JP2696468B2 - 液晶表示装置のガラスパネルの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示（ＬＣＤ）装置
の組立体に用いられるガラスパネルの製造に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、それが受動的（passiv
e ）構成のものであろうと能動的（active）構成のもの
であろうと、通常、薄くて平行に間隔をおいたガラスパ
ネルの間に液晶層を設けてなるものである。

【０００３】最初に、ソーダ石灰ガラスパネルを受動的
ＬＣＤ装置の製造に用いた。そのようなパネルを用いた
場合、通常の動作温度で液晶の変質が生じるのが観察さ
れた。これは、ナトリウムイオンのガラス表面への移
行、および水中の水素イオンがナトリウムと交換される
ことによる液晶の汚染が原因である。このことを避ける
ために、シリカフイルムをガラスパネルの表面に施すこ
とが提案されている。このフイルムはバリヤ層として作
用し、ガラスからのナトリウムイオンの移行を停止し、
それゆえ液晶層がナトリウムイオンに暴露されるのを防
止する。

【０００４】ナトリウムを制御する別のアプローチは、
製品コード７０５９としてコーニング社から販売される
ＢａＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ ガラスを使用
することにある。このガラスはそのバッチ中にナトリウ
ム化合物を意図的には全く含有していない。このガラス
の使用により液晶の汚染が避けられる。能動的構成の装
置において、バックパネル、すなわち能動性平面は、付
設された回路とともに、写真平板工程によりガラスに形
成された薄膜トランジスターを有する。正面パネル、す
なわちカラー平面は、フルカラー表示の場合、透明なカ
ラードットまたはストライプを有する。薄膜トランジス
ターの逆転設計と組み合されて、製品コード７０５９ガ
ラスはまた、アモルファスシリコントランジスターが40
0 ℃より低い温度でガラス上に載置される際、能動的構
成のマトリックスＬＣＤ装置の能動的素子に十分な保護
を与える。ナトリウム不純物は、長時間に亘ってトラン
ジスターを不安定化する。

【０００５】しかしながら、ポリシリコン薄膜トランジ
スターの使用は、能動的マトリックスＬＣＤにとって一
般化してきている。ポリシリコンを使用するには、アモ
ルファスシリコン使用の場合に要求される温度より実質
的に高く、ガラスの歪み点に近い加工温度を必要とす
る。このような温度においては、不純物として存在する
ナトリウムが再び問題となり始める。その結果、移行を
防ぐためにガラスパネル上にバリヤ層を提供することが
再び必要となる。

【０００６】能動的平面、または能動的マトリックスの
製造は、正確な位置決めを必要とする多段階写真平板工
程を伴う。このことは、パネルは形成されたときに正確
な寸法を有するだけでなく、そのような正確な寸法が後
の加工工程中に保持されることを必要とする。しかしな
がら、これらの加工工程は、ガラスが構造再配列および
／または寸法緩和を起こし得る温度またはその付近の温
度の熱に暴露することになる可能性がある。従って、ガ
ラスパネルを、形成後かつさらなる熱加工の前に圧密加
工にさらすことが一般的になってきている。

【０００７】圧密は、ガラスの軟化点より低く後の加工
工程において達する最大温度以上の温度までガラスボデ
ィを再加熱することを含む。これにより、後の加工の間
というよりはむしろその前に、ガラスの構造再配列およ
び寸法緩和を完了させる。予備圧密は、平板パネル表示
装置の製造におけるように、続いての写真平板加工中の
ガラスの正確な位置決めおよび／または平面度を保持す
ることが必要である場合に、必須である。

【０００８】ガラスシートを積層体に圧密することは経
済的に魅力的なことである。しかしながら、このために
は、隣接するシートに、粘着を防ぐための剥離物質を挟
むこと、または分離させることを必要とする。同時に、
シートを極めて平らに、そして光学品質表面仕上げに保
持することが必要である。

【０００９】もちろん、ＬＣＤ装置に用いられるパネル
は、光学品質でなければならない。厳密な清浄性が全て
の加工中に要求される。表面の引掻き傷、ぎざぎざ等の
ような表面のいかなる傷も避けなければならない。

【００１０】現在、グラファイトのシートをガラスパネ
ルの間に挿入して圧密工程中に仕切り材として作用せし
めている。それらのシートは、工程の完了時に除去され
なければならない。これは追加の工程であるだけでな
く、時折、磨くことにより除去されなければならない引
掻き傷を誘発する。

