JP2696468B2 - 液晶表示装置のガラスパネルの製造方法 - Google Patents
液晶表示装置のガラスパネルの製造方法Info
- Publication number
- JP2696468B2 JP2696468B2 JP5050320A JP5032093A JP2696468B2 JP 2696468 B2 JP2696468 B2 JP 2696468B2 JP 5050320 A JP5050320 A JP 5050320A JP 5032093 A JP5032093 A JP 5032093A JP 2696468 B2 JP2696468 B2 JP 2696468B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- film
- panels
- panel
- deposited
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/225—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/218—V2O5, Nb2O5, Ta2O5
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
- C03C2217/281—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
の組立体に用いられるガラスパネルの製造に関するもの
である。
e )構成のものであろうと能動的(active)構成のもの
であろうと、通常、薄くて平行に間隔をおいたガラスパ
ネルの間に液晶層を設けてなるものである。
LCD装置の製造に用いた。そのようなパネルを用いた
場合、通常の動作温度で液晶の変質が生じるのが観察さ
れた。これは、ナトリウムイオンのガラス表面への移
行、および水中の水素イオンがナトリウムと交換される
ことによる液晶の汚染が原因である。このことを避ける
ために、シリカフイルムをガラスパネルの表面に施すこ
とが提案されている。このフイルムはバリヤ層として作
用し、ガラスからのナトリウムイオンの移行を停止し、
それゆえ液晶層がナトリウムイオンに暴露されるのを防
止する。
製品コード7059としてコーニング社から販売される
BaO−Al2 O3 −B2 O3 −SiO2 ガラスを使用
することにある。このガラスはそのバッチ中にナトリウ
ム化合物を意図的には全く含有していない。このガラス
の使用により液晶の汚染が避けられる。能動的構成の装
置において、バックパネル、すなわち能動性平面は、付
設された回路とともに、写真平板工程によりガラスに形
成された薄膜トランジスターを有する。正面パネル、す
なわちカラー平面は、フルカラー表示の場合、透明なカ
ラードットまたはストライプを有する。薄膜トランジス
ターの逆転設計と組み合されて、製品コード7059ガ
ラスはまた、アモルファスシリコントランジスターが40
0 ℃より低い温度でガラス上に載置される際、能動的構
成のマトリックスLCD装置の能動的素子に十分な保護
を与える。ナトリウム不純物は、長時間に亘ってトラン
ジスターを不安定化する。
スターの使用は、能動的マトリックスLCDにとって一
般化してきている。ポリシリコンを使用するには、アモ
ルファスシリコン使用の場合に要求される温度より実質
的に高く、ガラスの歪み点に近い加工温度を必要とす
る。このような温度においては、不純物として存在する
ナトリウムが再び問題となり始める。その結果、移行を
防ぐためにガラスパネル上にバリヤ層を提供することが
再び必要となる。
製造は、正確な位置決めを必要とする多段階写真平板工
程を伴う。このことは、パネルは形成されたときに正確
な寸法を有するだけでなく、そのような正確な寸法が後
の加工工程中に保持されることを必要とする。しかしな
がら、これらの加工工程は、ガラスが構造再配列および
/または寸法緩和を起こし得る温度またはその付近の温
度の熱に暴露することになる可能性がある。従って、ガ
ラスパネルを、形成後かつさらなる熱加工の前に圧密加
