JP2684761B2 - 安定化されたスチレン―ブタジエンブロック共重合体組成物 - Google Patents

安定化されたスチレン―ブタジエンブロック共重合体組成物

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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、スチレン−ブタジエンブロック共重合体組
成物に関する。さらに詳しくは、 高温成形時の耐熱加工安定性と耐熱変着色性、およ
び 使用時の耐NOx変色性、耐γ線変色性、耐湿熱変着
色性 に優れたスチレン−ブタジエンブロック共重合体組成物
に関する。
〈従来の技術〉 スチレンとブタジエンとの重量比が60:40〜95:5であ
るスチレン−ブタジエンブロック共重合体は、透明性お
よび耐衝撃性に優れることから、押出成形、ブロー成
形、射出成形などにより成形され、食品包装容器分野を
中心にその用途が拡大しつつある。しかし、スチレン−
ブタジエンブロック共重合体は成形加工時に熱による劣
化を受けやすく、架橋やゲル化反応を起こして成形加工
時の流動性が低下したり、フィッシュアイゲルや光沢低
下などにより外観特性が悪化する等の問題がある。
そこで、成形加工時の熱安定性と色調を改善するた
め、スチレン−ブタジエンブロック共重合体に、 下記一般式〔I〕で示されるフェノール系化合物、
および 下記一般式〔II〕〜〔V〕で示される化合物から選
ばれた少なくとも1種のフェノール系化合物 を配合する方法が提案されている(特開昭63−27551号
公報)。
(上記〔I〕式において、R1は炭素数1〜4のアルキル
基、R2は炭素数2〜4のアルケニル基、R3はtert−ブチ
ル基またはシクロヘキシル基と規定されており、また上
記〔II〕〜〔V〕式において、R4R5は炭素数2〜22のアルキル基と規定されている。) 〈発明が解決しようとする課題〉 この公報に記載された発明は、それ以前の安定化技術
に比べれば相当の改善が認められるものの、未だ充分満
足し得るものではない。この公報で最も好ましいとされ
ているのは、化合物〔I〕〜〔V〕としてそれぞれ、 〔I〕2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−5−メ
チル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニル
アクリレート、 〔II〕オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、 〔III〕ペンタエリスリチル テトラキス〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート〕、 〔IV〕1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、 〔V〕2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−
トリアジン を用いたものであり、実施例では、上記具体的化合物
〔I〕と具体的化合物〔II〕〜〔V〕の1種または2種
とを併用している。しかし、これら併用系のいずれにお
いても、 生産性向上を狙った高温成形加工では、耐熱加工安
定性および耐熱変着色性が不充分であったり、 γ線殺菌を必要とする医療用器具の包装分野では、
γ線処理により変色が起こったり、さらには、 使用時には、耐NOx変着色性や耐湿熱変着色性が不
充分である という問題が残されており、さらなる改善が求められて
いた。
〈課題を解決するための手段〉 そこで本発明者らは、これら不充分な点をさらに改善
するために鋭意検討を重ねた結果、本発明に至った。
すなわち本発明は、スチレンとブタジエンとの重量比
が60:40〜95:5であるスチレン−ブタジエンブロック共
重合体に、 (A) 2−t−アミル−6−〔1−(3,5−ジ−t−
アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル〕−4−t−
アミルフェニル アクリレートおよび (B) リン系酸化防止剤 を配合してなるスチレン−ブタジエンブロック共重合体
組成物を提供するものである。本発明によれば、 高温成形時の耐熱加工安定性と耐熱変着色性、 使用時の耐NOx変着色性と耐湿熱変色性、さらには γ線処理時の耐γ線変着色性 に優れたスチレン−ブタジエンブロック共重合体組成物
が提供される。
上記(A)の2−t−アミル−6−〔1−(3,5−ジ
−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル〕−4
−t−アミルフェニルアクリレートは、スチレン−ブタ
ジエンブロック共重合体100重量部に対し、0.01〜1重
量部の範囲で用いるのが好ましい。その配合量が0.01重
量部未満では上記効果が充分でなく、また1重量部を越
えるとブリードの原因になる。
(B)のリン系酸化防止剤としては、特に限定される
ものではないが、例えば、 トリス(ノニルフェニル) ホスファイト、 トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイ
ト、 テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル) 4,4′
−ビフェニレン ジホスフォナイト、 ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリス
リトール ジホスファイト、 ジステアリル ペンタエリスリトール ジホスファイ
ト などが挙げられる。これらのなかでも、 トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイ
ト が好ましい。
リン系酸化防止剤の添加量は、スチレン−ブタジエン
ブロック共重合体100重量部に対し、0.01〜1重量部の
範囲が好ましい。その配合量が0.01重量部未満では上記
効果が充分でなく、また1重量部を越えるとブリードの
原因になる。
本発明におけるスチレン−ブタジエンブロック共重合
体は、必要に応じてさらに他の重合体、例えばポリスチ
レン(GP−PS)、耐衝撃性ポリスチレン(HI−PS)、低
密度ポリエチレン(LDPE)、高密度ポリエチレン(HDP
E)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピ
レン(PP)などとブレンドしてもよい。
また本発明では、必要に応じてさらに他の添加剤、例
えば他のフェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止
剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、滑
剤、顔料および無機充填剤などを配合してもよい。これ
ら添加剤の具体例を挙げると次のようなものがある。
フェノール系酸化防止剤としては、 オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート、 トリエチレングリコール ビス〔3−(3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネ
ート〕、 3,9−ビス〔2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−
1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピ
ロ〔5・5〕ウンデカン、 ペンタエリスリチル テトラキス〔3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕、 トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル) イソシアヌレート、 1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、 2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリ
