JPH0786608B2 - 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 - Google Patents
曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法Info
- Publication number
- JPH0786608B2 JPH0786608B2 JP63075618A JP7561888A JPH0786608B2 JP H0786608 B2 JPH0786608 B2 JP H0786608B2 JP 63075618 A JP63075618 A JP 63075618A JP 7561888 A JP7561888 A JP 7561888A JP H0786608 B2 JPH0786608 B2 JP H0786608B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- glass
- thin film
- liquid crystal
- curved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は液晶ミラー等に用いられる液晶セルの曲面液晶
セル用ガラス基板の製造方法に関するものである。
セル用ガラス基板の製造方法に関するものである。
［従来の技術］ 従来、自動車用ドアミラー等に用いる液晶ミラーの曲面
ガラス基板は、耐火材で作られた架台（型）の上に平面
ガラスを載置し、加熱することによって軟化させ、架台
にそって変形させて成形する方法で作られている。
ガラス基板は、耐火材で作られた架台（型）の上に平面
ガラスを載置し、加熱することによって軟化させ、架台
にそって変形させて成形する方法で作られている。
［発明が解決しようとする課題］ このような自重曲げ法によって成形した曲面ガラス基板
を液晶セル用として使用する場合、その曲面ガラス基板
の曲率にバラツキがあるため、その２枚のガラス基板を
所定間隔を隔てて対向させた場合、両者間のギャップが
不均一となる。
を液晶セル用として使用する場合、その曲面ガラス基板
の曲率にバラツキがあるため、その２枚のガラス基板を
所定間隔を隔てて対向させた場合、両者間のギャップが
不均一となる。
例えば平面ガラス基板を上記自重曲げ法で曲率半径1000
mmとして加工した場合、その曲率半径において±50mm程
度のバラツキがある。一方良好な液晶セルを作るために
は、経験上、使用する２枚の曲面ガラス基板の曲率半径
の差を±10mm程度にする必要がある。従って良好な液晶
セルを得るためには、曲面ガラス基板１枚ごとの曲率を
測定し、許容範囲内の曲率の差をもつ２枚の曲面ガラス
基板を組み合わせる工程が必要となり、製造工程が複雑
になるという問題がある。
mmとして加工した場合、その曲率半径において±50mm程
度のバラツキがある。一方良好な液晶セルを作るために
は、経験上、使用する２枚の曲面ガラス基板の曲率半径
の差を±10mm程度にする必要がある。従って良好な液晶
セルを得るためには、曲面ガラス基板１枚ごとの曲率を
測定し、許容範囲内の曲率の差をもつ２枚の曲面ガラス
基板を組み合わせる工程が必要となり、製造工程が複雑
になるという問題がある。
また許容範囲内の曲率の差をもつ２枚の曲面ガラス基板
を組み合わせた場合でも局部的な曲率の違いがあるた
め、その液晶セルの基板間のギャップの均一性を向上さ
せるには限界があった。
を組み合わせた場合でも局部的な曲率の違いがあるた
め、その液晶セルの基板間のギャップの均一性を向上さ
せるには限界があった。
上記の欠点を解決するための一手段として、本出願人
は、特願昭62−308190号を出願している。これは、自重
曲げ法等によってあらかじめ曲面が与えられた第１ガラ
ス基板上に低融点ガラスを載置し、第１ガラス基板の軟
化点温度以下でかつ低融点ガラスの軟化点温度以上に加
熱して低融点ガラスを第１ガラス基板の曲面形状と同一
面形状に変形させる液晶セル用ガラス基板の製造方法で
ある。この方法によれば、同一曲面を有する２枚の曲面
ガラスを正確に成形することができるが、第１ガラス基
板をあらかじめ加工しておいてから低融点ガラスを加工
するため、成形工程が複雑になるという点が問題であ
る。
は、特願昭62−308190号を出願している。これは、自重
曲げ法等によってあらかじめ曲面が与えられた第１ガラ
ス基板上に低融点ガラスを載置し、第１ガラス基板の軟
化点温度以下でかつ低融点ガラスの軟化点温度以上に加
熱して低融点ガラスを第１ガラス基板の曲面形状と同一
面形状に変形させる液晶セル用ガラス基板の製造方法で