【００１１】上述した従来技術に加えて、以下の特許文
献に注意を向けられたい： 米国特許第4,485,146 号（ミズハシら）は、ガラス組成
中にアルカリを含有し、そのガラスからのアルカリ金属
イオンの拡散を防ぐシリカ層を有するガラス基体を記載
している。その層中のケイ素は、0.01から25モル％の量
でＳｉ−Ｈ結合中に結合された水素を有する。電子ビー
ムおよびスパッタリングにより施されたＳｉＯ₂ フイル
ムが比較例に開示されている。

【００１２】英国特許第2,144,733 号（カワハラら）
は、ナトリウム移行を防ぐシリカバリヤ層フイルムを教
示している。ガラスシートは、シリカで飽和され、ホウ
酸が添加されたＨ₂ ＳｉＦ₆ の水溶液中に浸漬される。
シリカの薄い予備層が、真空蒸着により施される。

【００１３】英国特許第2,163,146 号（ポーター）は、
ガス状電子供与化合物の存在下において、600 ℃より高
い温度でガラス表面にシランガスを熱分解することによ
り50nm厚までのシリカのバリヤ層を製造することを教示
している。

【００１４】米国特許第4,828,880 号および同第4,995,
893 号（ジェンキンスら）は、ポーター法の変更を記載
しており、ここではシラン、不飽和炭化水素および二酸
化炭素のガス状混合物を、600 −750 ℃の温度でガラス
表面に熱分解している。

【００１５】米国特許第3,208,839 号（ノードベルグ）
は、ガラスボディを再形成する方法を教示しており、そ
こではガラスの再形成手段への粘着が、そのガラスにコ
ロイド耐火性金属酸化物の薄い連続の均一のフイルムを
施し、ベーキングして機械的な除去に抵抗することによ
り防止されている。

【００１６】Ｊ．Ｒ．トロクセルらによるＩＥＥＥ Ｅ
ＬＥＣＴＲＯＮ ＤＥＶＩＣＥ ＬＥＴＴＥＲＳ、ＥＤ
Ｌ−７巻、11号、1986年11月の論説は、公称アルカリ不
含有アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩ガラス上に多結
晶性シリコン薄膜トランジスターを形成する新技術を記
載している。そのガラスは米国特許第4,180,618 号（ア
ルファら）に開示されたものであった。窒化ケイ素バリ
ヤ層フイルムをガラスに施して、続いてシリカ緩衝層を
施してトランジスター素子の間に電気的単離を保持して
いる。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】米国特許第5,073,181
号（フォスターら）において、仕切り層としてサブミク
ロンシリカ粒子の単一層を使用することが提案されてい
る。しかしながら、これはまだ、除去、およびその後の
さらなる処理を必要としている。

【００１８】それゆえ、パネルの形成中、またはさらな
る加工の前に、ガラスパネルの少なくとも一方の側に永
久的な表面フイルムを施すことが望ましい。このフイル
ムはパネル上にとどまっていなければならず、受動的構
成か能動的構成かにかかわらずＬＣＤ表示装置の加工ま
たは動作を妨げてはならない。このフイルムは、不活
性、透明および耐火性である。このフイルムは、仕切り
材として作用して圧密中にガラスの粘着を防ぎ、またバ
リヤ層として作用して、液晶または薄膜トランジスター
の変質の原因となるナトリウムの移行を防ぐべきもので
ある。また、そのフイルムは表面の引掻き傷抵抗を改善
すべきものである。本発明の根本的な目的は、上述した
ような特性を有するＬＣＤ装置のガラスパネルを製造す
る方法を提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、ＬＣＤ装置の
ガラスパネルを製造する方法であって、清浄なパネルの
少なくとも１つの表面に、原子化されたまたはイオン化
された、不活性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲
気から透明フイルムを沈積せしめ、該フイルムは50−50
0 nm厚であり、前記パネルに熱処理を施してガラスを圧
縮し、この時、前記フイルムは圧縮熱処理中にガラスが
粘着するのを防止するように機能する各工程からなる方
法にある。

【００２０】本発明はさらに、清浄なパネルを、その形
成中またはその直後に、原子化されたまたはイオン化さ
れた、不活性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲気
にさらし、前記パネルの少なくとも１つの表面に透明で
50−100 nm厚のバリヤ層フイルムを沈積せしめ、そのよ
うな複数の塗膜ガラスパネルを洗浄して積み重ね、その
積層体を熱処理して前記ガラスを圧縮する各工程からな
るＬＣＤ装置のガラスパネルを製造する方法にある。前
記バリヤ層フイルムは圧縮熱処理中にガラスが粘着する
のを防止し、完成製品上にとどまる。

