例
えば監視機構が酸素濃度計であれば、酸素が一定濃度以
上になった時に、窒素補給ノズル１４ａにより窒素が補
給される（窒素パージ工程）。なお、図１においては図
示されていないが、密閉防爆洗浄室Ｂ内で用いられる引
火性水系溶剤γ補給・排出のためのポンプ等は、全て防
爆処置の講じられてあるポンプ等であることはいうまで
もない。
【００１２】二度にわたって引火性水系溶剤γにより洗
浄が行われた被洗浄物βは、次に受渡水槽３へと搬送さ
れる。受渡水槽３中の水中受渡コンベヤ３ａにより搬送
される途中で、ある程度の粗水洗が受渡水槽３の水Ｗに
より行われることとなる（水中受渡工程）。洗浄槽２，
２′より揮発・蒸発する水系洗浄剤γの蒸気の大部分
は、隔離する防爆仕切壁６により、通常雰囲気水洗室Ｃ
へと侵入することはない。
浄が行われた被洗浄物βは、次に受渡水槽３へと搬送さ
れる。受渡水槽３中の水中受渡コンベヤ３ａにより搬送
される途中で、ある程度の粗水洗が受渡水槽３の水Ｗに
より行われることとなる（水中受渡工程）。洗浄槽２，
２′より揮発・蒸発する水系洗浄剤γの蒸気の大部分
は、隔離する防爆仕切壁６により、通常雰囲気水洗室Ｃ
へと侵入することはない。
【００１３】僅かに、粗水洗を行う時の受渡水槽３中の
水Ｗにとけ込み、通常雰囲気水洗室Ｃ側の受渡水槽３の
表面から揮発・蒸発する引火性水系溶剤γは存在する
が、通常雰囲気水洗室Ｃ中の空気中の引火性水系溶剤γ
の蒸気濃度を監視する図示しない監視機構が、空気中の
引火性水系溶剤γ蒸気濃度が一定濃度以上になれば警告
を発して、当該警告を受けた作業監視要員が、通常雰囲
気水洗室Ｃ上部に存在する排気ファン１２ａにより排気
ダクト１２から排気を行う（排気工程）ので、爆発する
危険性は皆無に等しい。
水Ｗにとけ込み、通常雰囲気水洗室Ｃ側の受渡水槽３の
表面から揮発・蒸発する引火性水系溶剤γは存在する
が、通常雰囲気水洗室Ｃ中の空気中の引火性水系溶剤γ
の蒸気濃度を監視する図示しない監視機構が、空気中の
引火性水系溶剤γ蒸気濃度が一定濃度以上になれば警告
を発して、当該警告を受けた作業監視要員が、通常雰囲
気水洗室Ｃ上部に存在する排気ファン１２ａにより排気
ダクト１２から排気を行う（排気工程）ので、爆発する
危険性は皆無に等しい。
【００１４】また、当該図示しない監視機構と排気ファ
ン１２ａとを直結し、通常雰囲気水洗室Ｃ中の引火性水
系溶剤γの蒸気濃度が一定以上に達したときには、自動
的に排気ファン１２ａを作動させるようにしても良い。
受渡水槽３から縦吊り搬送機構８により引き上げられた
被洗浄物βは、次に２度にわたって水洗槽４，４′中の
水Ｗにより静浸漬精水洗が行われ（水洗工程）、乾燥機
５の導入部９の搬送コンベヤ５ａへと載置される。
ン１２ａとを直結し、通常雰囲気水洗室Ｃ中の引火性水
系溶剤γの蒸気濃度が一定以上に達したときには、自動
的に排気ファン１２ａを作動させるようにしても良い。
受渡水槽３から縦吊り搬送機構８により引き上げられた
被洗浄物βは、次に２度にわたって水洗槽４，４′中の
水Ｗにより静浸漬精水洗が行われ（水洗工程）、乾燥機
５の導入部９の搬送コンベヤ５ａへと載置される。
【００１５】次に、乾燥室Ｄの通常雰囲気水洗室Ｃ側の
二重扉１′が開かれ、導入部９に載置された被洗浄物β
は、乾燥機５の主要部に搬送され上下左右前後方向の全
方位から熱風が熱風循環ファンにより内奥深く浸透する
乾燥工程が行われる。当該乾燥工程が行われる際には、
既に水洗槽４，４′により２度の精水洗（受渡水槽３に
よる粗水洗を含めると３度の水洗）が行われているか
ら、引火性水系溶剤γの付着は皆無であるので、爆発の
危惧なく安心して乾燥工程を行うことができる。乾燥工
程の終盤になると、搬出部１１側の二重扉１′が開き、
被洗浄物βは搬出部１１へと搬出される。
二重扉１′が開かれ、導入部９に載置された被洗浄物β
は、乾燥機５の主要部に搬送され上下左右前後方向の全
方位から熱風が熱風循環ファンにより内奥深く浸透する
乾燥工程が行われる。当該乾燥工程が行われる際には、
既に水洗槽４，４′により２度の精水洗（受渡水槽３に
よる粗水洗を含めると３度の水洗）が行われているか
ら、引火性水系溶剤γの付着は皆無であるので、爆発の
危惧なく安心して乾燥工程を行うことができる。乾燥工
程の終盤になると、搬出部１１側の二重扉１′が開き、
被洗浄物βは搬出部１１へと搬出される。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、隔離さ
れた窒素等の不活性ガス雰囲気中で引火性水系溶剤によ
り洗浄を行い、次いで、当該不活性ガス雰囲気及び蒸発
する引火性水系溶剤雰囲気から隔離された中で水洗を行
い、引火性水系溶剤の付着がなくなった時点で乾燥工程