ある。この方法によれば、同一曲面を有する２枚の曲面
ガラスを正確に成形することができるが、第１ガラス基
板をあらかじめ加工しておいてから低融点ガラスを加工
するため、成形工程が複雑になるという点が問題であ
る。
本発明は、これらの課題を解決すべくなされたものであ
って、同一曲面を有する２枚の液晶セル用ガラス基板を
正確に、かつ容易に成形することのできる曲面液晶セル
用ガラス基板の成形方法を提供することを目的とする。
って、同一曲面を有する２枚の液晶セル用ガラス基板を
正確に、かつ容易に成形することのできる曲面液晶セル
用ガラス基板の成形方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明の曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法は、２枚
のガラス基板のうちの少なくとも一方のガラス基板の一
面上に、該ガラス基板の軟化処理温度で融着しないセラ
ミックス又は金属からなり、該セラミックス同士又は該
金属同士が一体となった薄膜を形成し、該薄膜を内側に
して２枚の前記ガラス基板を重ね合わせた後、型上にて
前記ガラス基板の軟化処理温度に加熱して２枚の前記ガ
ラス基板を前記型上で同一曲面に成形することを特徴と
する。
のガラス基板のうちの少なくとも一方のガラス基板の一
面上に、該ガラス基板の軟化処理温度で融着しないセラ
ミックス又は金属からなり、該セラミックス同士又は該
金属同士が一体となった薄膜を形成し、該薄膜を内側に
して２枚の前記ガラス基板を重ね合わせた後、型上にて
前記ガラス基板の軟化処理温度に加熱して２枚の前記ガ
ラス基板を前記型上で同一曲面に成形することを特徴と
する。
上記ガラス基板としては、一般に用いられる平面性の良
いソーダライムガラス、硼珪酸ガラス等を使用すること
ができる。前記ガラス基板の軟化処理は、ガラス基板を
軟化点温度以上に加熱して行われる。ここで軟化点温度
とは、ガラスが転移点温度以上に加熱され粘性液体とな
るまえにおけるゴム様に挙動する温度範囲の下限温度を
いい、粘度が約106.6Pa・Ｓに相当する温度をいう。前
記ソーダライムガラスの軟化点は530℃であり、硼珪酸
ガラスの軟化点は630℃である。
いソーダライムガラス、硼珪酸ガラス等を使用すること
ができる。前記ガラス基板の軟化処理は、ガラス基板を
軟化点温度以上に加熱して行われる。ここで軟化点温度
とは、ガラスが転移点温度以上に加熱され粘性液体とな
るまえにおけるゴム様に挙動する温度範囲の下限温度を
いい、粘度が約106.6Pa・Ｓに相当する温度をいう。前
記ソーダライムガラスの軟化点は530℃であり、硼珪酸
ガラスの軟化点は630℃である。
前記ガラス基板上に形成される薄膜としては、ガラス基
板の軟化処理温度でガラス基板に融着しないものを使用
できる。例えば、セラミックス薄膜としてはITO（イン
ジウム・チン−オキサイド）膜、SiO2膜、Al2O3膜、ZrO
2膜等である。金属薄膜としてはPt膜、Ag膜、Ti膜等で
ある。これら薄膜は、ガラス基板同士が溶融接着するの
を防ぐためのものであり、２枚のガラス基板のうちの少
なくとも一方のガラス基板の重ね合せ面上に形成され
る。また、ガラス基板同士の溶融接着の防止をより確実
にするために、２枚のガラス基板の両方の重ね合せ面上
にそれぞれ薄膜を形成しても良い。さらには、一方のガ
ラス基板上に形成する薄膜を、ITO膜とSiO2膜の組合せ
等、複層からなる膜としてもよい。ただし２枚のガラス
基板の間に形成される薄膜全体の厚さとしては、1000〜
4000Åとするのが好ましい。500Åより薄いと、ガラス
の溶融接着を効果的に防止することができない。また、
6000Åより厚いとガラス基板上に着色が目立つ場合があ
る。上記薄膜の前記ガラス基板上への形成は、一般の真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等によ
り行うことができる。また、化学的薄膜形成法（CVD
法）によって形成してもよい。
板の軟化処理温度でガラス基板に融着しないものを使用
できる。例えば、セラミックス薄膜としてはITO（イン
ジウム・チン−オキサイド）膜、SiO2膜、Al2O3膜、ZrO
2膜等である。金属薄膜としてはPt膜、Ag膜、Ti膜等で
ある。これら薄膜は、ガラス基板同士が溶融接着するの
を防ぐためのものであり、２枚のガラス基板のうちの少
なくとも一方のガラス基板の重ね合せ面上に形成され
る。また、ガラス基板同士の溶融接着の防止をより確実
にするために、２枚のガラス基板の両方の重ね合せ面上
にそれぞれ薄膜を形成しても良い。さらには、一方のガ