【００２１】好ましい実施態様において、沈積された前
記不活性耐火性物質はシリカであり、前記フイルムは、
好ましくはガラスパネルが引き出されている間に、化学
蒸着により沈積され、そのフイルムは約100 nmを超えな
い厚さで前記パネルの両側に沈積される。

【００２２】上述したように、従来技術はＬＣＤ装置に
用いられるガラスパネル上にバリヤ層フイルムを施すこ
とを教示している。そのバリヤ層は、アルカリ移行、特
にトランジスターフイルムおよび／または液晶を劣化さ
せるナトリウムイオンの移行を防ぐ。様々な金属酸化物
および金属窒化物が提案されており、一般的にシリカが
好ましい。

【００２３】ある条件下において、不活性な耐火性酸化
物フイルムがバリヤ層および仕切り材の両方の機能を果
たせることをここに発見した。それゆえ、適切に沈積し
たフイルムは最初に仕切り材として機能し、圧密工程中
にガラスが粘着するのを防ぐ。続いて、そのフイルムは
さらに、バリヤ層として機能し、続く製造段階中および
ＬＣＤの動作中にアルカリが移行するのを防ぐ。

【００２４】そのフイルムは、ガラスパネルをシート形
状に引き出している間、またはその直後に施された場合
に、最も優れた効果を発揮する。連続引出シートは、シ
ート形成部材を離れる際に膜形成されてもよい。あるい
は、連続シートは個々のシートに切断され、次いでこれ
らは膜形成装置を通って移送されてもよい。いずれの場
合においても、シートの側面が同時に膜形成されてもよ
いし、または所望であれば一方の側のみ膜形成されても
よい。

【００２５】現在、能動的マトリックスＬＣＤ用のシー
トはダウンフロー法（downflow method ）により引き出
される。この方法において、溶解ガラスの複数の流れが
リザーバーから流れだしてシート形成部材の収束側にそ
れぞれ流れ込み、その部材を出る際にそれらの流れが一
緒になって単一のシートを形成する。その方法および装
置は米国特許に十分に記載されている。これらの特許
は、第3,149,949 号（ドカッティーら）および第3,338,
696 号並びに第3,682,609 号（ドカッティー）を含む。

【００２６】即時膜形成方法を用いることにより、ほこ
り、ガラスチップおよび類似の破片がフイルムに接着す
る傾向が少なくなる。汚染を除去する程度までフイルム
をより容易にそして安全に洗浄する。フイルムの耐薬品
性はまた、このフイルムが続いての加工の過酷な化学的
な環境に暴露されるので、重要である。このフイルムは
一般的に、非保護ガラスよりも攻撃に対してより抵抗性
がある。

【００２７】１つの利点は、完成した表示装置において
そのフイルムが有害な効果を有さないという事実にあ
る。従って、フイルムは連続する保護を提供するだけで
なく、除去工程の必要がない。このため、シートまたは
仕切り材の粒子を除去する工程を省くことで取扱いの手
間が最小限となる。それにより、起こり得る表面引掻き
傷を最小限にできる。フイルムが堅く、耐火性であると
いう特性はまた、一方で不注意により生じる表面の損傷
に抵抗性を有する。

【００２８】沈積フイルムは、不活性な耐火性物質また
はその物質の組合せからなる。「不活性」とは、沈積
中、または続いての操作において、図１に示す14のよう
な境界面での化学結合の形成以外にガラスとの化学反応
がまったくないことをいう。また、装置に、またはその
製造に用いられる物質による、もしくはその物質への化
学的な攻撃が一般的にないことをいう。「耐火性」と
は、圧密工程で遭遇する温度において明らかな化学的ま
たは物理的変化を生じない物質をいう。この工程は、ガ
ラス歪み点に近い温度、例えば製品コード７０５９ガラ
スが圧密される場合には、580 ℃の温度が１時間に亘り
用いられる。

【００２９】バリヤ層用途に適した耐火性物質は、シリ
カ、アルミナ、窒化ケイ素、チタニア、タンタラ（tant
ala ）および酸化スズを含む。後者の３つの酸化物は、
それらが高い屈折率を有するのであまり好ましくはな
い。そのような酸化物をガラスシートの外面へ施すと、
表示装置において望ましくない条件である高い反射率を
有するものとなってしまう。