工にさらすことが一般的になってきている。
工程において達する最大温度以上の温度までガラスボデ
ィを再加熱することを含む。これにより、後の加工の間
というよりはむしろその前に、ガラスの構造再配列およ
び寸法緩和を完了させる。予備圧密は、平板パネル表示
装置の製造におけるように、続いての写真平板加工中の
ガラスの正確な位置決めおよび/または平面度を保持す
ることが必要である場合に、必須である。
済的に魅力的なことである。しかしながら、このために
は、隣接するシートに、粘着を防ぐための剥離物質を挟
むこと、または分離させることを必要とする。同時に、
シートを極めて平らに、そして光学品質表面仕上げに保
持することが必要である。
は、光学品質でなければならない。厳密な清浄性が全て
の加工中に要求される。表面の引掻き傷、ぎざぎざ等の
ような表面のいかなる傷も避けなければならない。
ルの間に挿入して圧密工程中に仕切り材として作用せし
めている。それらのシートは、工程の完了時に除去され
なければならない。これは追加の工程であるだけでな
く、時折、磨くことにより除去されなければならない引
掻き傷を誘発する。
献に注意を向けられたい: 米国特許第4,485,146 号(ミズハシら)は、ガラス組成
中にアルカリを含有し、そのガラスからのアルカリ金属
イオンの拡散を防ぐシリカ層を有するガラス基体を記載
している。その層中のケイ素は、0.01から25モル%の量
でSi−H結合中に結合された水素を有する。電子ビー
ムおよびスパッタリングにより施されたSiO2 フイル
ムが比較例に開示されている。
は、ナトリウム移行を防ぐシリカバリヤ層フイルムを教
示している。ガラスシートは、シリカで飽和され、ホウ
酸が添加されたH2 SiF6 の水溶液中に浸漬される。
シリカの薄い予備層が、真空蒸着により施される。
ガス状電子供与化合物の存在下において、600 ℃より高
い温度でガラス表面にシランガスを熱分解することによ
り50nm厚までのシリカのバリヤ層を製造することを教示
している。
893 号(ジェンキンスら)は、ポーター法の変更を記載
しており、ここではシラン、不飽和炭化水素および二酸
化炭素のガス状混合物を、600 −750 ℃の温度でガラス
表面に熱分解している。
は、ガラスボディを再形成する方法を教示しており、そ
こではガラスの再形成手段への粘着が、そのガラスにコ
ロイド耐火性金属酸化物の薄い連続の均一のフイルムを
施し、ベーキングして機械的な除去に抵抗することによ
り防止されている。
LECTRON DEVICE LETTERS、ED
L−7巻、11号、1986年11月の論説は、公称アルカリ不
含有アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩ガラス上に多結
晶性シリコン薄膜トランジスターを形成する新技術を記
載している。そのガラスは米国特許第4,180,618 号(ア
ルファら)に開示されたものであった。窒化ケイ素バリ
ヤ層フイルムをガラスに施して、続いてシリカ緩衝層を
施してトランジスター素子の間に電気的単離を保持して
いる。
号(フォスターら)において、仕切り層としてサブミク
ロンシリカ粒子の単一層を使用することが提案されてい
る。しかしながら、これはまだ、除去、およびその後の
さらなる処理を必要としている。
る加工の前に、ガラスパネルの少なくとも一方の側に永
久的な表面フイルムを施すことが望ましい。このフイル
ムはパネル上にとどまっていなければならず、受動的構
成か能動的構成かにかかわらずLCD表示装置の加工ま
たは動作を妨げてはならない。このフイルムは、不活
性、透明および耐火性である。このフイルムは、仕切り
材として作用して圧密中にガラスの粘着を防ぎ、またバ
リヤ層として作用して、液晶または薄膜トランジスター
の変質の原因となるナトリウムの移行を防ぐべきもので
ある。また、そのフイルムは表面の引掻き傷抵抗を改善
すべきものである。本発明の根本的な目的は、上述した
ような特性を有するLCD装置のガラスパネルを製造す
る方法を提供することにある。
ガラスパネルを製造する方法であって、清浄なパネルの