ラス基板上に形成する薄膜を、ITO膜とSiO2膜の組合せ
等、複層からなる膜としてもよい。ただし２枚のガラス
基板の間に形成される薄膜全体の厚さとしては、1000〜
4000Åとするのが好ましい。500Åより薄いと、ガラス
の溶融接着を効果的に防止することができない。また、
6000Åより厚いとガラス基板上に着色が目立つ場合があ
る。上記薄膜の前記ガラス基板上への形成は、一般の真
空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等によ
り行うことができる。また、化学的薄膜形成法（CVD
法）によって形成してもよい。
以上のように少なくとも一方のガラス基板に薄膜を形成
した２枚のガラス基板を、薄膜が内側となるように重ね
合せる。このとき重ね合せ面の間に異物、ほこり等がは
いらないように、重ね合せ前にガラス基板を超音波洗浄
しておくことが好ましい。またガラス基板の加熱加工時
に両ガラス基板がずれるのを防ぐため、重ね合せ面の間
の空気を追い出し隙間を完全になくしておくと良い。
した２枚のガラス基板を、薄膜が内側となるように重ね
合せる。このとき重ね合せ面の間に異物、ほこり等がは
いらないように、重ね合せ前にガラス基板を超音波洗浄
しておくことが好ましい。またガラス基板の加熱加工時
に両ガラス基板がずれるのを防ぐため、重ね合せ面の間
の空気を追い出し隙間を完全になくしておくと良い。
このように重ね合せたガラス基板を、ヒータを有する加
熱炉内に設置された金属製等の凹型成形型の上に載置支
持し、さらにガラス基板上に凸型成形型を載せる。前記
凹型成形型は、所定の曲率半径で形成された円筒状の凹
状曲面をその上面に有する。また、前記凸型成形型は、
前記凹型成形型の凹状曲面と対応する凸状曲面をその下
面に有する。この状態でヒータによりガラスの軟化点温
度以上に加熱して、両成形型の間でガラス基板を塑性変
形させて成形する。なお、両成形型はあらかじめ加熱し
ておくとよい。
熱炉内に設置された金属製等の凹型成形型の上に載置支
持し、さらにガラス基板上に凸型成形型を載せる。前記
凹型成形型は、所定の曲率半径で形成された円筒状の凹
状曲面をその上面に有する。また、前記凸型成形型は、
前記凹型成形型の凹状曲面と対応する凸状曲面をその下
面に有する。この状態でヒータによりガラスの軟化点温
度以上に加熱して、両成形型の間でガラス基板を塑性変
形させて成形する。なお、両成形型はあらかじめ加熱し
ておくとよい。
また、ガラス基板の変形加工は、上記した加熱プレス加
工法に限らず、自重曲げ法等によっても行うことができ
る。この自重曲げ法は、前記のように重ね合せた２枚の
ガラス基板を、耐火物等で作られ所定の曲面形状を有す
る凹型架台の上に載置し、ヒータ等でガラスの軟化点温
度以上に加熱することによって行われる。軟化点温度以
上に加熱されて可塑性をもつ２枚のガラス基板は、自重
により次第に下方に撓み、やがて架台の凹面上に密接
し、所定の曲面形状が与えられる。
工法に限らず、自重曲げ法等によっても行うことができ
る。この自重曲げ法は、前記のように重ね合せた２枚の
ガラス基板を、耐火物等で作られ所定の曲面形状を有す
る凹型架台の上に載置し、ヒータ等でガラスの軟化点温
度以上に加熱することによって行われる。軟化点温度以
上に加熱されて可塑性をもつ２枚のガラス基板は、自重
により次第に下方に撓み、やがて架台の凹面上に密接
し、所定の曲面形状が与えられる。
［実施例］ 以下実施例により本発明を説明する。
（実施例１） 平面性の良いソーダライムガラス基板１（軟化点530
℃）（第１図）上に一般のスパッタ法等により厚さ1000
〜2000ÅのITO薄膜２を形成する。このITO薄膜２が形成
されたソーダライムガラス基板１とITO薄膜が形成され
ていないソーダライムガラス基板３をITO薄膜２を内側
にして重ね合せて積層体４とする。この状態を第１図に
示す。このとき、重ね合せ面の間に異物、ほこり等が入
らないようにするため、両ガラス基板１、３を超音波洗
浄後乾燥し、クリーンブース内で重ね合せるようにす
る。また、ガラス基板１、３の重ね合せ面の間の空気を
追い出し、干渉縞が発生するまで両ガラス基板１、３を
確実に合せるようにする。
℃）（第１図）上に一般のスパッタ法等により厚さ1000
〜2000ÅのITO薄膜２を形成する。このITO薄膜２が形成
されたソーダライムガラス基板１とITO薄膜が形成され
ていないソーダライムガラス基板３をITO薄膜２を内側
にして重ね合せて積層体４とする。この状態を第１図に
示す。このとき、重ね合せ面の間に異物、ほこり等が入
らないようにするため、両ガラス基板１、３を超音波洗