【００３０】ナトリウム移行に対するバリヤとして窒化
ケイ素が提案されている。しかしながら、窒化ケイ素フ
イルムは、イオンが入り込んできた場合に導電性となる
傾向にあり、このため、フイルムを通して、またはポリ
シリコントランジスター素子の間で漏えい電流が生じる
可能性がある。それゆえ、電気的単離が要求される場
合、窒化ケイ素フイルムは単独では用いることができな
い。むしろ、窒化ケイ素フイルムはシリカのような電気
的な絶縁フイルムと組み合わせて用いられなければなら
ない。

【００３１】さらに、窒化ケイ素は、ガラス引き出し工
程中の大気圧蒸着（ＡＰＣＶＤ）により沈積させること
が困難である。アルミナおよびシリカの両者はＡＰＣＶ
Ｄにより沈積できる。一般的に、沈積の容易さのため、
並びに薄膜トランジスターとの優れた相容性のためにシ
リカフイルムが好ましい。

【００３２】フイルムは、原子サイズの種、すなわち、
大きなサイズの粒子ではなくて個々の原子またはイオ
ン、を含有する雰囲気から沈積されなければならない。
スパッタリングのような物理的蒸着、または電子ビーム
蒸発、もしくは化学的蒸着が好ましい方法である。後者
（ＣＶＤ）は、シートを引き出しながらそのシートを被
膜するのに好ましい。原子サイズの種から形成したフイ
ルムは、より圧密されたものとなる傾向にあり、それゆ
えより良好なアルカリ分散バリヤとなる。また、より密
度が高いので、そのフイルムは化学的な攻撃または損傷
に対する抵抗性が強い。

【００３３】フイルムの厚さは50から500 nmに亘る。よ
り厚いフイルムはより長い形成時間を必要とし、それゆ
え製造するのにより高価となる。従って、約100 nmを超
えない厚さが好ましい。しかしながら、そのような薄い
フイルムは、フイルムで覆われた表面がパネルの積層体
において互いに対向するように、ガラスの両側に膜形成
されていなければ、圧密中に粘着する傾向がある。ガラ
スが引き出されながら膜形成される場合、または膜形成
のためにつるされている場合、そのような両側の膜形成
が自然に起こる。

【００３４】

【実施例】以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を
詳細に説明する。

【００３５】各片が１インチ（2.5 ｃｍ）の辺と1.2 mm
厚であるガラス試験片の積層体を調製することにより最
初の測量を行なった。用いたガラスは製品コード７０５
９ガラスであった。その積層体において、いくつかの非
膜形成試料を用意して互いに向き合わせた。他のものは
４つの異なる試験片と向き合わせ、それぞれは異なる保
護フイルムを有する。全ての試料を完全に洗浄した。

【００３６】以下のようにして一方の側に膜形成するこ
とにより４つのフイルムで覆った試験片を調製した： １． 320 ℃の温度でのガラスに関して、チャンバー中
のＴｉＣｌ₄ とＯ₂ の混合物を熱分解することにより生
成した雰囲気から60nm厚のチタニアフイルムを沈積せし
めた。

【００３７】２． アルミナの電子ビーム蒸発により10
0 nm厚のアルミナフイルムを沈積せしめた。ガラス上へ
のアルミナ沈積は150 ℃で行った。

【００３８】３． 再び電子ビーム蒸発により、２番の
100 nmアルミナフイルム上に460 nm厚のシリカフイルム
を沈積せしめた。

【００３９】４． 525 ℃のガラスに対してテトラメチ
ルスズおよび酸素の雰囲気からの化学蒸着沈積により、
400 nm厚の酸化スズフイルムを沈積せしめた。

【００４０】上面と底面の熱抵抗積層パッドを除いた積
層体の洗浄試験片の配列を表Ｉに示す。試料１−４の膜
形成試験片は、フイルムで覆った側が互いに隣接するよ
うに配列した。

【００４１】 この試験積層体を、安全性の限界を提供するために、製
品コード７０５９ガラスの商業用の圧密スケジュールよ
りいくぶん厳しい時間−温度周期にさらした。そのスケ
ジュールは675 ℃で90分間に亘った。その積層体が冷却
されて分解されたときに、全ての非膜形成ガラスの界面
が互いに接着したことが発見された。ある限られた区域
のＴｉＯ₂ 膜形成したものを除いては、どのフイルムの
界面も接着を示さなかった。