アジン、 1,6−ヘキサンジオール ビス〔3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、 2,2′−チオ−ジエチレン ビス〔3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕、 トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル) イソシアヌレート, などが挙げられる。特にスチレン−ブタジエンブロック
共重合体の重合後に高濃度溶液で添加する場合は、上記
フェノール系酸化防止剤のなかでも、シクロヘキサンや
n−ヘキサンなどの重合溶媒に溶けやすい オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート〕 がハンドリング上有利であり、好ましい。
紫外線吸収剤としては、 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、 2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、 2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、 ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキ
シフェニル)メタン、 2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、 2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、 2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒド
ロフタルイミドメチル)−5−メチルフェニル〕ベンゾ
トリアゾール、 2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、 2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−アルミ−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチ
ルベンジル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、 2,2′−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−4−(1,1,3,3,−テトラメチルブチ
ル)フェノール〕、 ポリ(3〜11)(エチレングリコール)とメチル3−
〔3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕プロピオネートと
の縮合物、 2−エチルヘキシル 3−〔3−t−ブチル−5−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
4−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、 オクチル 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ
−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキ
シフェニル〕プロピオネート、 メチル 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ−
2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ
フェニル〕プロピオネート、 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニ
ル〕プロピオン酸、 2,2′−メチレンビス〔4−t−ブチル−6−(2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール〕 などが挙げられる。
ヒンダードアミン系光安定剤としては、 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
セバケート、 ジメチル サクシネートと 1−(2−ヒドロキシエ
チル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジンとの重縮合物、 ポリ〔(6−モルホリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−
ジイル){(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)イミノ}〕、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)
2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−2−ブチルマロネート、 4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)ピロピオニルオキシ〕−1−〔2−{3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオニルオキシ}エチル〕−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジン)
デカンジオエート、 テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミ
ノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレ
ン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミ
ノ}〕、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノ
ールとの混合エステル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノー
ルとの混合エステル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2
−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テ
トラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンとの混合エステ
ル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−
ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンとの混合エステル
化物、 N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと 1,2−ジブロモエタン
との重縮合物、 2−メチル−2−(2,2,6,6−テトメチル−4−ピペ
リジルアミノ)−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)プロピオンアミド、 N,N′,4,7−テトラキス〔4,6−ビス{N−ブチル−N
−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミ
ノ}−1,3,5−トリアジン−2−イル〕−4,7−ジアザデ
カン−1,10−ジアミン、 N,N′,4−トリス〔4,6−ビス{N−ブチル−N−(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ}−1,
3,5−トリアジン−2−イル〕−4,7−ジアザデカン−1,