浄後乾燥し、クリーンブース内で重ね合せるようにす
る。また、ガラス基板１、３の重ね合せ面の間の空気を
追い出し、干渉縞が発生するまで両ガラス基板１、３を
確実に合せるようにする。
本実施例１において用いられる成形方法の概略説明図を
第２図、第３図、及び第４図に示す。第２図は曲面液晶
セル用ガラス基板の成形前の状態を、第３図は成形後の
状態をそれぞれ示す断面図であり、第４図は重ね合せた
ガラス基板４を凹型成形型12に載置したときの状態を示
す平面図である。
第２図、第３図、及び第４図に示す。第２図は曲面液晶
セル用ガラス基板の成形前の状態を、第３図は成形後の
状態をそれぞれ示す断面図であり、第４図は重ね合せた
ガラス基板４を凹型成形型12に載置したときの状態を示
す平面図である。
加熱炉10には加熱ヒータ11が配設されている。この加熱
炉10内にはステンレスよりなる凹型成形型12が内設さ
れ、この成形型12の上面121は曲率半径1800mmの円筒状
の凹部122を形成している。この成形型12の上に前記重
ね合せたソーダライムガラス基板の積層体４を載置す
る。そしてさらに、この積層体４の上に凸型成形型13を
載置する。なお凸型成形型13は、前記凹型成形型の凹状
曲面と対応する凸状曲面をその下面に有する。この状態
で第１表に示す加熱温度で１時間加熱してソーダライム
ガラス基板１、３を軟化させ、成形型12、13の間で塑性
変形させて曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。な
お、成形型12、13は予め400℃に加熱しておいた。
炉10内にはステンレスよりなる凹型成形型12が内設さ
れ、この成形型12の上面121は曲率半径1800mmの円筒状
の凹部122を形成している。この成形型12の上に前記重
ね合せたソーダライムガラス基板の積層体４を載置す
る。そしてさらに、この積層体４の上に凸型成形型13を
載置する。なお凸型成形型13は、前記凹型成形型の凹状
曲面と対応する凸状曲面をその下面に有する。この状態
で第１表に示す加熱温度で１時間加熱してソーダライム
ガラス基板１、３を軟化させ、成形型12、13の間で塑性
変形させて曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。な
お、成形型12、13は予め400℃に加熱しておいた。
（実施例２） 本実施例２では、一方のガラス基板の一面上に形成する
セラミックス薄膜を、ITO薄膜とSiO2薄膜の複層とする
こと以外は、実施例１と同様の方法により曲面液晶セル
用ガラス基板を成形した。
セラミックス薄膜を、ITO薄膜とSiO2薄膜の複層とする
こと以外は、実施例１と同様の方法により曲面液晶セル
用ガラス基板を成形した。
上記ITO薄膜とSiO2薄膜は、まず実施例１と同様にスパ
ッタ法等によりITO薄膜を1000〜2000Åの厚さで形成
し、さらにその上からスパッタ法等によりSiO2薄膜を20
00Åの厚さで形成した。
ッタ法等によりITO薄膜を1000〜2000Åの厚さで形成
し、さらにその上からスパッタ法等によりSiO2薄膜を20
00Åの厚さで形成した。
（実施例３） 本実施例３では、両方のガラス基板の一面上にITO薄膜
をそれぞれ形成すること以外は、実施例１と同様の方法
により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
をそれぞれ形成すること以外は、実施例１と同様の方法
により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
（実施例４） 本実施例４では、一方のガラス基板の一面上にはITO薄
膜を、また他方のガラス基板の一面上にはITO薄膜とSiO
2薄膜の複層膜をそれぞれ形成すること以外は、実施例
１と同様の方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形
した。
膜を、また他方のガラス基板の一面上にはITO薄膜とSiO
2薄膜の複層膜をそれぞれ形成すること以外は、実施例
１と同様の方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形
した。
（実施例５） 本実施例５では、一方のガラス基板上に形成する（金属
薄膜）Pt膜をスパッタ法等で1000〜2000Åで形成するこ
と以外は実施例１と同様の方法により曲面液晶セル用ガ
ラス基板を成形した。
薄膜）Pt膜をスパッタ法等で1000〜2000Åで形成するこ
と以外は実施例１と同様の方法により曲面液晶セル用ガ
ラス基板を成形した。
