JP2696150B2 - キノリン誘導体 - Google Patents
キノリン誘導体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なキノリン誘導体に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明のキノリン誘導体は文献未載の新
規化合物である。
規化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は後記するよ
うに医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。
うに医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。
【０００４】
【問題点を解決するための手段】本発明によれば下記一
般式（１）で表わされるキノリン誘導体が提供される。
般式（１）で表わされるキノリン誘導体が提供される。
【０００５】
【化２】
【０００６】［式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は同一又は異な
って水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子又はニトロ基を、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異
なって水素原子、低級アルキル基、フェニル基、ハロゲ
ン置換フェニル基、フェニルチオ基、ヒドロキシル基、
シアノ基、低級アルコキシカルボニル基又はハロゲン原
子を、Ｒ6 は低級アルキル基をそれぞれ示す。］上記一
般式（１）中の各基としては具体的には夫々次の各基を
例示できる。即ち、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。低級ア
ルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等を例示できる。ハロゲン原子に
は弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が包含され
る。ハロゲン置換フェニル基としては、例えば４−クロ
ロフェニル、２−クロロフェニル、２，４−ジクロロフ
ェニル、３，４−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロ
フェニル、３，４，５−トリクロロフェニル、４−ブロ
モフェニル、３，４−ジブロモフェニル、４−フルオロ
フェニル、２−フルオロフェニル基等を例示できる。
って水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子又はニトロ基を、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異
なって水素原子、低級アルキル基、フェニル基、ハロゲ
ン置換フェニル基、フェニルチオ基、ヒドロキシル基、
シアノ基、低級アルコキシカルボニル基又はハロゲン原
子を、Ｒ6 は低級アルキル基をそれぞれ示す。］上記一
般式（１）中の各基としては具体的には夫々次の各基を
例示できる。即ち、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。低級ア
ルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等を例示できる。ハロゲン原子に
は弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が包含され
る。ハロゲン置換フェニル基としては、例えば４−クロ
ロフェニル、２−クロロフェニル、２，４−ジクロロフ
ェニル、３，４−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロ
フェニル、３，４，５−トリクロロフェニル、４−ブロ
モフェニル、３，４−ジブロモフェニル、４−フルオロ
フェニル、２−フルオロフェニル基等を例示できる。
【０００７】上記一般式（１）で表わされる本発明キノ
リン誘導体は、優れた脂質低下作用及び血糖低下作用を
有しており、高脂質血症治療剤や糖尿病治療剤として、
高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、高リン
脂質血症、高遊離脂肪酸血症等の各種疾患（高脂質血
症）の治療及び予防に、また糖尿病の治療及び予防に有
用である。
リン誘導体は、優れた脂質低下作用及び血糖低下作用を
有しており、高脂質血症治療剤や糖尿病治療剤として、
高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、高リン
脂質血症、高遊離脂肪酸血症等の各種疾患（高脂質血
症）の治療及び予防に、また糖尿病の治療及び予防に有
用である。
【０００８】本発明のキノリン誘導体は各種の方法によ
り製造できる。その具体例を下記反応工程式に示す。
り製造できる。その具体例を下記反応工程式に示す。
【０００９】
【化３】
【００１０】［各式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ6 は前記
に同じ。Ｒ4a及びＲ5aは同一又は異なって水素原子、低
級アルキル基、フェニルチオ基、ハロゲン原子、フェニ