少なくとも1つの表面に、原子化されたまたはイオン化
された、不活性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲
気から透明フイルムを沈積せしめ、該フイルムは50−50
0 nm厚であり、前記パネルに熱処理を施してガラスを圧
縮し、この時、前記フイルムは圧縮熱処理中にガラスが
粘着するのを防止するように機能する各工程からなる方
法にある。
成中またはその直後に、原子化されたまたはイオン化さ
れた、不活性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲気
にさらし、前記パネルの少なくとも1つの表面に透明で
50−100 nm厚のバリヤ層フイルムを沈積せしめ、そのよ
うな複数の塗膜ガラスパネルを洗浄して積み重ね、その
積層体を熱処理して前記ガラスを圧縮する各工程からな
るLCD装置のガラスパネルを製造する方法にある。前
記バリヤ層フイルムは圧縮熱処理中にガラスが粘着する
のを防止し、完成製品上にとどまる。
記不活性耐火性物質はシリカであり、前記フイルムは、
好ましくはガラスパネルが引き出されている間に、化学
蒸着により沈積され、そのフイルムは約100 nmを超えな
い厚さで前記パネルの両側に沈積される。
用いられるガラスパネル上にバリヤ層フイルムを施すこ
とを教示している。そのバリヤ層は、アルカリ移行、特
にトランジスターフイルムおよび/または液晶を劣化さ
せるナトリウムイオンの移行を防ぐ。様々な金属酸化物
および金属窒化物が提案されており、一般的にシリカが
好ましい。
物フイルムがバリヤ層および仕切り材の両方の機能を果
たせることをここに発見した。それゆえ、適切に沈積し
たフイルムは最初に仕切り材として機能し、圧密工程中
にガラスが粘着するのを防ぐ。続いて、そのフイルムは
さらに、バリヤ層として機能し、続く製造段階中および
LCDの動作中にアルカリが移行するのを防ぐ。
状に引き出している間、またはその直後に施された場合
に、最も優れた効果を発揮する。連続引出シートは、シ
ート形成部材を離れる際に膜形成されてもよい。あるい
は、連続シートは個々のシートに切断され、次いでこれ
らは膜形成装置を通って移送されてもよい。いずれの場
合においても、シートの側面が同時に膜形成されてもよ
いし、または所望であれば一方の側のみ膜形成されても
よい。
トはダウンフロー法(downflow method )により引き出
される。この方法において、溶解ガラスの複数の流れが
リザーバーから流れだしてシート形成部材の収束側にそ
れぞれ流れ込み、その部材を出る際にそれらの流れが一
緒になって単一のシートを形成する。その方法および装
置は米国特許に十分に記載されている。これらの特許
は、第3,149,949 号(ドカッティーら)および第3,338,
696 号並びに第3,682,609 号(ドカッティー)を含む。
り、ガラスチップおよび類似の破片がフイルムに接着す
る傾向が少なくなる。汚染を除去する程度までフイルム
をより容易にそして安全に洗浄する。フイルムの耐薬品
性はまた、このフイルムが続いての加工の過酷な化学的
な環境に暴露されるので、重要である。このフイルムは
一般的に、非保護ガラスよりも攻撃に対してより抵抗性
がある。
そのフイルムが有害な効果を有さないという事実にあ
る。従って、フイルムは連続する保護を提供するだけで
なく、除去工程の必要がない。このため、シートまたは
仕切り材の粒子を除去する工程を省くことで取扱いの手
間が最小限となる。それにより、起こり得る表面引掻き
傷を最小限にできる。フイルムが堅く、耐火性であると
いう特性はまた、一方で不注意により生じる表面の損傷
に抵抗性を有する。
はその物質の組合せからなる。「不活性」とは、沈積
中、または続いての操作において、図1に示す14のよう
な境界面での化学結合の形成以外にガラスとの化学反応
がまったくないことをいう。また、装置に、またはその
製造に用いられる物質による、もしくはその物質への化
学的な攻撃が一般的にないことをいう。「耐火性」と
は、圧密工程で遭遇する温度において明らかな化学的ま