（実施例６） 実施例６では、一方のガラス基板の一面上にITO薄膜
を、また他方のガラス基板の一面上にはPt薄膜をそれぞ
れ形成すること以外は実施例１と同様の方法により曲面
液晶セル用ガラス基板を成形した。
を、また他方のガラス基板の一面上にはPt薄膜をそれぞ
れ形成すること以外は実施例１と同様の方法により曲面
液晶セル用ガラス基板を成形した。
（比較例１） 本発明の比較例１として、薄膜が形成されていないソー
ダライムガラス基板を使用すること以外は実施例１と同
様の方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
ダライムガラス基板を使用すること以外は実施例１と同
様の方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
（実施例11） 本発明の実施例11として、簡単な湿式洗浄後、乾燥した
クリーンブース外で重ね合せた以外は実施例１と同様の
方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
クリーンブース外で重ね合せた以外は実施例１と同様の
方法により曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
（実施例７〜10） 本実施例７〜10は、ガラス基板として、ソーダライムガ
ラス基板の代りに硼珪酸ガラス基板を用いたことおよび
加熱温度を第２表に示す温度としたこと以外は、それぞ
れ前記実施例１〜４と同様の薄膜でかつ同様の方法によ
り曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
ラス基板の代りに硼珪酸ガラス基板を用いたことおよび
加熱温度を第２表に示す温度としたこと以外は、それぞ
れ前記実施例１〜４と同様の薄膜でかつ同様の方法によ
り曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
なお、使用した硼珪酸ガラス基板の軟化点は630℃あ
る。
る。
（比較例３） 比較例３として、セラミックス薄膜が形成されていない
硼珪酸ガラス基板を使用することおよび加熱温度を第２
表に示す温度としたこと以外は実施例１と同様の方法に
より曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
硼珪酸ガラス基板を使用することおよび加熱温度を第２
表に示す温度としたこと以外は実施例１と同様の方法に
より曲面液晶セル用ガラス基板を成形した。
（評価） 本発明の方法により成形した曲面ガラスの成形性を評価
するために、前記実施例１〜11及び比較例１、３におい
ては、加熱時間を１時間と一定にして、加熱温度をいろ
いろ変えてそれぞれのガラス基板の成形性を調べた。そ
の評価結果を第１表、及び第２表に示す。なお、表中、
×印はガラ スが溶融接着したとき、▲印は温度が低すぎて曲率がう
まくでなかったとき、及び○印は十分な成形性が得られ
たときをそれぞれ示す。
するために、前記実施例１〜11及び比較例１、３におい
ては、加熱時間を１時間と一定にして、加熱温度をいろ
いろ変えてそれぞれのガラス基板の成形性を調べた。そ
の評価結果を第１表、及び第２表に示す。なお、表中、
×印はガラ スが溶融接着したとき、▲印は温度が低すぎて曲率がう
まくでなかったとき、及び○印は十分な成形性が得られ
たときをそれぞれ示す。
第１表は、ガラス基板としてソーダライムガラス基板を
用いて成形した実施例１〜６、11及び比較例１について
の成形性評価結果である。使用したソーダライムガラス
の軟化点は530℃である。第１表からもわかるように、
本発明の成形方法により成形した実施例１〜６の曲面ガ
ラスは、いずれも広い温度範囲において良好な成形性が
得られた。すなわち成形されたガラス基板１、３の合性
は良く、ニュートン環が全面に広がっており、数本から
５本程度見られた。一方、比較例１においては、重なり
面がガラス基板同士であるため、550℃以上の加熱条件
ではガラスが溶融接着した。また、加熱条件を550℃以
下にしたときは、温度が低すぎて十分な成形性が得られ
なかった。また実施例11においては、成形性は実施例１
とほぼ同様だが、合わせたガラス面内にほこりが存在し
部分的な凹凸がみえる。
用いて成形した実施例１〜６、11及び比較例１について
の成形性評価結果である。使用したソーダライムガラス
の軟化点は530℃である。第１表からもわかるように、
本発明の成形方法により成形した実施例１〜６の曲面ガ
ラスは、いずれも広い温度範囲において良好な成形性が
得られた。すなわち成形されたガラス基板１、３の合性