ル基、ハロゲン置換フェニル基、シアノ基又は低級アル
コキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を示す。］該
反応工程式−１に示す２−（４−メチルフェニル）キノ
リン誘導体（３）のハロゲン化反応は、例えばベンゼ
ン、四塩化炭素等の不活性溶媒中、過酸化ベンゾイル、
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、tert−ブチ
ルハイドロパーオキシド等の触媒の存在下、Ｎ−ブロム
コハク酸イミド、Ｎ−クロルコハク酸イミド、臭素等の
ハロゲン化剤を用いて実施できる。ハロゲン化剤の使用
量は化合物（３）に対して通常等モル量〜約１．１倍モ
ル量程度とされ、反応は一般に約５０℃〜溶媒の沸点の
加熱条件下、約５〜２０時間程度を要して行ない得る。
に同じ。Ｒ4a及びＲ5aは同一又は異なって水素原子、低
級アルキル基、フェニルチオ基、ハロゲン原子、フェニ
ル基、ハロゲン置換フェニル基、シアノ基又は低級アル
コキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を示す。］該
反応工程式−１に示す２−（４−メチルフェニル）キノ
リン誘導体（３）のハロゲン化反応は、例えばベンゼ
ン、四塩化炭素等の不活性溶媒中、過酸化ベンゾイル、
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、tert−ブチ
ルハイドロパーオキシド等の触媒の存在下、Ｎ−ブロム
コハク酸イミド、Ｎ−クロルコハク酸イミド、臭素等の
ハロゲン化剤を用いて実施できる。ハロゲン化剤の使用
量は化合物（３）に対して通常等モル量〜約１．１倍モ
ル量程度とされ、反応は一般に約５０℃〜溶媒の沸点の
加熱条件下、約５〜２０時間程度を要して行ない得る。
【００１１】上記で得られるベンジルハライド誘導体
（２）とトリアルキルホスファイト（４）との反応は、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒、例えば低級アルコール
類、芳香族乃至脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）等の溶媒中又は無溶媒、好ましくは無溶媒
で行なわれる。化合物（４）の使用量は化合物（２）に
対して等モル量〜約５倍モル量程度とされ得る。反応温
度は約１３０〜１８０℃程度が好ましく、反応は化合物
（２）の種類により異なるが通常約０．５〜３時間程度
で終了し、かくして一般式（１ａ）で表わされる本発明
化合物を収得できる。
（２）とトリアルキルホスファイト（４）との反応は、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒、例えば低級アルコール
類、芳香族乃至脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）等の溶媒中又は無溶媒、好ましくは無溶媒
で行なわれる。化合物（４）の使用量は化合物（２）に
対して等モル量〜約５倍モル量程度とされ得る。反応温
度は約１３０〜１８０℃程度が好ましく、反応は化合物
（２）の種類により異なるが通常約０．５〜３時間程度
で終了し、かくして一般式（１ａ）で表わされる本発明
化合物を収得できる。
【００１２】上記反応工程式−１において原料として用
いる化合物（３）は、公知化合物及び新規化合物の両者
を包含し、之等は例えば下記反応工程式−２及び反応工
程式−３に示す方法により、それぞれ化合物（３ａ）並
びに化合物（３ｂ）及び化合物（３ｃ）として製造でき
る。
いる化合物（３）は、公知化合物及び新規化合物の両者
を包含し、之等は例えば下記反応工程式−２及び反応工
程式−３に示す方法により、それぞれ化合物（３ａ）並
びに化合物（３ｂ）及び化合物（３ｃ）として製造でき
る。
【００１３】
【化４】
【００１４】［各式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同
じ。Ｒ4b及びＲ5bはそれぞれ同一又は異なって水素原
子、低級アルキル基、フェニル基、ハロゲン置換フェニ
ル基、シアノ基又は低級アルコキシカルボニル基を示
す。］該反応工程式−２に示すアニリン誘導体（５）と
ケトン誘導体（６）との反応は、不活性溶媒中、酸触媒
の存在下、室温〜溶媒の還流温度条件下に、約５〜３０
時間を要して行ない得る。酸触媒としては例えばベンゼ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸等を使用
できる。不活性溶媒としては例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸等を使用でき
る。化合物（５）と化合物（６）との使用割合は特に限
定されないが、通常前者に対して後者を等モル量〜小過
剰量程度用いるのがよい。かくして、２−（４−メチル
フェニル）キノリン誘導体（３ａ）を収得できる。
じ。Ｒ4b及びＲ5bはそれぞれ同一又は異なって水素原
子、低級アルキル基、フェニル基、ハロゲン置換フェニ
ル基、シアノ基又は低級アルコキシカルボニル基を示
す。］該反応工程式−２に示すアニリン誘導体（５）と
ケトン誘導体（６）との反応は、不活性溶媒中、酸触媒
の存在下、室温〜溶媒の還流温度条件下に、約５〜３０