10−ジアミン、 ビス(1−アクリロイル−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)マロネート、 N,N′,4,7−テトラキス〔4,6−ビス{N−ブチル−N
−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミ
ノ}−1,3,5−トリアジン−2−イル〕−4,7−ジアザデ
カン−1,10−ジアミン、 N,N′,4−トリス〔4,6−ビス{N−ブチル−N−(1,
2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ}−
1,3,5−トリアジン−2−イル〕−4,7−ジアザデカン−
1,10−ジアミン、 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
サクシネート、 2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル メタクリ
レート、 1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル メタク
リレート、 テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート などが挙げられる。
イオウ系酸化防止剤としては、 ジラウリル 3,3′−チオジプロピオネート、 ジミリスチル 3,3′−チオジプロピオネート、 ジステアリル 3,3′−チオジプロピオネート、 ペンタエリスリチル テトラキス(β−ラウリルチオ
プロピオネート) などが挙げられる。
〈実 施 例〉 つぎに、本発明を実施例により詳細に説明するが、本
発明はこれらによって限定されるものではない。
実施例1 スチレン−ブタジエンブロック共重合体として、アサ
フレックス810〔旭化成工業(株)〕をn−ヘキサン:
イソプロパノール=4:1の液で処理して、既に添加され
ている酸化防止剤等を抽出した後、風乾したものを用い
た。
また、配合するフェノール系化合物およびリン系酸化
防止剤としてそれぞれの次の化合物を用いた。
AO−1:2−t−アミル−6−〔1−(3,5−ジ−t−アミ
ル−2−ヒドロキシフェニル)エチル〕−4−t−アミ
ルフェニル アクリレート AO−2:2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニル
アクリレート AO−3:オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート AO−4:ペンタエリスリチル テトラキス〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート〕 AO−5:1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン AO−6:2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−
トリアジン P−1: トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル) ホ
スファイト P−2: テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
4,4′−ビフェニレン ジホスフォナイト P−3: トリス(ノニルフェニル) ホスファイト P−4: ジステアリル ペンタエリスリトール ジホス
ファイト これらの化合物を、上記スチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体に対し、それぞれ表−1に示した量でドライ
ブレンドした後、口径30mmの単軸押出機により200℃で
溶融混練し、ペレタイズした。得られたペレットについ
て次の試験を行い、その結果を表−1に示した。
耐熱加工安定性(MI滞留): メルトインデクサ−〔宝工業(株)〕を用い、250℃
で30分間滞留後の流動性(g/10min)で評価した。スチ
レン−ブタジエンブロック共重合体は熱により架橋し、
流動性が低下するため、メルトフローレートの高いもの
ほど高温加工安定性に優れることを意味する。
耐熱変着色度: 口径30mmの単軸押出機により、250℃で5回繰り返し
押出を行い、1回目と5回目に得られたペレットをそれ
ぞれさらに1オンス射出成形機により220℃で成形し、1
mm厚の平板とした。繰り返し押出回数1回目と5回目の
ペレットから得られた各平板のYI値をそれぞれ測定し、
その差ΔYIで耐熱変着色度を評価した。ΔYIの値が小さ
いものほど耐熱変着色性に優れていることを意味する。
耐NOx変着色度: 1オンス射出成形機により、220℃で上記ペレットを
成形して1mm厚の平板とし、得られた平板を、1%NOxガ
スに25℃で120分間曝露した。そして曝露前後の各平板
のYI値を測定し、その差ΔYIにより、耐NOx変着色度を
評価した。ΔYIの値が小さいものほど耐NOx変着色性に
優れていることを意味する。
耐γ線変着色度: 1オンス射出成形機により、220℃で上記ペレットを
成形して1mm厚の平板とした。得られた平板に、コバル
ト60のγ線照射装置を用いて5.0Mrad照射し、照射前後
の各平板のYI値を測定して、その差ΔYIにより、耐γ線
変着色性を評価した。γYIの値が小さいほど耐γ線変着
色性に優れていることを意味する。
耐湿熱変着色度: 30mm押出機を用い、230℃の押出温度で上記ペレット
をシート状に押し出し、テンターにより延伸温度100℃
で横方向に5倍延伸して、厚さ50μmのフィルムを得
た。このフィルムを、恒温恒湿槽中、温度60℃、相対湿
度90%で1ケ月間エージングした後、フィルム10枚を重
ね合わせてYI値を測定した。そして、エージング前の重
ね合わせフィルムのYI値とエージング後の重ね合わせフ
ィルムのYIとの差ΔYIを算出し、耐湿熱変色性を評価し
た。ΔYIの値が小さいほど耐湿熱変着色性に優れている
ことを意味する。
〈発明の効果〉 本発明の重合体組成物は、 高温成形時の耐熱加工安定性および耐熱変着色性、 使用時の耐NOx変着色性および耐湿熱変着色性、さ
らには、 γ線処理時の耐γ線変着色性 に優れる。そのためこれらの特徴を生かして、例えば食
品包装分野、化粧品容器の透明キャップ、医療用器具の
包装分野、壜類などのラベルをはじめ、各種分野の用途
に利用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 喜久光 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番 98号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 田中 慎哉 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番 98号 住友化学工業株式会社内

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スチレンとブタジエンとの重量比が60:40
    〜95:5であるスチレン−ブタジエンブロック共重合体
    に、 (A)2−t−アミル−6−〔1−(3,5−ジ−t−ア
    ミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル〕−4−t−ア
    ミルフェニル アクリレートおよび (B)リン系酸化防止剤 を配合してなることを特徴とする安定化されたスチレン
    −ブタジエンブロック共重合体組成物。
  2. 【請求項2】リン系酸化防止剤が、トリス(2,4−ジ−
    t−ブチルフェニル) ホスファイト である請求項1
    記載のスチレン−ブタジエンブロック共重合体組成物。
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