は良く、ニュートン環が全面に広がっており、数本から
５本程度見られた。一方、比較例１においては、重なり
面がガラス基板同士であるため、550℃以上の加熱条件
ではガラスが溶融接着した。また、加熱条件を550℃以
下にしたときは、温度が低すぎて十分な成形性が得られ
なかった。また実施例11においては、成形性は実施例１
とほぼ同様だが、合わせたガラス面内にほこりが存在し
部分的な凹凸がみえる。
第２表は、ガラス基板として硼珪酸ガラス基板を用いて
成形した実施例７〜10、及び比較例３についての成形性
評価結果である。使用した硼珪酸ガラスの軟化点は630
℃である。第２表からもわかるように、本発明の成形方
法により成形した実施例７〜10の曲面ガラスは、いずれ
も広い温度範囲において良好な成形性が得られた。一
方、比較例３においては、重なり面がガラス基板同士で
あるため、640℃以上の加熱条件ではガラスが溶融接着
した。また、加熱条件を640℃以下にしたときは、温度
が低すぎて十分な成形性が得られなかった。
成形した実施例７〜10、及び比較例３についての成形性
評価結果である。使用した硼珪酸ガラスの軟化点は630
℃である。第２表からもわかるように、本発明の成形方
法により成形した実施例７〜10の曲面ガラスは、いずれ
も広い温度範囲において良好な成形性が得られた。一
方、比較例３においては、重なり面がガラス基板同士で
あるため、640℃以上の加熱条件ではガラスが溶融接着
した。また、加熱条件を640℃以下にしたときは、温度
が低すぎて十分な成形性が得られなかった。
また第１表及び第２表からもわかるように、重ね合せる
ガラス基板の両方に薄膜を形成したときの方が、一方の
みに形成したときよりも高温においての成形性が良いの
がわかる。
ガラス基板の両方に薄膜を形成したときの方が、一方の
みに形成したときよりも高温においての成形性が良いの
がわかる。
さらに、本発明により成形した実施例１〜10の曲面ガラ
ス基板を用いて、相転移型ゲストホストモードの液晶セ
ルを製作した。得られた液晶セルは均一でドメイン、色
ムラ等のない良好なものであった。
ス基板を用いて、相転移型ゲストホストモードの液晶セ
ルを製作した。得られた液晶セルは均一でドメイン、色
ムラ等のない良好なものであった。
また、本実施例により得られた曲面液晶用ガラス基板
は、その一面にセラミックス薄膜や金属薄膜が形成され
ていたとしても、該薄膜表面の平滑性が高いため、該薄
膜を除去することなく、そのまま曲面液晶セル用ガラス
基板として用いることができる。また、該薄膜をITO薄
膜やSiO2薄膜等のように透明薄膜とした場合には、成形
後に該透明薄膜を除去することなく、液晶セルの表示側
のガラス基板としてそのまま用いることができる。さら
に、該透明薄膜をITO薄膜とした場合には、透明導電膜
付きの曲面液晶ガラス基板を成形することができ、成形
後の透明導電膜の成膜工程を省くことができる。
は、その一面にセラミックス薄膜や金属薄膜が形成され
ていたとしても、該薄膜表面の平滑性が高いため、該薄
膜を除去することなく、そのまま曲面液晶セル用ガラス
基板として用いることができる。また、該薄膜をITO薄
膜やSiO2薄膜等のように透明薄膜とした場合には、成形
後に該透明薄膜を除去することなく、液晶セルの表示側
のガラス基板としてそのまま用いることができる。さら
に、該透明薄膜をITO薄膜とした場合には、透明導電膜
付きの曲面液晶ガラス基板を成形することができ、成形
後の透明導電膜の成膜工程を省くことができる。
［効果］ 本発明の曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法によれ
ば、少なくとも一方のガラス基板の一面上にセラミック
ス薄膜又は金属薄膜を形成するため、広い温度条件範囲
にわたってガラス基板同士が溶融接着するのを防ぐこと
ができる。このため、２枚のガラス基板を同時に変形加
工することが可能となり、同一曲面を有し、成形性の良
好な２枚のガラス基板を容易に成形することができる。
さらに、本発明で成形した曲面ガラスを用いれば、液晶
セルの基板間のセルギャップが均一でドメイン、色むら
等のない良質セルを製造することができる。
ば、少なくとも一方のガラス基板の一面上にセラミック
ス薄膜又は金属薄膜を形成するため、広い温度条件範囲
にわたってガラス基板同士が溶融接着するのを防ぐこと
ができる。このため、２枚のガラス基板を同時に変形加
工することが可能となり、同一曲面を有し、成形性の良
好な２枚のガラス基板を容易に成形することができる。
さらに、本発明で成形した曲面ガラスを用いれば、液晶
セルの基板間のセルギャップが均一でドメイン、色むら