たは物理的変化を生じない物質をいう。この工程は、ガ
ラス歪み点に近い温度、例えば製品コード7059ガラ
スが圧密される場合には、580 ℃の温度が1時間に亘り
用いられる。
カ、アルミナ、窒化ケイ素、チタニア、タンタラ(tant
ala )および酸化スズを含む。後者の3つの酸化物は、
それらが高い屈折率を有するのであまり好ましくはな
い。そのような酸化物をガラスシートの外面へ施すと、
表示装置において望ましくない条件である高い反射率を
有するものとなってしまう。
ケイ素が提案されている。しかしながら、窒化ケイ素フ
イルムは、イオンが入り込んできた場合に導電性となる
傾向にあり、このため、フイルムを通して、またはポリ
シリコントランジスター素子の間で漏えい電流が生じる
可能性がある。それゆえ、電気的単離が要求される場
合、窒化ケイ素フイルムは単独では用いることができな
い。むしろ、窒化ケイ素フイルムはシリカのような電気
的な絶縁フイルムと組み合わせて用いられなければなら
ない。
程中の大気圧蒸着(APCVD)により沈積させること
が困難である。アルミナおよびシリカの両者はAPCV
Dにより沈積できる。一般的に、沈積の容易さのため、
並びに薄膜トランジスターとの優れた相容性のためにシ
リカフイルムが好ましい。
大きなサイズの粒子ではなくて個々の原子またはイオ
ン、を含有する雰囲気から沈積されなければならない。
スパッタリングのような物理的蒸着、または電子ビーム
蒸発、もしくは化学的蒸着が好ましい方法である。後者
(CVD)は、シートを引き出しながらそのシートを被
膜するのに好ましい。原子サイズの種から形成したフイ
ルムは、より圧密されたものとなる傾向にあり、それゆ
えより良好なアルカリ分散バリヤとなる。また、より密
度が高いので、そのフイルムは化学的な攻撃または損傷
に対する抵抗性が強い。
り厚いフイルムはより長い形成時間を必要とし、それゆ
え製造するのにより高価となる。従って、約100 nmを超
えない厚さが好ましい。しかしながら、そのような薄い
フイルムは、フイルムで覆われた表面がパネルの積層体
において互いに対向するように、ガラスの両側に膜形成
されていなければ、圧密中に粘着する傾向がある。ガラ
スが引き出されながら膜形成される場合、または膜形成
のためにつるされている場合、そのような両側の膜形成
が自然に起こる。
詳細に説明する。
厚であるガラス試験片の積層体を調製することにより最
初の測量を行なった。用いたガラスは製品コード705
9ガラスであった。その積層体において、いくつかの非
膜形成試料を用意して互いに向き合わせた。他のものは
4つの異なる試験片と向き合わせ、それぞれは異なる保
護フイルムを有する。全ての試料を完全に洗浄した。
とにより4つのフイルムで覆った試験片を調製した: 1. 320 ℃の温度でのガラスに関して、チャンバー中
のTiCl4 とO2 の混合物を熱分解することにより生
成した雰囲気から60nm厚のチタニアフイルムを沈積せし
めた。
0 nm厚のアルミナフイルムを沈積せしめた。ガラス上へ
のアルミナ沈積は150 ℃で行った。
100 nmアルミナフイルム上に460 nm厚のシリカフイルム
を沈積せしめた。
ルスズおよび酸素の雰囲気からの化学蒸着沈積により、
400 nm厚の酸化スズフイルムを沈積せしめた。
層体の洗浄試験片の配列を表Iに示す。試料1−4の膜
形成試験片は、フイルムで覆った側が互いに隣接するよ
うに配列した。
品コード7059ガラスの商業用の圧密スケジュールよ
りいくぶん厳しい時間−温度周期にさらした。そのスケ
ジュールは675 ℃で90分間に亘った。その積層体が冷却
されて分解されたときに、全ての非膜形成ガラスの界面
が互いに接着したことが発見された。ある限られた区域
のTiO2 膜形成したものを除いては、どのフイルムの
界面も接着を示さなかった。
的からのRFマグネトロンスパッタリングを用いた。こ
れにより、1”×3”(2.5 ×7.6 cm)であり、1.2
mm厚の製品コード7059ガラス基体の各側に、100 nm
厚のアルミナフイルムを沈積せしめた。1”×1”(2.
