JP2848024B2 - ポリオレフィン樹脂の耐放射線性を改良する方法 - Google Patents
ポリオレフィン樹脂の耐放射線性を改良する方法Info
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Description
放射線照射による変色を抑制するとともに、放射線照射
後の耐熱安定性を満足させる方法に関するものである。
らなる成形品を医療器具、食品包装材などに使用する場
合、殺菌を目的としてγ線や電子線などの放射線を照射
することが行われるようになってきている。しかしなが
らポリオレフィンは、放射線により分子鎖が切断されや
すく、通常殺菌線量の目安とされる25キログレイ程度
の放射線照射によっても劣化を起こして、耐熱安定性が
低下したり、また一般に酸化防止剤その他の目的で加え
られている各種安定剤や改質剤などの添加剤類が変質す
ることにより、著しい変色が起こるといった問題を有し
ている。
に、従来から各種の提案がなされている。例えば、ヒン
ダードアミン系化合物および1,3,5−トリス(3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチル−4−アルキルベンジ
ル) イソシアヌレートを配合したポリプロピレン樹脂
組成物が、特公昭 62-35413 号公報に開示されている。
また、ヒンダードアミン系化合物およびリン系化合物を
配合したポリオレフィン樹脂組成物が、特公昭 63-2989
2 号公報、特開平 2-153953 号公報および特開平2-1539
54号公報に開示されている。さらには、リン系化合物、
ヒンダードアミン系化合物およびフェニルエーテル系化
合物を配合したポリオレフィン樹脂組成物が、特開昭 6
3-61038 号公報に開示されている。
れぞれ耐放射線性を改善する効果は認められるものの、
放射線照射後の耐熱安定性および耐変色性を同時に満足
できる水準とは言いがたく、耐放射線性のさらに一層の
改善が望まれていた。
の放射線照射による変色が抑制できるとともに、放射線
照射後の耐熱安定性をも満足させることができる方法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、ポリオレフィン樹脂に特
定の化合物を配合することにより、耐放射線性が著しく
改良できることを見出し、本発明に至った。
オレフィン樹脂100重量部に対して、3,9−ビス
〔2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメ
チルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5.5〕ウンデカンを 0.001〜1重量部配合すること
を特徴とするポリオレフィン樹脂の耐放射線性を改良す
る方法を提供する。
(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル〕
−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウ
ンデカンは次式で示され、以下この化合物をフェノール
系化合物と略称することがある。
は、ポリオレフィン樹脂の放射線照射後の耐熱安定性お
よび耐変色性を同時に満足させるために、ポリオレフィ
ン樹脂100重量部あたり 0.001〜1重量部配合され
る。フェノール系化合物の量が少なすぎると、放射線照
射後の耐熱安定性の点で不十分となり、またその量が多
すぎても、それに見合うだけの効果の向上が期待でき
ず、経済的に不利になるとともに、変色性も大きくな
る。。このフェノール系化合物は、好ましくはポリオレ
フィン樹脂100重量部あたり 0.01 〜 0.5重量部の範
囲で使用される。
剤、例えば、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、
紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、滑剤、顔
料、可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、無機充填剤、造核剤
などを配合してもよい。
ことによって、ポリオレフィン樹脂の耐熱性、特に放射
線照射後の耐熱安定性をさらに改良することができる。
イオウ系酸化防止剤を併用する場合は、ポリオレフィン
樹脂100重量部あたり、0.001 〜1重量部程度の範囲
で使用される。併用できる好ましいイオウ系酸化防止剤
としては、例えば次のようなものが挙げられる。
ロピオネート)。
って、ポリオレフィン樹脂の色相、特に放射線照射後の
色相をさらに改良することができる。リン系酸化防止剤
を併用する場合は、ポリオレフィン樹脂100重量部あ
たり、 0.001〜1重量部程度の範囲で使用される。併用
できる好ましいリン系酸化防止剤としては、例えば次の
ようなものが挙げられる。
ト、 ジステアリル ペンタエリスリトール ジフォスファイ
ト、 トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル) フォスフ
ァイト、 ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル) ペンタエリ
スリトール ジフォスファイト、 テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル) 4,
4′−ビフェニレンジフォスフォナイト、 ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)
ペンタエリスリトールジフォ スファイト、 2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェ
ニル) オクチル フォスファイト、 テトラトリデシル 4,4′−ブチリデンビス(3−メ
チル−6−t−ブチルフェニル) ジフォスファイト、 2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフ
ェニル) フルオロフォスファイト、 ビス(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル) ペン
タエリスリトール ジフォスファイト。
ードアミン系光安定剤を併用することによって、ポリオ
レフィン樹脂の耐光性を改良することができる。紫外線
吸収剤および/またはヒンダードアミン系光安定剤を併
用する場合は、ポリオレフィン樹脂100重量部あた
り、 0.001〜1重量部程度の範囲で使用される。
は、例えば次のようなものが挙げられる。 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、 2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、 2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、 ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシ
フェニル)メタン、 2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、 2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、 2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラ
ヒドロフタルイミドメチル)−5−メチルフェニル〕ベ
ンゾトリアゾール、 2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、 2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチ
ルベンジル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、 2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、 2,2′−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル)フェノール〕、 ポリ(3〜11)(エチレングリコール)と メチル
3−〔3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル〕プロピオネ
ートとの縮合物、 2−エチルヘキシル 3−〔3−t−ブチル−5−(5
−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4
−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、 オクチル 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ−
2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキ
シフェニル〕プロピオネート、 メチル 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ
フェニル〕プロピオネート、 3−〔3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニ
ル〕プロピオン酸、 2,2′−メチレンビス〔4−t−ブチル−6−(2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール〕。
ン系光安定剤としては、例えば次のようなものが挙げら
れる。 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル) セバケート、 ジメチル サクシネートと 1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンとの重縮合物、 ポリ〔(6−モルホリノ−1,3,5−トリアジン−
2,4−ジイル){(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル) 2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)−2−ブチルマロネート、 4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシ〕−1−〔2−{3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ}エチル〕−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル) デカンジオエート、 テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレ
ート、 ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}
{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)イミノ}〕、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび
1−トリデカノールとの混合エステル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび1−
トリデカノールとの混合エステル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび
3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.
