JPH0745032B2 - 密閉式溶剤洗浄装置 - Google Patents
密閉式溶剤洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0745032B2 JPH0745032B2 JP2274915A JP27491590A JPH0745032B2 JP H0745032 B2 JPH0745032 B2 JP H0745032B2 JP 2274915 A JP2274915 A JP 2274915A JP 27491590 A JP27491590 A JP 27491590A JP H0745032 B2 JPH0745032 B2 JP H0745032B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- water
- alcohol
- chamber
- tank
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 イ「発明の目的」 （産業上の利用分野） 電子部品、電機部品、精密機器部品、樹脂加工部品、光
学機器部品、その他眼鏡、時計部品等の製造過程に於い
て必要な完全洗浄工程の分野に利用される。
学機器部品、その他眼鏡、時計部品等の製造過程に於い
て必要な完全洗浄工程の分野に利用される。
（従来の技術） 従来この分野には（98％）として、CFC−113（1.1.2ト
リクロロ・1.2.2トリフロロ・エタン）（以後この類の
総称をフロン類と言う）が利用されているが、元来安
定、無害、安価な為、開放型洗浄容器で使い捨てにさ
れ、沸点が47.6℃と低く揮発性のため、洗浄物の自然乾
燥と共に、全て大気に放出されていた。しかし、1974年
ローランド教授等によって、フロン類が成層圏で紫外線
の作用によりオゾン層を破壊する結果、地球上に短波長
紫外線を多量に入射せしめ、人類その他地球上の生物に
皮膚癌その他の重大な障害をもたらすとの学説が発表さ
れ、1985年以降国連環境計画による各種の規制決定宣言
があり、日本では1988年５月フロン等規制法が成立、12
月同法施行規則が公布された。これにより1989年１月特
定フロンの排出抑制・使用合理化指針が公布された結
果、洗浄用フロンの使用設備に就いても、斯業界から、
フロンの排出抑制、回収再生及び代替物質の開発等に関
する多くの提案がなされた。しかし、その技術は、洗浄
機の洗浄物の出入口面積とフロン蒸気上面の深さとの比
率（フリーボード比）や洗浄物の引上げ速度の改善、開
口部の冷却や空気又は窒素シャッター等により、開口部
からのフロン蒸気の逸失を可及的減殺する方法等であ
り、これらはフロンを完全に排出しない方法とは程遠い
ものである。これらの中で最も進歩した方法として、洗
浄機をシャッター附密閉室に入れ、シャッターを開けて
洗浄物を該室内に入れ、シャッターを閉じて洗浄物を洗
浄機の開口部から入れ、洗浄して開口部より室内に出
し、該室内で乾燥し、シャッターを開けて室外に取り出
し、シャッターから入った室全体のフロン混じりの空気
と洗浄機開口部からのフロン蒸気を、該開口部周辺に設
けた吸気口を通して、排気ブロワーにより吸引して室を
陰圧に保つと共に、排気を活性炭吸着装置に導いてフロ
ンを回収している方法がある。この方法は理論的には略
々フロンを排出しないことになるが、洗浄物の出入口の
シャッターの開閉による陰圧の破壊によるフロンの漏出
や吸着装置よりの排出空気へのフロンの同伴漏出は、吸
排気量の経済性を保つ以上止むを得ないと考えられる。
リクロロ・1.2.2トリフロロ・エタン）（以後この類の
総称をフロン類と言う）が利用されているが、元来安
定、無害、安価な為、開放型洗浄容器で使い捨てにさ
れ、沸点が47.6℃と低く揮発性のため、洗浄物の自然乾
燥と共に、全て大気に放出されていた。しかし、1974年
ローランド教授等によって、フロン類が成層圏で紫外線
の作用によりオゾン層を破壊する結果、地球上に短波長
紫外線を多量に入射せしめ、人類その他地球上の生物に
皮膚癌その他の重大な障害をもたらすとの学説が発表さ
れ、1985年以降国連環境計画による各種の規制決定宣言
があり、日本では1988年５月フロン等規制法が成立、12
月同法施行規則が公布された。これにより1989年１月特
定フロンの排出抑制・使用合理化指針が公布された結
果、洗浄用フロンの使用設備に就いても、斯業界から、
フロンの排出抑制、回収再生及び代替物質の開発等に関
する多くの提案がなされた。しかし、その技術は、洗浄