時間を要して行ない得る。酸触媒としては例えばベンゼ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸等を使用
できる。不活性溶媒としては例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸等を使用でき
る。化合物（５）と化合物（６）との使用割合は特に限
定されないが、通常前者に対して後者を等モル量〜小過
剰量程度用いるのがよい。かくして、２−（４−メチル
フェニル）キノリン誘導体（３ａ）を収得できる。
【００１５】
【化５】
【００１６】［各式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ5b及びＸは
前記に同じ。］該反応工程式−３に示す化合物（７）の
環化反応は、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジ
エチルエーテル、ベンゼン等の不活性溶媒中、水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムアミド等のアルカリを用いて該化合物（７）を
処理することにより実施される。上記アルカリの使用量
は、通常化合物（７）に対して２〜３倍モル量程度とす
るのがよく、反応は一般に溶媒の沸点温度程度の条件下
に４〜２４時間程度で完結する。
前記に同じ。］該反応工程式−３に示す化合物（７）の
環化反応は、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジ
エチルエーテル、ベンゼン等の不活性溶媒中、水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムアミド等のアルカリを用いて該化合物（７）を
処理することにより実施される。上記アルカリの使用量
は、通常化合物（７）に対して２〜３倍モル量程度とす
るのがよく、反応は一般に溶媒の沸点温度程度の条件下
に４〜２４時間程度で完結する。
【００１７】かくして得られる化合物（８）（互変異性
体（８′）を含む）は、続いてこれをハロゲン化反応さ
せることにより、その４位がハロゲン原子で置換された
２−（４−メチルフェニル）キノリン誘導体（３ｂ）に
変換できる。該ハロゲン化反応は、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在下に、五塩
化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン−オキシ塩化リ
ン、塩化チオニル等のハロゲン化剤を用いて実施され
る。尚、上記ハロゲン化剤は之等が溶媒をも兼ねるの
で、該反応では特に他の溶媒を用いる必要はないが、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性溶媒を用
いることもできる。脱酸剤の使用量は化合物（８）に対
して１〜２倍モル量程度とするのがよい。反応は室温〜
１００℃程度の温度条件下に、２〜４時間程度を要して
行ない得る。
体（８′）を含む）は、続いてこれをハロゲン化反応さ
せることにより、その４位がハロゲン原子で置換された
２−（４−メチルフェニル）キノリン誘導体（３ｂ）に
変換できる。該ハロゲン化反応は、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在下に、五塩
化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン−オキシ塩化リ
ン、塩化チオニル等のハロゲン化剤を用いて実施され
る。尚、上記ハロゲン化剤は之等が溶媒をも兼ねるの
で、該反応では特に他の溶媒を用いる必要はないが、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性溶媒を用
いることもできる。脱酸剤の使用量は化合物（８）に対
して１〜２倍モル量程度とするのがよい。反応は室温〜
１００℃程度の温度条件下に、２〜４時間程度を要して
行ない得る。
【００１８】更に、上記で得られる化合物（３ｂ）をチ
オフェノール（９）と反応させることにより、４位にフ
ェニルチオ基を有する２−（４−メチルフェニル）キノ
リン誘導体（３ｃ）を得ることができる。該反応は、Ｔ
ＨＦ、ジエチルエーテル、ベンゼン、ＤＭＦ等の不活性
溶媒中、水素化ナトリウム、水素化リチウム、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムアミド等のアルカリの存在下
に、ほぼ等モル量のチオフェノール（９）を用いて、約
０℃〜室温程度の温度下に、２４〜４８時間程度を要し
て行なわれる。
オフェノール（９）と反応させることにより、４位にフ
ェニルチオ基を有する２−（４−メチルフェニル）キノ
リン誘導体（３ｃ）を得ることができる。該反応は、Ｔ
ＨＦ、ジエチルエーテル、ベンゼン、ＤＭＦ等の不活性
溶媒中、水素化ナトリウム、水素化リチウム、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムアミド等のアルカリの存在下
に、ほぼ等モル量のチオフェノール（９）を用いて、約
０℃〜室温程度の温度下に、２４〜４８時間程度を要し
て行なわれる。
【００１９】また一般式（１ｂ）で表わされる本発明化
合物は、下記に示す方法によっても製造できる。