【００４２】さらなる試験において、矩形のアルミナ標
的からのＲＦマグネトロンスパッタリングを用いた。こ
れにより、１”×３”（2.5 ×7.6 ｃｍ）であり、1.2
mm厚の製品コード７０５９ガラス基体の各側に、100 nm
厚のアルミナフイルムを沈積せしめた。１”×１”（2.
5 ×2.5 ｃｍ）の試験片を切断し、完全に洗浄した。同
じサイズの製品コード７０５９ガラスの非膜形成片を切
断し、完全に洗浄した。そのガラス試験片を表IIに示す
ように積層体に配列した。

【００４３】 次いでこの積層体を模擬の圧密周期にさらした。推薦す
るものにちかい600 ℃とそれより60℃高い温度の２つの
温度を用いた。積層体の上面に施したように、同様に54
および1150ｇ／ｉｎ² （ｇ／6.5 ｃｍ² ）の２つの圧力
を用いた。時間は1.5 から3.3 時間に変化させた。その
積層体を冷却して分解したときに、Ａｌ₂ Ｏ₃ ／Ａｌ₂
Ｏ₃ 界面には接着が全く生じなかったことが観察され
た。光学顕微鏡の50倍での観察により、表面にはなにも
損失が現れていなかった。しかしながら、全ての非膜形
成界面は互いに溶融し、いくつかは極めて広範囲に亘っ
ていた。Ａｌ₂ Ｏ₃ ／ガラス界面は、少々の接着を示し
た。このことは、界面での100 nm厚のＡｌ₂ Ｏ₃ は、接
着を防ぐために、安全には頼れなかったことを示した。

【００４４】さらなる試験において、シランと酸素との
反応からのシリカの大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）を用
いた。25mm×75mm×1.2 mmの製品コード７０５９の洗浄
したガラス基体を、500 ℃に加熱されるベルト炉中に導
入した。スロット膜形成機の下を通過しながら、反応物
が混合され、反応してシリカのフイルムを形成する熱し
たガラスに亘り流動せしめた。ベルトの速度および反応
物の流動を、50nm厚のフイルムがガラスの上面に形成さ
れるように調整した。ガラスの裏面は、その基体を裏返
し、その膜形成炉を再度通過せしめることにより膜形成
した。

【００４５】製品コード７０５９ガラス上の第２のシリ
カフイルムは、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）に
より調製した。これらのフイルムは、ガラスの一方の側
に約200 nm厚に沈積せしめた。

【００４６】１”×１”（2.5 ｃｍ×2.5 ｃｍ）の試料
を、非膜形成コード７０５９ガラスの試料といっしょに
上述したフイルム膜ガラスから切断した。全ての試料を
完全に洗浄し、等級1000のクリーンルーム条件で積み重
ねた。その試料は、表III に示すような積層体に配列し
た。

【００４７】 積層体を、1150ｇ／ｉｎ² の圧力の下で２時間に亘り65
2 ℃に温度にさらした。その積層体を冷却して分解した
ときに、以下の結果が分かった。ＡＰＣＶＤシリカフイ
ルムはともに接着しなかったが、露出したコード７０５
９ガラスには接着した。露出したコード７０５９ガラス
試料もまたともに接着した。

【００４８】ＰＥＣＶＤフイルムはともに接着せず、ま
た露出したコード７０５９ガラスとも接着しなかった。
ＡＰＣＶＤシリカが露出ガラスに粘着し、一方でＰＥＣ
ＶＤシリカが粘着しなかった理由は、フイルムの厚さの
違いにあると思われる。ＡＰＣＶＤフイルムの厚さは上
述した実施例（表II）で指摘した100 nmの限界より小さ
く、一方ＰＥＣＶＤシリカの厚さは100 nmより大きい。

【００４９】前述の実験により、より大規模な試験的作
業が導かれた。この作業において、320 mm×320 mm×1.
1 mmの製品コード７０５９ガラスパネルに、電子ビーム
蒸発によりそのパネルの両側に100 nm厚のアルミナフイ
ルムを設けた。洗浄後、それぞれ10のパネルの積層体２
つを組み立て、温度抵抗支持板の間に配した。その積層
体を徐冷がま中580 ℃で１時間、熱処理した。一方の積
層体のパネルは全て膜形成した。もう一方のパネルは、
表IVに示すように配列した。