機の洗浄物の出入口面積とフロン蒸気上面の深さとの比
率（フリーボード比）や洗浄物の引上げ速度の改善、開
口部の冷却や空気又は窒素シャッター等により、開口部
からのフロン蒸気の逸失を可及的減殺する方法等であ
り、これらはフロンを完全に排出しない方法とは程遠い
ものである。これらの中で最も進歩した方法として、洗
浄機をシャッター附密閉室に入れ、シャッターを開けて
洗浄物を該室内に入れ、シャッターを閉じて洗浄物を洗
浄機の開口部から入れ、洗浄して開口部より室内に出
し、該室内で乾燥し、シャッターを開けて室外に取り出
し、シャッターから入った室全体のフロン混じりの空気
と洗浄機開口部からのフロン蒸気を、該開口部周辺に設
けた吸気口を通して、排気ブロワーにより吸引して室を
陰圧に保つと共に、排気を活性炭吸着装置に導いてフロ
ンを回収している方法がある。この方法は理論的には略
々フロンを排出しないことになるが、洗浄物の出入口の
シャッターの開閉による陰圧の破壊によるフロンの漏出
や吸着装置よりの排出空気へのフロンの同伴漏出は、吸
排気量の経済性を保つ以上止むを得ないと考えられる。
フロン代替物質の開発に就いては、現在各種の有効な溶
剤が開発されつつあるが、オゾン破壊効果の低いHCFC系
については若干の破壊効果と共に地球温暖化効果があ
り、フロン破壊効果の皆無なHFC系には地球温暖化効果
があり、又トリクロロエタン、四塩化炭素、臭素系ハロ
ン等、更に現在問題視されない炭化水素、アルコール、
柑橘油系等に就いても、同様の理由により将来禁止され
る可能性があり、これ等は地球保護上、大気に露出すべ
きでは無いと考えられる。一方水、氷粒子洗浄等が考案
されているが、これ等は複雑な工程や高度技術の為、普
遍性と経済性に欠けている。
剤が開発されつつあるが、オゾン破壊効果の低いHCFC系
については若干の破壊効果と共に地球温暖化効果があ
り、フロン破壊効果の皆無なHFC系には地球温暖化効果
があり、又トリクロロエタン、四塩化炭素、臭素系ハロ
ン等、更に現在問題視されない炭化水素、アルコール、
柑橘油系等に就いても、同様の理由により将来禁止され
る可能性があり、これ等は地球保護上、大気に露出すべ
きでは無いと考えられる。一方水、氷粒子洗浄等が考案
されているが、これ等は複雑な工程や高度技術の為、普
遍性と経済性に欠けている。
（発明が解決しようとする問題点） 前記産業上の利用分野に示した精密部品の製造工程に必
須な洗浄剤、例えばフロンCFC−113が、オゾン破壊効果
のために、洗浄効果が不完全で且つオゾン破壊や地球温
暖化効果の僅かながらも残留する代替物質や普遍性に欠
ける方法等に移行せざるを得ない原因は、従来の洗浄装
置のフロン漏洩防止方法が経済的観点から不完全となら
ざるを得ないことにある。本発明は以上の問題に対し
て、フロンその他の溶剤による洗浄を、経済的に且つ完
全密閉状態で実施する方法により、これを解決せんとす
るものである。
須な洗浄剤、例えばフロンCFC−113が、オゾン破壊効果
のために、洗浄効果が不完全で且つオゾン破壊や地球温
暖化効果の僅かながらも残留する代替物質や普遍性に欠
ける方法等に移行せざるを得ない原因は、従来の洗浄装
置のフロン漏洩防止方法が経済的観点から不完全となら
ざるを得ないことにある。本発明は以上の問題に対し
て、フロンその他の溶剤による洗浄を、経済的に且つ完
全密閉状態で実施する方法により、これを解決せんとす
るものである。
ロ「発明の効果」 （問題点を解決するための手段） この発明は、水を封液とする室内にフロン洗浄装置を設
置し、洗浄物を封液水を潜らせて室内に入れ、室内に於
いてフロン洗浄し、再び封液水を潜らせて室外に取り出
すことにより、大気に接する部分を無害な水のみとし、
完全密閉状態で洗浄を行う方法である。以下に本方法に
就いて詳細に説明する。
置し、洗浄物を封液水を潜らせて室内に入れ、室内に於
いてフロン洗浄し、再び封液水を潜らせて室外に取り出
すことにより、大気に接する部分を無害な水のみとし、
完全密閉状態で洗浄を行う方法である。以下に本方法に
就いて詳細に説明する。
図は本法を実施するための装置の一例を示す模式図であ
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄
物、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロ
ン槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は
出口水槽、10は窒素吹込管、11は熱線乾燥室、12は圧力