合物は、下記に示す方法によっても製造できる。
【００２０】
【化６】
【００２１】［各式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4b、Ｒ5b、
Ｒ6 及びＸは前記に同じ。］該反応工程式−４におい
て、化合物（６）のハロゲン化反応は、反応工程式−１
に示した化合物（３）のハロゲン化反応と同様にして実
施できる。
Ｒ6 及びＸは前記に同じ。］該反応工程式−４におい
て、化合物（６）のハロゲン化反応は、反応工程式−１
に示した化合物（３）のハロゲン化反応と同様にして実
施できる。
【００２２】得られるベンジルハライド誘導体（１０）
とトリアルキルホスファイト（４）との反応は、反応に
悪影響を与えない溶媒、例えば低級アルコール類、芳香
族乃至脂肪族炭化水素類、ＤＭＦ等の溶媒中又は無溶
媒、好ましくは無溶媒で実施できる。化合物（４）の使
用量は化合物（１０）に対して通常等モル量〜約５倍モ
ル量程度とされ、反応温度は約１３０〜１８０℃とされ
得、反応は用いる化合物（１０）の種類により異なる
が、一般に約０．５〜３時間程度で完結する。
とトリアルキルホスファイト（４）との反応は、反応に
悪影響を与えない溶媒、例えば低級アルコール類、芳香
族乃至脂肪族炭化水素類、ＤＭＦ等の溶媒中又は無溶
媒、好ましくは無溶媒で実施できる。化合物（４）の使
用量は化合物（１０）に対して通常等モル量〜約５倍モ
ル量程度とされ、反応温度は約１３０〜１８０℃とされ
得、反応は用いる化合物（１０）の種類により異なる
が、一般に約０．５〜３時間程度で完結する。
【００２３】上記で得られるケトン誘導体（１１）とア
ニリン誘導体（５）との反応は、不活性溶媒中、酸触媒
の存在下、室温〜溶媒の還流温度条件下に、約５〜３０
時間を要して行ない得る。酸触媒及び不活性溶媒として
は、前記反応工程式−２に示す反応に用いられるものと
同様のものを使用できる。化合物（１１）と化合物
（５）との使用割合は特に限定されないが、通常前者に
対して後者を等モル量〜小過剰量程度とするのがよい。
かくして本発明化合物（１ｂ）を収得できる。
ニリン誘導体（５）との反応は、不活性溶媒中、酸触媒
の存在下、室温〜溶媒の還流温度条件下に、約５〜３０
時間を要して行ない得る。酸触媒及び不活性溶媒として
は、前記反応工程式−２に示す反応に用いられるものと
同様のものを使用できる。化合物（１１）と化合物
（５）との使用割合は特に限定されないが、通常前者に
対して後者を等モル量〜小過剰量程度とするのがよい。
かくして本発明化合物（１ｂ）を収得できる。
【００２４】更に一般式（１ｃ）で表わされる本発明化
合物は、下記に示す方法によっても製造できる。
合物は、下記に示す方法によっても製造できる。
【００２５】
【化７】
【００２６】［各式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ5b及びＲ6
は前記に同じ。］即ち、反応工程式−５に示すように、
化合物（１２）の環化反応によって、本発明化合物（１
ｃ）を収得できる。該環化反応は、前記反応工程式−３
に示した化合物（７）のそれと同様の条件下に実施でき
る。また原料として用いられる化合物（１２）は、例え
ば特開昭６１−１５１１９９号公報に記載の方法により
得ることができる。
は前記に同じ。］即ち、反応工程式−５に示すように、
化合物（１２）の環化反応によって、本発明化合物（１
ｃ）を収得できる。該環化反応は、前記反応工程式−３
に示した化合物（７）のそれと同様の条件下に実施でき
る。また原料として用いられる化合物（１２）は、例え
ば特開昭６１−１５１１９９号公報に記載の方法により
得ることができる。
【００２７】尚、上記で得られる本発明化合物（１ｃ）
は、その互変異性体である一般式（１ｃ′）で表わされ
る構造の化合物として存在することもあり、本発明はか
かる化合物をも当然に包含する。
は、その互変異性体である一般式（１ｃ′）で表わされ
る構造の化合物として存在することもあり、本発明はか
かる化合物をも当然に包含する。
【００２８】上記各反応工程式に示した各工程における
目的化合物は、通常の分離手段により容易に単離精製で
きる。該手段としては例えば溶媒抽出、再結晶、吸着ク
ロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフ
ィー等を例示できる。
目的化合物は、通常の分離手段により容易に単離精製で
きる。該手段としては例えば溶媒抽出、再結晶、吸着ク
ロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフ
ィー等を例示できる。
【００２９】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため本発
明化合物の製造例を実施例として挙げる。
明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【００３０】
【実施例１】６−クロロ−２−（４−ジエトキシホスホ
リルメチルフェニル）−４−フェニルキノリンの製造 ６−クロロ−２−（４−メチルフェニル）−４−フェニ
ルキノリン４９．０ｇ（１４９ミリモル）、Ｎ−ブロモ
コハク酸イミド（ＮＢＳ）２９．１ｇ（１６３ミリモ
ル）及び過酸化ベンゾイル１．０ｇをベンゼン３００ｍ
ｌに懸濁させ、１５時間加熱還流した。反応混合物中に