5 ×2.5 cm)の試験片を切断し、完全に洗浄した。同
じサイズの製品コード7059ガラスの非膜形成片を切
断し、完全に洗浄した。そのガラス試験片を表IIに示す
ように積層体に配列した。
るものにちかい600 ℃とそれより60℃高い温度の2つの
温度を用いた。積層体の上面に施したように、同様に54
および1150g/in2 (g/6.5 cm2 )の2つの圧力
を用いた。時間は1.5 から3.3 時間に変化させた。その
積層体を冷却して分解したときに、Al2 O3 /Al2
O3 界面には接着が全く生じなかったことが観察され
た。光学顕微鏡の50倍での観察により、表面にはなにも
損失が現れていなかった。しかしながら、全ての非膜形
成界面は互いに溶融し、いくつかは極めて広範囲に亘っ
ていた。Al2 O3 /ガラス界面は、少々の接着を示し
た。このことは、界面での100 nm厚のAl2 O3 は、接
着を防ぐために、安全には頼れなかったことを示した。
反応からのシリカの大気圧化学蒸着(APCVD)を用
いた。25mm×75mm×1.2 mmの製品コード7059の洗浄
したガラス基体を、500 ℃に加熱されるベルト炉中に導
入した。スロット膜形成機の下を通過しながら、反応物
が混合され、反応してシリカのフイルムを形成する熱し
たガラスに亘り流動せしめた。ベルトの速度および反応
物の流動を、50nm厚のフイルムがガラスの上面に形成さ
れるように調整した。ガラスの裏面は、その基体を裏返
し、その膜形成炉を再度通過せしめることにより膜形成
した。
カフイルムは、プラズマ強化化学蒸着(PECVD)に
より調製した。これらのフイルムは、ガラスの一方の側
に約200 nm厚に沈積せしめた。
を、非膜形成コード7059ガラスの試料といっしょに
上述したフイルム膜ガラスから切断した。全ての試料を
完全に洗浄し、等級1000のクリーンルーム条件で積み重
ねた。その試料は、表III に示すような積層体に配列し
た。
2 ℃に温度にさらした。その積層体を冷却して分解した
ときに、以下の結果が分かった。APCVDシリカフイ
ルムはともに接着しなかったが、露出したコード705
9ガラスには接着した。露出したコード7059ガラス
試料もまたともに接着した。
た露出したコード7059ガラスとも接着しなかった。
APCVDシリカが露出ガラスに粘着し、一方でPEC
VDシリカが粘着しなかった理由は、フイルムの厚さの
違いにあると思われる。APCVDフイルムの厚さは上
述した実施例(表II)で指摘した100 nmの限界より小さ
く、一方PECVDシリカの厚さは100 nmより大きい。
業が導かれた。この作業において、320 mm×320 mm×1.
1 mmの製品コード7059ガラスパネルに、電子ビーム
蒸発によりそのパネルの両側に100 nm厚のアルミナフイ
ルムを設けた。洗浄後、それぞれ10のパネルの積層体2
つを組み立て、温度抵抗支持板の間に配した。その積層
体を徐冷がま中580 ℃で1時間、熱処理した。一方の積
層体のパネルは全て膜形成した。もう一方のパネルは、
表IVに示すように配列した。
O3 /Al2 O3 界面には全く接着せず、あるAl2 O
3 /ガラス界面にはある程度の接着性を示し、非膜形成
/非膜形成界面には完全に接着性を示した。
かわらず、接着が生じた。これらのパネルを分離して検
査すると、接着が生じた場所に2種類の傷が観察され
た。傷の1つの種類は、525 ×75ミクロン級の異質物質
の比較的大きな球状の小塊に見えた。別の種類は、表面
に埋めこまれた直径約15ミクロンの小さな粒子であっ
た。
むらのある蒸発から生じたと思われ、そのような結果は
軽視されるべきであると思われる。その結果は、電子ビ
ーム蒸発は、保護フイルムを沈積する手段として用いら
れる場合、厳重に監視されなければならないことを示唆
している。
要である。それゆえ、全ての粒子が膜形成ガラス表面か
ら除去されて、粘着または表面の傷が生じないようにし
なくてはならない。また、積層体組立てが行なわれる場
所の雰囲気からほこりも排除しなければならない。
の保護を例にして記載されている。しかしながら、本発
明は、ナトリウム移行が問題を生じ、そしてガラスが圧
密の熱処理を必要とする他の種類のガラスの保護にも同
様に適用できることが容易に理解されよう。これらのガ
ラスには、例えば、柔軟なソーダ石灰ガラスおよび堅い
アルカリ土類アルミナホウケイ酸塩ガラス等がある。
施された沈積フイルム12を有する個別のガラスパネルの
側面図である。パネル10は、フイルムが十分な厚さであ
る場合に一方の面のみに沈積されるフイルム12を同様に
有することもできることが理解されよう。両面に膜形成
されたパネルが一般的に好ましい。
み重ねられた3つのガラスパネル10からなる積層体20の
側面図である。ガラスパネル10は、図1に示したように
その両側に膜形成した。
る場合には、フイルム12が各界面に存在することを確証
するように積重ねに注意しなければならない。下か上の
第3のパネルは、積層パッド24への粘着を避けるために
両面にフイルムを有さなければならない。あるいは、積
層パッド上にフイルムを提供するか、または溶融シリカ
のような耐火性物質から積層パッドを作成することが必
要である。
面図
た積層体の一実施例を示す側面図
Claims (3)
- 【請求項1】 各ガラスパネルの表面が隣接するガラス
パネルの表面と対向するように積み重ねられた、液晶表
示装置に用いられる複数の清浄で平らなガラスパネルを
圧密する方法であって、各ガラスパネルの少なくとも1
つの表面に、個々の原子またはイオンを含有する、不活
性耐火性物質もしくは反応性前駆体の雰囲気から永久的
な透明電気的絶縁性バリヤ層フイルムを50−500 nmの厚
さに沈積せしめ、隣接する表面の各対の少なくとも一方
がフイルムを有するようにフイルム付設パネルを積み重
ね、その積層体を圧密熱サイクルにさらす各工程から成
り、この時、前記バリヤ層フイルムが前記圧密熱サイク
ルの間にガラスが粘着するのを防止し、また、ガラスか
らのイオンの移行を防止すると共に漏えい電流に対する
絶縁性を与えることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記沈積された耐火性物質が、シリカ、