調整器を示す。切断されバスケット等に入れられたシリ
コン・ウエファ等の洗浄物３は、洗浄室と密閉室を水封
している入口水槽４の開口部から同水槽低部に入り、コ
ンベヤーにより水底を潜って密閉室に入り、引き上げら
れ、次いでアルコール槽５に入ってアルコールにより付
着水分を除かれ、次いで超音波フロン槽６に入って超音
波により油脂、フラックス等をフロン洗浄され、次いで
フロン濯ぎ滴下槽７に入って冷却された新鮮なフロンに
より濯ぎ洗いされ且つ冷却されて引き上げられ、その表
面に６で蒸発したフロン蒸気が凝縮され、凝縮フロンに
より仕上げ洗いされ、液滴を滴下され、次いでアルコー
ル槽８に入りフロンを洗い落とされ、次いで出口水槽９
の底部に入り、コンベアーにより水底を潜って開口部に
入り、アルコールを除かれ、底部窒素吹込管10よりの窒
素により脱酸素された水中を上昇して上部の熱線乾燥室
11に入り、窒素気流中で赤外線ランプにより乾燥されて
外部に搬出される。フロンの蒸発、密閉室内温度の上昇
等による室内圧の上昇は、活性炭を充填した圧力調整器
12を通して室内空気を室外に放出することにより調整さ
れる。
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄
物、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロ
ン槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は
出口水槽、10は窒素吹込管、11は熱線乾燥室、12は圧力
調整器を示す。切断されバスケット等に入れられたシリ
コン・ウエファ等の洗浄物３は、洗浄室と密閉室を水封
している入口水槽４の開口部から同水槽低部に入り、コ
ンベヤーにより水底を潜って密閉室に入り、引き上げら
れ、次いでアルコール槽５に入ってアルコールにより付
着水分を除かれ、次いで超音波フロン槽６に入って超音
波により油脂、フラックス等をフロン洗浄され、次いで
フロン濯ぎ滴下槽７に入って冷却された新鮮なフロンに
より濯ぎ洗いされ且つ冷却されて引き上げられ、その表
面に６で蒸発したフロン蒸気が凝縮され、凝縮フロンに
より仕上げ洗いされ、液滴を滴下され、次いでアルコー
ル槽８に入りフロンを洗い落とされ、次いで出口水槽９
の底部に入り、コンベアーにより水底を潜って開口部に
入り、アルコールを除かれ、底部窒素吹込管10よりの窒
素により脱酸素された水中を上昇して上部の熱線乾燥室
11に入り、窒素気流中で赤外線ランプにより乾燥されて
外部に搬出される。フロンの蒸発、密閉室内温度の上昇
等による室内圧の上昇は、活性炭を充填した圧力調整器
12を通して室内空気を室外に放出することにより調整さ
れる。
作業の進行に伴い、洗浄物に僅かづつ伴われて、洗浄物
汚染物質、水、アルコール、フロンが混合して各槽の純
度が低下するので、適時各槽の液を蒸溜して純化する。
汚染物質、水、アルコール、フロンが混合して各槽の純
度が低下するので、適時各槽の液を蒸溜して純化する。
（作用） 本発明方法の原理は、湿式ガスホールダーと同一の水封
式であって、活性炭を介する大気との流通路以外は密閉
性で大気との接触は水のみであり、従って前述の如く、
各槽液が、蒸溜により純度が保たれる限り、フロン等の
漏出は全くない。
式であって、活性炭を介する大気との流通路以外は密閉
性で大気との接触は水のみであり、従って前述の如く、
各槽液が、蒸溜により純度が保たれる限り、フロン等の
漏出は全くない。
鉄等の水と空気による発錆性の洗浄物は、出口水封槽底
部より窒素ガスを泡出し、これを乾燥室中にも流通して
酸素の進入を排し、発錆が防止される。
部より窒素ガスを泡出し、これを乾燥室中にも流通して
酸素の進入を排し、発錆が防止される。
水との共沸混合物化を避けるため、アルコールはメタノ
ールとするが、不純となったフロンCFC−113の蒸溜によ
り、メタノールの一部はフロンCFC−113との共沸混合物
となるが、同共沸混合物の溶解度は充分に大きいので、
そのまま使用出来る。
ールとするが、不純となったフロンCFC−113の蒸溜によ
り、メタノールの一部はフロンCFC−113との共沸混合物
となるが、同共沸混合物の溶解度は充分に大きいので、
そのまま使用出来る。
繊維等の含液性が大きい物体の洗浄は、液の同伴移動が
大きく、各液の混合が速いため、本法は適さない。
大きく、各液の混合が速いため、本法は適さない。
実施例 前記（問題点を解決するための手段）と（作用）の欄に
説明し、図に示した装置を用い、４と９の水封液に蒸溜