水２００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層を水洗し、芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去
後、残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶
して、２−（４−ブロモメチルフェニル）−６−クロロ
−４−フェニルキノリンの無色結晶２４．０ｇを得た。
リルメチルフェニル）−４−フェニルキノリンの製造 ６−クロロ−２−（４−メチルフェニル）−４−フェニ
ルキノリン４９．０ｇ（１４９ミリモル）、Ｎ−ブロモ
コハク酸イミド（ＮＢＳ）２９．１ｇ（１６３ミリモ
ル）及び過酸化ベンゾイル１．０ｇをベンゼン３００ｍ
ｌに懸濁させ、１５時間加熱還流した。反応混合物中に
水２００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層を水洗し、芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去
後、残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶
して、２−（４−ブロモメチルフェニル）−６−クロロ
−４−フェニルキノリンの無色結晶２４．０ｇを得た。
【００３１】更に、該化合物１０．３ｇ（２５．３ミリ
モル）を亜リン酸トリエチル２０ｍｌ（１１７ミリモ
ル）に懸濁させ、１６０℃で１時間加熱攪拌した。過剰
の亜リン酸トリエチルを減圧留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エチル
＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。これを
ベンゼン−ｎ−ヘキサンより再結晶して、無色結晶７．
３ｇを得た。
モル）を亜リン酸トリエチル２０ｍｌ（１１７ミリモ
ル）に懸濁させ、１６０℃で１時間加熱攪拌した。過剰
の亜リン酸トリエチルを減圧留去後、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エチル
＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。これを
ベンゼン−ｎ−ヘキサンより再結晶して、無色結晶７．
３ｇを得た。
【００３２】融点１０２〜１０３℃
【００３３】
【実施例２】適当な原料を用い実施例１と同様にして、
第１表に示す化合物を得た。
第１表に示す化合物を得た。
【００３４】
【実施例３】２−（４−ジエトキシホスホリルメチルフ
ェニル）−４−フェニルキノリンの製造 ２−アミノベンゾフェノン１９７ｇ（１．０モル）と
４′−メチルアセトフェノン１３４ｇ（１．０モル）と
を酢酸６００ｍｌに溶解させ、これに濃硫酸１２ｍｌを
加えて２４時間加熱還流した。反応混合物中に水５００
ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去後、残渣をジエチルエ
ーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶して、２−（４−メチ
ルフェニル）−４−フェニルキノリンの無色結晶１６４
ｇを得た。
ェニル）−４−フェニルキノリンの製造 ２−アミノベンゾフェノン１９７ｇ（１．０モル）と
４′−メチルアセトフェノン１３４ｇ（１．０モル）と
を酢酸６００ｍｌに溶解させ、これに濃硫酸１２ｍｌを
加えて２４時間加熱還流した。反応混合物中に水５００
ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し、クロロホルム層を
芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去後、残渣をジエチルエ
ーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶して、２−（４−メチ
ルフェニル）−４−フェニルキノリンの無色結晶１６４
ｇを得た。
【００３５】上記化合物９３．０ｇ（０．３２モル）を
用いて、実施例１と同様にして表記化合物６０．０ｇを
得た。このものの構造及び性状（融点）を第１表に示
す。
用いて、実施例１と同様にして表記化合物６０．０ｇを
得た。このものの構造及び性状（融点）を第１表に示
す。
【００３６】尚、第１表には実施例１で得られた化合物
も示す。表中、性状の項には融点（℃）と再結晶溶媒を
示すか、油状の化合物では 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ；
内部標準＝ＴＭＳ）分析結果（δ値；ppm ）を示す。
も示す。表中、性状の項には融点（℃）と再結晶溶媒を
示すか、油状の化合物では 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ；
内部標準＝ＴＭＳ）分析結果（δ値；ppm ）を示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【実施例４】２−（４−ジエトキシホスホリルメチルフ
ェニル）−７−メチル−４−フェニルキノリンの製造 ４′−メチルアセトフェノン１３４ｇ（０．１モル）、
Ｎ−ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）１８０ｇ（１．０