アルミナ、窒化ケイ素、タンタラ、チタニアおよび酸化
スズからなる群より選択されることを特徴とする請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】 前記ガラスパネルが溶解ガラスのボディ
からガラスの連続シートを引き出すことにより形成さ
れ、前記フイルムが、引き出されながらまたはその直後
に、前記ガラスシート上に沈積されることを特徴とする
請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US85358792A | 1992-03-18 | 1992-03-18 | |
US853587 | 1992-03-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0643445A JPH0643445A (ja) | 1994-02-18 |
JP2696468B2 true JP2696468B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=25316435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5050320A Expired - Fee Related JP2696468B2 (ja) | 1992-03-18 | 1993-03-11 | 液晶表示装置のガラスパネルの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6216491B1 (ja) |
EP (1) | EP0561161B1 (ja) |
JP (1) | JP2696468B2 (ja) |
KR (1) | KR0141907B1 (ja) |
CA (1) | CA2084247A1 (ja) |
DE (1) | DE69310003D1 (ja) |
NO (1) | NO930972L (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013025000A3 (ko) * | 2011-08-12 | 2013-05-30 | (주)엘지하우시스 | 저온 금속 증착공정을 적용한 열변색성 유리의 제조방법 및 이에 의한 열변색성 유리 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000026139A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-25 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 絶縁膜の被覆方法およびそれを用いた画像表示用ガラス基板 |
JP2001114533A (ja) * | 1999-10-20 | 2001-04-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透明導電膜付きガラス板およびこれを用いたガラス物品 |
US20020184970A1 (en) | 2001-12-13 | 2002-12-12 | Wickersham Charles E. | Sptutter targets and methods of manufacturing same to reduce particulate emission during sputtering |
WO2001086282A1 (en) | 2000-05-11 | 2001-11-15 | Tosoh Smd, Inc. | Cleanliness evaluation in sputter targets using phase |
WO2002081767A2 (en) | 2001-04-04 | 2002-10-17 | Tosoh Smd, Inc. | A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target |
WO2003014718A2 (en) | 2001-08-09 | 2003-02-20 | Tosoh Smd, Inc. | Method and apparatus for non-destructive target cleanliness characterization by types of flaws sorted by size and location |
WO2003031362A1 (en) | 2001-10-05 | 2003-04-17 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass for use in displays and other electronic devices |
JP4185787B2 (ja) * | 2003-03-03 | 2008-11-26 | 財団法人国際科学振興財団 | 樹脂成型機および不働態膜を有する部材 |
US7514149B2 (en) * | 2003-04-04 | 2009-04-07 | Corning Incorporated | High-strength laminated sheet for optical applications |
US7018272B2 (en) * | 2003-07-29 | 2006-03-28 | Corning Incorporated | Pressure feed grinding of AMLCD substrate edges |
EP2128688A1 (en) * | 2008-05-31 | 2009-12-02 | Saint-Gobain Glass France S.A. | Electrically switchable privacy glass pane |
US8585467B2 (en) * | 2008-10-31 | 2013-11-19 | Corning Incorporated | Linear pressure feed grinding with voice coil |