水、５と８のアルコールにメタノール、５と６の洗浄剤
にフロンCFC−113を用い、半田付け回路基板のフラック
スを、基板搬送速度毎１米で送入し、超音波中（６槽の
み）、48℃で洗浄し、15℃で濯ぎ洗い並びに凝縮濯ぎ洗
いし、窒素気流中赤外線ランプにより乾燥した結果、基
板表面に一切の白色残渣なく、イオン残渣なく、一切の
基板信頼性に悪影響を与えなかった。
説明し、図に示した装置を用い、４と９の水封液に蒸溜
水、５と８のアルコールにメタノール、５と６の洗浄剤
にフロンCFC−113を用い、半田付け回路基板のフラック
スを、基板搬送速度毎１米で送入し、超音波中（６槽の
み）、48℃で洗浄し、15℃で濯ぎ洗い並びに凝縮濯ぎ洗
いし、窒素気流中赤外線ランプにより乾燥した結果、基
板表面に一切の白色残渣なく、イオン残渣なく、一切の
基板信頼性に悪影響を与えなかった。
運転開始３日後より、各槽底部より液の一部を取り出し
て蒸溜精製し、各成分を夫々の槽に返戻し、回路基板半
田付けのフラックスに由来する僅かな蒸溜残渣が焼却廃
棄され、その他は全て循環使用された。
て蒸溜精製し、各成分を夫々の槽に返戻し、回路基板半
田付けのフラックスに由来する僅かな蒸溜残渣が焼却廃
棄され、その他は全て循環使用された。
ハ「発明の効果」 以上の如く、本発明洗浄方法は、水と窒素以外の如何な
る洗浄剤及び洗浄助剤も、大気に全く接触せしめず、且
つ廃水を一切排出しないので、フロン類による成層圏オ
ゾン層破壊は勿論、地球温暖化現象、一般大気汚染、廃
水汚染等とも全く無関係の洗浄方法である。
る洗浄剤及び洗浄助剤も、大気に全く接触せしめず、且
つ廃水を一切排出しないので、フロン類による成層圏オ
ゾン層破壊は勿論、地球温暖化現象、一般大気汚染、廃
水汚染等とも全く無関係の洗浄方法である。
又、窒素を除く溶剤その他各資材は、殆ど完全回収さ
れ、従来の開放型乃至シャッター開閉式に於ける溶剤の
損失や、開放口からの吸引ブロワーによる稀薄なフロン
交じり空気からの活性炭吸着によるフロンの回収等に比
較して、本発明方法が極めて経済的なことは論を待たな
い。
れ、従来の開放型乃至シャッター開閉式に於ける溶剤の
損失や、開放口からの吸引ブロワーによる稀薄なフロン
交じり空気からの活性炭吸着によるフロンの回収等に比
較して、本発明方法が極めて経済的なことは論を待たな
い。
又、目下オゾン破壊効果の低い各種フロン、ハロン、塩
化炭化水素等が開発されつつあるが、殆どは効果が残留
し、無効果のものも地球温暖化効果は極めて高いと言わ
れ、今後如何なる規制の方向に向かうか不明であるが、
本発明方法によれば、これらとは無関係に、如何なる場
合も最も効果高く且つ経済的な溶剤を選択することが出
来る。
化炭化水素等が開発されつつあるが、殆どは効果が残留
し、無効果のものも地球温暖化効果は極めて高いと言わ
れ、今後如何なる規制の方向に向かうか不明であるが、
本発明方法によれば、これらとは無関係に、如何なる場
合も最も効果高く且つ経済的な溶剤を選択することが出
来る。
図は本法を実施するための装置の一例を示す模式図であ
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄
物、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロ
ン槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は
出口水槽、10は窒素吹込管、11は熱線乾燥室、12は圧力
調整器を夫々示す。
る。図に於いて、１は洗浄槽、２は密閉室、３は洗浄
物、４は入口水槽、５はアルコール槽、６は超音波フロ
ン槽、７はフロン濯ぎ滴下槽、８はアルコール槽、９は
出口水槽、10は窒素吹込管、11は熱線乾燥室、12は圧力
調整器を夫々示す。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−236396（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−27003（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−303583（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−91705（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−251275（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−131374（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−114580（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−89985（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−142684（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−50782（ＪＰ，Ｕ) 