モル）及び過酸化ベンゾイル１．０ｇをベンゼン３００
ｍｌに懸濁させ、２０時間加熱還流した。反応混合物中
に水４００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し、クロロ
ホルム層を水洗し、芒硝上で乾燥した。溶媒を減圧留去
して、４′−ブロモメチルアセトフェノンの粗生成物１
８７ｇを得た。該粗生成物１８７ｇを亜リン酸トリエチ
ル３００ｍｌに懸濁させ、１６０℃で１時間加熱攪拌し
た。過剰の亜リン酸トリエチルを減圧留去後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢
酸エチル＝１：２で溶出）に付して、油状の４′−ジエ
トキシホスホリルメチルアセトフェノン９３ｇを得た。
ェニル）−７−メチル−４−フェニルキノリンの製造 ４′−メチルアセトフェノン１３４ｇ（０．１モル）、
Ｎ−ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）１８０ｇ（１．０
モル）及び過酸化ベンゾイル１．０ｇをベンゼン３００
ｍｌに懸濁させ、２０時間加熱還流した。反応混合物中
に水４００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し、クロロ
ホルム層を水洗し、芒硝上で乾燥した。溶媒を減圧留去
して、４′−ブロモメチルアセトフェノンの粗生成物１
８７ｇを得た。該粗生成物１８７ｇを亜リン酸トリエチ
ル３００ｍｌに懸濁させ、１６０℃で１時間加熱攪拌し
た。過剰の亜リン酸トリエチルを減圧留去後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢
酸エチル＝１：２で溶出）に付して、油状の４′−ジエ
トキシホスホリルメチルアセトフェノン９３ｇを得た。
【００３９】次に、上記で得た化合物２．７０ｇ（１０
ミリモル）と２−アミノ−４−メチルベンゾフェノン
２．１１ｇ（１０ミリモル）を酢酸５０ｍｌに溶解さ
せ、これに濃硫酸１ｍｌを加えて２４時間加熱還流し
た。反応混合物中に水５０ｍｌを加え、クロロホルム抽
出し、芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸
エチル＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。
これをジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶し
て、無色結晶１．９９ｇを得た。このものの構造及び性
状（融点）を第２表に示す。
ミリモル）と２−アミノ−４−メチルベンゾフェノン
２．１１ｇ（１０ミリモル）を酢酸５０ｍｌに溶解さ
せ、これに濃硫酸１ｍｌを加えて２４時間加熱還流し
た。反応混合物中に水５０ｍｌを加え、クロロホルム抽
出し、芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸
エチル＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。
これをジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結晶し
て、無色結晶１．９９ｇを得た。このものの構造及び性
状（融点）を第２表に示す。
【００４０】
【実施例５〜１５】適当な原料を用い実施例４と同様に
して第２表に示す各化合物を得た。尚、第２表における
各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
して第２表に示す各化合物を得た。尚、第２表における
各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
【００４３】
【実施例１６〜１９】適当な原料を用い実施例１と同様
にして第３表に示す各化合物を得た。尚、第３表におけ
る各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
にして第３表に示す各化合物を得た。尚、第３表におけ
る各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
【００４４】
【表４】
【００４５】
【実施例２０】２−（４−ジエトキシホスホリルメチル
フェニル）−４−キノリノールの製造 ４−ジエトキシホスホリルメチル−Ｎ−（２−アセチル
フェニル）−ベンズアミド３．９ｇをベンゼン５０ｍｌ
に溶解し、これに６０％水素化ナトリウム１．２ｇを加
え、４時間還流した。反応終了後、反応混合物に水２０
ｍｌ及び希塩酸２０ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し
た。芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エ
チル＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。こ
れをクロロホルム−ｎ−ヘキサンより再結晶して、無色
結晶１．１ｇを得た。このものの構造及び性状（融点）
を第４表に示す。
フェニル）−４−キノリノールの製造 ４−ジエトキシホスホリルメチル−Ｎ−（２−アセチル
フェニル）−ベンズアミド３．９ｇをベンゼン５０ｍｌ
に溶解し、これに６０％水素化ナトリウム１．２ｇを加