5〕ウンデカンとの混合エステル化物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と 2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび3,
9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)
−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウ
ンデカンとの混合エステル化物、 N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと 1,2−ジブ
ロモエタンとの重縮合物、 2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、 N,N′,4,7−テトラキス〔4,6−ビス{N−ブ
チル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)アミノ}−1,3,5−トリアジン−2−イ
ル〕−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 N,N′,4−トリス〔4,6−ビス{N−ブチル−N
−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
アミノ}−1,3,5−トリアジン−2−イル〕−4,
7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 ビス(1−アクリロイル−2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、 N,N′,4,7−テトラキス〔4,6−ビス{N−ブ
チル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
ピペリジル)アミノ}−1,3,5−トリアジン−2−
イル〕−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 N,N′,4−トリス〔4,6−ビス{N−ブチル−N
−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)アミノ}−1,3,5−トリアジン−2−イル〕−
4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル) サクシネート、 2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル メタ
クリレート、 1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル
メタクリレート、 テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
ピペリジル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、 ポリ〔メチル 3−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジルオキシ)プロピルシロキサン〕。
は、エチレン、プロピレン、ブテン−1、イソブテン、
3−メチルブテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペン
テン−1などのα−オレフィンの単独重合体、あるいは
2種以上のα−オレフィンから得られるランダムまたは
ブロック共重合体である。具体的には、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリブテン−1、ポリイソブテン、ポ
リ−3−メチルブテン−1、ポリヘキセン−1、ポリ−
4−メチルペンテン−1、エチレン/プロピレン共重合
体、エチレン/ブテン−1共重合体、エチレン/4−メ
チルペンテン−1共重合体、プロピレン/ブテン−1共
重合体、プロピレン/4−メチルペンテン−1共重合
体、エチレン/プロピレン/ブテン−1共重合体などが
例示される。これらのなかでも、特にポリプロピレンが
好ましく用いられる。
ェノール系化合物、あるいはさらにその他の成分を配合
する方法は、特に限定されるものでなく、ポリオレフィ
ン樹脂中に安定剤、顔料、充填剤などを混和、配合する
方法として一般的に採用されている装置および操作法
を、ほとんどそのまま適用することができる。本発明に
従ってフェノール系化合物、あるいはさらにその他の成
分を配合したポリオレフィン樹脂は、通常の方法によ
り、注射器、ピンセット、採血器具などをはじめとする
医療用器具、さらには食品包装用のフィルムや容器な
ど、放射線照射を受ける製品に成形して使用される。
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものでない。なお例中にある「部」は、特にことわらな
いかぎり重量基準である。
であり、以下それぞれの記号で表示する。 A−1: 3,9−ビス〔2−{3−(3−t−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニル
オキシ}−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン A−2: 1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル) イソシアヌ
レート A−3: テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン S−1: ジミリスチル 3,3′−チオジプロピオネ
ート S−2: ペンタエリスリチル テトラキス(3−ラウ
リルチオプロピオネート) P−1: 2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−t
−ブチルフェニル)フルオロフォスファイト P−2: トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
フォスファイト H−1: ジメチル サクシネートと 1−(2−ヒド
ロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジンとの重縮合物
と、30mm押出機を用いて230℃で押出し、ペレット
化した。このペレットから、5.5 オンス射出成形機を用
いて240℃で成形し、40×40×1mmの試験片を作
成した。この試験片に、コバルト60の線源を使用して
25キログレイの照射量でγ線を照射した。照射後の試
験片について次の性能試験を行い、結果を第1表に示し
た。
を用いて、イエローネスインデックス(YI)を測定し
た。
脆化するまでの時間を測定した。
系化合物を配合したポリオレフィン樹脂は、放射線照射
による変色が抑制され、しかも放射線照射後の耐熱安定
性も優れている。したがって、こうして得られるポリオ
レフィン樹脂は、放射線照射を受ける製品、例えば医療
用器具、食品包装材などとして有用である。
Claims (5)
- 【請求項1】ポリオレフィン樹脂100重量部に対し
て、3,9−ビス〔2−{3−(3−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキ
シ}−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−
テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカンを 0.001〜1
重量部配合することを特徴とするポリオレフィン樹脂の
耐放射線性を改良する方法。 - 【請求項2】さらにイオウ系酸化防止剤を配合する請求
項1記載の方法。 - 【請求項3】さらにリン系酸化防止剤を配合する請求項
1または2記載の方法。 - 【請求項4】さらに紫外線吸収剤および/またはヒンダ
ードアミン系光安定剤を配合する請求項1〜3のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項5】ポリオレフィン樹脂がポリプロピレンであ
る請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13265091A JP2848024B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | ポリオレフィン樹脂の耐放射線性を改良する方法 |
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JP13265091A JP2848024B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | ポリオレフィン樹脂の耐放射線性を改良する方法 |
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JPH04359040A JPH04359040A (ja) | 1992-12-11 |
JP2848024B2 true JP2848024B2 (ja) | 1999-01-20 |
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JP2002265710A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Grand Polymer Co Ltd | シリンジ用ポリプロピレン樹脂組成物 |
-
1991
- 1991-06-04 JP JP13265091A patent/JP2848024B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH04359040A (ja) | 1992-12-11 |
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