等のない良質セルを製造することができる。
第１図は実施例１における２枚のガラス基板を重ね合せ
たときの断面図、第２図は実施例１の成形方法のうち曲
面ガラスの成形の加熱前を示す概略説明断面図、第３図
は第２図において加熱後の変化を示す概略説明断面図、
第４図はガラス基板を凹型成形型に載置したときの状態
を示す平面図である。 １、３……ガラス基板、２……ITO薄膜 10……加熱炉、11……ヒータ 12……凹型成形型、13……凸型成形型
たときの断面図、第２図は実施例１の成形方法のうち曲
面ガラスの成形の加熱前を示す概略説明断面図、第３図
は第２図において加熱後の変化を示す概略説明断面図、
第４図はガラス基板を凹型成形型に載置したときの状態
を示す平面図である。 １、３……ガラス基板、２……ITO薄膜 10……加熱炉、11……ヒータ 12……凹型成形型、13……凸型成形型
フロントページの続き (72)発明者 川村 卓巳 愛知県名古屋市名東区猪高町大字猪子石原 字新引山192番地 川村工業株式会社内 (72)発明者 竹中 博 愛知県名古屋市名東区猪高町大字猪子石原 字新引山192番地 川村工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−132736（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−28608（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−72548（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−149018（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−191616（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−30643（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】２枚のガラス基板のうちの少なくとも一方
のガラス基板の一面上に、該ガラス基板の軟化処理温度
で融着しないセラミックス又は金属からなり、該セラミ
ックス同士又は該金属同士が一体となった薄膜を形成
し、該薄膜を内側にして２枚の前記ガラス基板を重ね合
わせた後、型上にて前記ガラス基板の軟化処理温度に加
熱して２枚の前記ガラス基板を前記型上で同一曲面に成
形することを特徴とする曲面液晶セル用ガラス基板の成
形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63075618A JPH0786608B2 (ja) | 1988-03-29 | 1988-03-29 | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63075618A JPH0786608B2 (ja) | 1988-03-29 | 1988-03-29 | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01246521A JPH01246521A (ja) | 1989-10-02 |
| JPH0786608B2 true JPH0786608B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=13581377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63075618A Expired - Lifetime JPH0786608B2 (ja) | 1988-03-29 | 1988-03-29 | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786608B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
| US5769918A (en) * | 1996-10-24 | 1998-06-23 | Corning Incorporated | Method of preventing glass adherence |
| JP3772025B2 (ja) * | 1998-06-26 | 2006-05-10 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 液晶表示装置およびその製法 |