え、４時間還流した。反応終了後、反応混合物に水２０
ｍｌ及び希塩酸２０ｍｌを加え、クロロホルムで抽出し
た。芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エ
チル＝１：１で溶出）に付して、表記化合物を得た。こ
れをクロロホルム−ｎ−ヘキサンより再結晶して、無色
結晶１．１ｇを得た。このものの構造及び性状（融点）
を第４表に示す。
【００４６】
【実施例２１及び２２】適当な原料を用い実施例２０と
同様にして第４表に示す各化合物を得た。尚、第４表に
おける各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
同様にして第４表に示す各化合物を得た。尚、第４表に
おける各項の記載方法は第１表のそれと同様とした。
【００４７】
【表５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上坂 英二 鳴門市鳴門町高島字中島169−１ (72)発明者 井上 泰秀 鳴門市大津町矢倉字参の越35 矢倉市営 Ｃ−15
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は同一又は異なって水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
又はニトロ基を、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって水素
原子、低級アルキル基、フェニル基、ハロゲン置換フェ
ニル基、フェニルチオ基、ヒドロキシル基、シアノ基、
低級アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ｒ6
は低級アルキル基をそれぞれ示す。］で表わされるキノ
リン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1318692A JP2696150B2 (ja) | 1991-02-05 | 1992-01-28 | キノリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10218491 | 1991-02-05 | ||
| JP3-102184 | 1991-02-05 | ||
| JP1318692A JP2696150B2 (ja) | 1991-02-05 | 1992-01-28 | キノリン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543589A JPH0543589A (ja) | 1993-02-23 |
| JP2696150B2 true JP2696150B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=26348948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1318692A Expired - Lifetime JP2696150B2 (ja) | 1991-02-05 | 1992-01-28 | キノリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696150B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE196145T1 (de) * | 1993-06-17 | 2000-09-15 | Otsuka Pharma Co Ltd | Phosphonsäurediesterderivate |
| CA2147375C (en) * | 1993-08-20 | 2003-02-11 | Kazuyoshi Miyata | Phosphonic diester derivatives |
| CN1066739C (zh) * | 1994-03-08 | 2001-06-06 | 株式会社大塚制药工场 | 膦酸二酯衍生物 |
| JP3533542B2 (ja) * | 1994-03-08 | 2004-05-31 | 株式会社大塚製薬工場 | ホスホン酸ジエステル誘導体 |
| US20040186077A1 (en) * | 2003-03-17 | 2004-09-23 | Medicure International Inc. | Novel heteroaryl phosphonates as cardioprotective agents |
| AR047329A1 (es) | 2003-12-12 | 2006-01-18 | Wyeth Corp | Derivados de quinolinas para el tratamiento de enfermedades cardiovasculares. composiciones farmaceuticas |
-
1992
- 1992-01-28 JP JP1318692A patent/JP2696150B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0543589A (ja) | 1993-02-23 |
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