を行うので、爆発の危険性がなく、しかも、水洗工程で
発生する引火性水系溶剤の蒸気を含んだ空気は、排気ダ
クトにより、別途引火性水系溶剤の処理工程へと移送さ
れるので、本発明による装置を監視・操作する人間が溶
剤蒸気により中毒することもない作業環境を確保し得る
等、優れた安全性・有用性を具有する。また、本発明に
よれば、引火性水系溶剤を霧状化させずに被洗浄物を複
数回垂直静浸漬して洗浄するので、洗浄室の溶剤蒸気圧
を一定に保持することができ、しかも窒素等の不活性ガ
スとのバランスを保持することができる。その結果、溶
剤が洗浄室内を汚すこととならず、しかも引火性水系溶
剤の室外への流出を極めて効率的に防止することができ
る。
れた窒素等の不活性ガス雰囲気中で引火性水系溶剤によ
り洗浄を行い、次いで、当該不活性ガス雰囲気及び蒸発
する引火性水系溶剤雰囲気から隔離された中で水洗を行
い、引火性水系溶剤の付着がなくなった時点で乾燥工程
を行うので、爆発の危険性がなく、しかも、水洗工程で
発生する引火性水系溶剤の蒸気を含んだ空気は、排気ダ
クトにより、別途引火性水系溶剤の処理工程へと移送さ
れるので、本発明による装置を監視・操作する人間が溶
剤蒸気により中毒することもない作業環境を確保し得る
等、優れた安全性・有用性を具有する。また、本発明に
よれば、引火性水系溶剤を霧状化させずに被洗浄物を複
数回垂直静浸漬して洗浄するので、洗浄室の溶剤蒸気圧
を一定に保持することができ、しかも窒素等の不活性ガ
スとのバランスを保持することができる。その結果、溶
剤が洗浄室内を汚すこととならず、しかも引火性水系溶
剤の室外への流出を極めて効率的に防止することができ
る。
【図１】本発明方法を適用する洗浄ライン装置の実施例
を示す概略図である。
を示す概略図である。
α…洗浄装置 β…被洗浄物 γ…引火性水系溶剤 Ａ…密閉待機室 Ｂ…密閉防爆洗浄室 Ｃ…通常雰囲気水洗室 Ｄ…乾燥室 Ｆ…消火剤 ＮＧ…窒素ガス Ｗ…水 １，１′…二重扉 ２，２′…洗浄槽 ３…受渡水槽 ３ａ…水中受渡コンベヤ ４，４′…水洗槽 ５…乾燥機 ５ａ…搬送コンベヤ ６…防爆仕切壁 ７，８…縦吊り搬送機構 ９…導入部 １０…搬入部 １１…搬出部 １２…排気ダクト １２ａ…排気ファン １３…消火管 １３ａ…消火ノズル １４…窒素供給管 １４ａ…窒素補給ノズル
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−150980（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−131374（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−16683（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−184591（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−58957（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−124479（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−68977（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−296478（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−285938（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−86284（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−123583（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−86684（ＪＰ，Ｕ) 実開 平１−21784（ＪＰ，Ｕ) 実公 昭51−38712（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】二重開閉扉を備えた密閉待機室へ実装用基
板等の被洗浄物を載置水平搬入して外気から隔離して一
時待機させる密閉待機工程と、 密閉・隔離した窒素等の不活性ガス雰囲気を有し、消火
剤を散布可能かつ前記密閉待機室に開閉扉にて連結した
密閉防爆洗浄室に被洗浄物を載置水平搬送する搬送工程
と、 前記密閉防爆洗浄室にて、アルコール類水溶液や石油系
溶剤を含む引火性水系溶剤の洗浄槽に縦吊り搬送しなが
ら複数回垂直静浸漬して室内溶剤蒸気圧を一定に保持す