【００５０】 各積層体を冷却して分解した。第２の積層体は、Ａｌ₂
Ｏ₃ ／Ａｌ₂ Ｏ₃ 界面には全く接着せず、あるＡｌ₂ Ｏ
₃ ／ガラス界面にはある程度の接着性を示し、非膜形成
／非膜形成界面には完全に接着性を示した。

【００５１】一方の積層体において、膜形成したにもか
かわらず、接着が生じた。これらのパネルを分離して検
査すると、接着が生じた場所に２種類の傷が観察され
た。傷の１つの種類は、525 ×75ミクロン級の異質物質
の比較的大きな球状の小塊に見えた。別の種類は、表面
に埋めこまれた直径約15ミクロンの小さな粒子であっ
た。

【００５２】観察された傷は、物質の不規則な、または
むらのある蒸発から生じたと思われ、そのような結果は
軽視されるべきであると思われる。その結果は、電子ビ
ーム蒸発は、保護フイルムを沈積する手段として用いら
れる場合、厳重に監視されなければならないことを示唆
している。

【００５３】標準クリーンルーム条件を用いることが必
要である。それゆえ、全ての粒子が膜形成ガラス表面か
ら除去されて、粘着または表面の傷が生じないようにし
なくてはならない。また、積層体組立てが行なわれる場
所の雰囲気からほこりも排除しなければならない。

【００５４】本発明は製品コード７０５９ガラスシート
の保護を例にして記載されている。しかしながら、本発
明は、ナトリウム移行が問題を生じ、そしてガラスが圧
密の熱処理を必要とする他の種類のガラスの保護にも同
様に適用できることが容易に理解されよう。これらのガ
ラスには、例えば、柔軟なソーダ石灰ガラスおよび堅い
アルカリ土類アルミナホウケイ酸塩ガラス等がある。

【００５５】添付した図１は、上面14と下面16の両面に
施された沈積フイルム12を有する個別のガラスパネルの
側面図である。パネル10は、フイルムが十分な厚さであ
る場合に一方の面のみに沈積されるフイルム12を同様に
有することもできることが理解されよう。両面に膜形成
されたパネルが一般的に好ましい。

【００５６】図２は、２つの高温積層パッド24の間に積
み重ねられた３つのガラスパネル10からなる積層体20の
側面図である。ガラスパネル10は、図１に示したように
その両側に膜形成した。

【００５７】一方の側のみに膜形成されたパネルを用い
る場合には、フイルム12が各界面に存在することを確証
するように積重ねに注意しなければならない。下か上の
第３のパネルは、積層パッド24への粘着を避けるために
両面にフイルムを有さなければならない。あるいは、積
層パッド上にフイルムを提供するか、または溶融シリカ
のような耐火性物質から積層パッドを作成することが必
要である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるガラスパネルの一実施例を示す側
面図

【図２】本発明によるガラスパネルを積み重ねて構成し
た積層体の一実施例を示す側面図

【符号の説明】

10 パネル 12 フイルム 20 積層体 24 積層パッド

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 各ガラスパネルの表面が隣接するガラス
   パネルの表面と対向するように積み重ねられた、液晶表
   示装置に用いられる複数の清浄で平らなガラスパネルを
   圧密する方法であって、各ガラスパネルの少なくとも１
   つの表面に、個々の原子またはイオンを含有する、不活
   性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲気から永久的
   な透明電気的絶縁性バリヤ層フイルムを50−500 nmの厚
   さに沈積せしめ、隣接する表面の各対の少なくとも一方
   がフイルムを有するようにフイルム付設パネルを積み重
   ね、その積層体を圧密熱サイクルにさらす各工程から成
   り、この時、前記バリヤ層フイルムが前記圧密熱サイク
   ルの間にガラスが粘着するのを防止し、また、ガラスか
   らのイオンの移行を防止すると共に漏えい電流に対する
   絶縁性を与えることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 前記沈積された耐火性物質が、シリカ、
   アルミナ、窒化ケイ素、タンタラ、チタニアおよび酸化
   スズからなる群より選択されることを特徴とする請求項
   １記載の方法。
3. 【請求項３】 前記ガラスパネルが溶解ガラスのボディ
   からガラスの連続シートを引き出すことにより形成さ
   れ、前記フイルムが、引き出されながらまたはその直後
   に、前記ガラスシート上に沈積されることを特徴とする
   請求項１記載の方法。