特公 平４−75073（ＪＰ，Ｂ２) 実公 昭63−8404（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (1)
- 【請求項１】水封密閉室に、順次、アルコール洗浄室、
加熱器と超音波発振機を備えた洗浄剤洗浄室、洗浄剤冷
却装置を備えた被洗浄物冷却及び洗浄剤蒸気凝縮洗浄
室、アルコール洗浄室、水封水脱酸素用窒素吹き込み
室、及び窒素気流中熱線乾燥室を備え、被洗浄物を該水
封水を潜らせて密閉室内に搬入し、順次、アルコール洗
浄して付着水を除き、沸騰洗浄剤により超音波洗浄し、
冷却洗浄剤により冷却し、洗浄剤蒸気により凝縮洗浄
し、アルコール洗浄して本洗浄剤を除き、水封水を潜ら
せてアルコールを除きつつ窒素脱酸素水槽に搬入し、該
水槽から引き揚げて窒素気流中熱線乾燥する様にした洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274915A JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274915A JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04150980A JPH04150980A (ja) | 1992-05-25 |
| JPH0745032B2 true JPH0745032B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=17548311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2274915A Expired - Lifetime JPH0745032B2 (ja) | 1990-10-13 | 1990-10-13 | 密閉式溶剤洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745032B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2628514B2 (ja) * | 1992-03-09 | 1997-07-09 | 日本化工機工業株式会社 | 引火性水系溶剤を用いる洗浄方法及び洗浄ライン装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59184591A (ja) * | 1983-04-02 | 1984-10-19 | 旭化成株式会社 | 溶剤洗浄機の漏洩防止装置 |
| JPS6152722A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-15 | Nippon Data General Kk | 電力節約システム |
| JPS6227003A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水切り洗浄方法及び装置 |
| JPS63236396A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | トヨタ自動車株式会社 | 電子部品の洗浄方法 |
| JPH02251275A (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-09 | Yamaha Corp | ウェハの洗浄方法 |
-
1990
- 1990-10-13 JP JP2274915A patent/JPH0745032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04150980A (ja) | 1992-05-25 |
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