るとともに前記不活性ガスとのバランスを保持しつつ洗
浄する洗浄工程と、 被洗浄物を載置水平水中搬送する受渡水槽と当該受渡水
槽の水面下まで延在する防爆仕切壁により前記密閉防爆
洗浄室から仕切られた通常雰囲気水洗室にて、水洗槽に
縦吊り搬送しながら引火性水系溶剤の付着がなくなるま
で複数回垂直静浸漬する水洗工程と、 前記水洗工程に連結して水平載置搬送しながら熱風乾燥
する乾燥工程とを一貫連続経由して行う、 ことを特徴とする引火性水系洗浄剤を用いる洗浄方法。 - 【請求項２】アルコール類水溶液や石油系溶剤を含む水
溶液等の引火性水系溶剤を用いて洗浄を行う洗浄装置に
おいて、窒素等の不活性ガスを噴出する窒素補給ノズル
と消火剤を散布する消火ノズルとを設けるとともに前記
引火性水系溶剤を貯留した洗浄槽を有して独立内架した
縦吊り搬送機構で運搬しながら室内の溶剤蒸気圧を一定
に保持しかつ不活性ガスとのバランスをも保持する垂直
静浸漬洗浄を行う密閉防爆洗浄室と、当該密閉防爆洗浄
室へ洗浄のため被洗浄物を扉を開いて搬入するため、外
気と直接前記不活性ガス雰囲気を遮断自在に前記密閉防
爆洗浄室と外気との間に設けられる二重開閉扉を有する
密閉待機室と、前記密閉防爆洗浄室とは水を充填した水
槽で被洗浄物受渡し自在に連結され僅かに混入してくる
引火性水系溶剤の蒸気を排出するための排気ダクトを有
して通常の空気雰囲気を呈し、前記密閉防爆洗浄室とは
水槽以外防爆壁等の適宜仕切手段により隔離されて独立
に内架した縦吊り搬送機構で運搬しながら垂直静浸漬水
洗を複数回多段に行う水洗室と、当該水洗室に扉を介し
連続して被洗浄物の熱風乾燥を水平載置搬送しながら行
う乾燥室とを一貫ライン連結することを特徴とする洗浄
ライン装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050407A JP2628514B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050407A JP2628514B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05245452A JPH05245452A (ja) | 1993-09-24 |
| JP2628514B2 true JP2628514B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=12858016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4050407A Expired - Lifetime JP2628514B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2628514B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4894262A (ja) * | 1972-03-13 | 1973-12-05 | ||
| JPS5458957A (en) * | 1977-10-19 | 1979-05-12 | Nippon Kakouki Kougiyou Kk | Sealing type solvent washing machine |
| JPS57121952A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-29 | Kazumi Murai | Car with shoes box |
| JPS599228A (ja) * | 1982-06-29 | 1984-01-18 | Toray Ind Inc | 毛羽伏せ紡績糸の製造方法 |
| CA2011397C (en) * | 1989-03-06 | 1994-07-12 | Michael T. Mittag | Method and apparatus for cleaning electronic and other devices |
| JPH0745032B2 (ja) * | 1990-10-13 | 1995-05-17 | 恭三 金子 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP4050407A patent/JP2628514B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05245452A (ja) | 1993-09-24 |
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