| KR100500715B1 (ko) * | 1998-06-26 | 2005-07-12 | 미츠비시덴키 가부시키가이샤 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5621734B2 (ja) * | 1972-07-12 | 1981-05-21 | ||
| JPS5957218A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-02 | Asahi Glass Co Ltd | 曲面セルの製法 |
| JPS6272548A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 合わせガラスの製造方法 |
| JPS62132736A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-16 | Asahi Glass Co Ltd | 自動車用調光ガラスの製造方法 |
-
1988
- 1988-03-29 JP JP63075618A patent/JPH0786608B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01246521A (ja) | 1989-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102433784B1 (ko) | 형상화된 유리 제품 및 동일한 것을 형성하는 방법 | |
| US10759147B2 (en) | Laminated glass article and method for forming the same | |
| CN108863031B (zh) | 弯曲基材的制造方法及弯曲基材 | |
| CN103443045B (zh) | 夹层玻璃及其制造方法 | |
| CN103619776B (zh) | 夹层玻璃的制造方法和夹层玻璃 | |
| US3208839A (en) | Method of shaping a glass article | |
| KR970000896B1 (ko) | 흠집이 없는 표면을 갖는 소석회유리의 제조방법 | |
| JP2018020958A (ja) | 成形型、成形装置、及び屈曲ガラスの製造方法 | |
| JPH0729791B2 (ja) | ガラス板の曲げ加工方法 | |
| JP7257330B2 (ja) | プロセス | |
| US5324373A (en) | Method of making a curved glass pane of laminated glass | |
| US3694299A (en) | Multiple glazed unit and method of manufacture | |
| KR0141907B1 (ko) | 액정표시(lcd)디바이스용 유리판넬의 제조방법 | |
| EP0593138B1 (en) | Method of heating glass sheet for laminated glass | |
| JPH0786608B2 (ja) | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 | |
| US20200325056A1 (en) | System and process for forming curved glass laminate article utilizing glass viscosity differential for improved shape matching | |
| JPH03122036A (ja) | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 | |
| JPH01242428A (ja) | ガラス製品の成形方法 | |
| JPH04102823A (ja) | 曲面液晶セル用ガラス基板の成形方法 | |
| US3810744A (en) | Method for making fused silica glass composites | |
| JPH04104122A (ja) | 曲面ガラス基板の成形型 | |
| US2357537A (en) | Process of bending glass sheets | |
| CN111499217A (zh) | 一种ito导电玻璃的制备方法 | |
| JPS62202828A (ja) | ガラス製品の成形方法 | |
| US20020116950A1 (en) | Heated ceramic female mold |