EP2479151B1 (en) * | 2009-09-18 | 2020-10-28 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Method for producing glass film, method for processing glass film, and glass film laminate |
US20120280373A1 (en) * | 2011-05-06 | 2012-11-08 | Jiangwei Feng | Active electronics on strengthened glass with alkali barrier |
US8721392B2 (en) | 2011-06-28 | 2014-05-13 | Corning Incorporated | Glass edge finishing method |
US8922747B2 (en) * | 2011-11-29 | 2014-12-30 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal panel, OLED display panel, glass substrate and manufacturing method thereof |
US20140299180A1 (en) * | 2011-11-30 | 2014-10-09 | Corning Incorporated | Multi-junction photovoltaic modules incorporating ultra-thin flexible glass |
KR20150023312A (ko) * | 2012-05-29 | 2015-03-05 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 적층체 및 전자 디바이스의 제조 방법 |
TWI751127B (zh) * | 2015-12-17 | 2022-01-01 | 日商信越化學工業股份有限公司 | 藍寶石複合基材與其製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3208839A (en) | 1961-02-27 | 1965-09-28 | Corning Glass Works | Method of shaping a glass article |
US3149949A (en) | 1961-02-27 | 1964-09-22 | Corning Glass Works | Downflow sheet drawing method and apparatus |
US3338696A (en) | 1964-05-06 | 1967-08-29 | Corning Glass Works | Sheet forming apparatus |
BE757057A (fr) | 1969-10-06 | 1971-04-05 | Corning Glass Works | Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree |
US3938242A (en) * | 1973-09-27 | 1976-02-17 | Rca Corporation | Fabrication of liquid crystal devices |
GB1573154A (en) * | 1977-03-01 | 1980-08-13 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
US4180618A (en) * | 1977-07-27 | 1979-12-25 | Corning Glass Works | Thin silicon film electronic device |
US4153518A (en) * | 1977-11-18 | 1979-05-08 | Tektronix, Inc. | Method of making a metalized substrate having a thin film barrier layer |
JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
DE3332995A1 (de) | 1983-07-14 | 1985-01-24 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd., Osaka | Verfahren zum herstellen einer siliciumdioxidbeschichtung |
GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
GB8630918D0 (en) * | 1986-12-24 | 1987-02-04 | Pilkington Brothers Plc | Coatings on glass |
JPH0786608B2 (ja) * | 1988-03-29 | 1995-09-20 | トヨタ自動車株式会社 | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 |
GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
US5073181A (en) * | 1990-08-09 | 1991-12-17 | Corning Incorporated | Method of protecting glass surfaces using submicron refractory particles |
-
1992
- 1992-12-01 CA CA002084247A patent/CA2084247A1/en not_active Abandoned
-
1993
- 1993-02-16 DE DE69310003T patent/DE69310003D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-16 EP EP93102356A patent/EP0561161B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-11 JP JP5050320A patent/JP2696468B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-03-17 KR KR1019930004086A patent/KR0141907B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-03-17 NO NO93930972A patent/NO930972L/no unknown
- 1993-10-05 US US08/132,554 patent/US6216491B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013025000A3 (ko) * | 2011-08-12 | 2013-05-30 | (주)엘지하우시스 | 저온 금속 증착공정을 적용한 열변색성 유리의 제조방법 및 이에 의한 열변색성 유리 |
KR101380509B1 (ko) * | 2011-08-12 | 2014-04-01 | (주)엘지하우시스 | 저온 금속 증착공정을 적용한 열변색성 유리의 제조방법 및 이에 의한 열변색성 유리 |
US9193624B2 (en) | 2011-08-12 | 2015-11-24 | Lg Hausys, Ltd. | Production method for thermochromatic glass in which use is made of a low-temperature metal-vapour-deposition process, and thermochromatic glass obtained thereby |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930019574A (ko) | 1993-10-18 |
NO930972D0 (no) | 1993-03-17 |
EP0561161B1 (en) | 1997-04-23 |
NO930972L (no) | 1993-09-20 |
US6216491B1 (en) | 2001-04-17 |
EP0561161A3 (en) | 1994-10-12 |
DE69310003D1 (de) | 1997-05-28 |
EP0561161A2 (en) | 1993-09-22 |
KR0141907B1 (ko) | 1998-06-01 |
CA2084247A1 (en) | 1993-09-19 |
JPH0643445A (ja) | 1994-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2696468B2 (ja) | 液晶表示装置のガラスパネルの製造方法 | |
US5372860A (en) | Silicon device production | |
US5441803A (en) | Composites made from single crystal substances | |
TWI240840B (en) | A glass product for use in ultra-thin glass display applications | |
TWI465409B (zh) | 玻璃膜的製造方法與玻璃膜的處理方法以及玻璃膜積層體 | |
JP3996229B2 (ja) | アルカリ金属拡散バリヤー層 | |
US6605228B1 (en) | Method for fabricating planar optical waveguide devices | |
JP4728030B2 (ja) | Soiウエーハの製造方法 | |
KR102267241B1 (ko) | 유리 필름 적층체 및 액정 패널의 제조 방법 | |
JPWO2003027736A1 (ja) | 光導波路およびその製造方法 | |
JP2021514928A (ja) | 静電帯電の低減のための起伏加工済みガラス表面 | |
KR20240005182A (ko) | 캐리어 기판, 적층체, 전자 디바이스의 제조 방법 | |
US5827342A (en) | Treatment of glass substrates to compensate for warpage and distortion | |
MXPA97003234A (en) | Treatment of crystal substrates to compensate combadura and distors | |
CN113165945B (zh) | 玻璃与玻璃陶瓷复合物及方法 | |
WO2015012658A1 (ko) | 디스플레이 패널용 초 박판 유리 핸들링 방법 | |
TWI459451B (zh) | 改良基板組成份及形成半導體於絕緣體元件上之方法 | |
JP3118789B2 (ja) | ガラス板の徐冷方法 | |
JP7124088B2 (ja) | 複合単結晶薄膜 | |
KR20090020612A (ko) | 절연체 구조 위에 반도체의 형성을 위한 방법 | |
US3810744A (en) | Method for making fused silica glass composites | |
EP1074864A2 (en) | Method of fabricating planar optical waveguide devices | |
JP3659278B2 (ja) | 光導波路用基板の作製方法 | |
JPH08165133A (ja) | ガラス板の熱処理方法 | |
TW202436256A (zh) | 具有經修改表層的硼矽酸鹽玻璃 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970722 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |