JP2684039B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は電荷注入防止性中間層を有する電子写真感光
体の改良に関する。 〔従来技術〕 従来、導電性基体上に感光層を設けた一般的な電子写
真感光体、特に感光層が電荷発生層と電荷移動層とから
構成される積層型電子写真感光体に高帯電性、高感度及
び低残留電位性を付与する為、種々の試みがなされて来
た。その１つとして、高感度の電荷発生層中へ帯電時に
導電性基体側から帯電々荷と逆極性の電荷が注入するの
を防止する為の中間層を設けることが提案された。例え
ば、特開昭47-6341号、同48-3544号及び同48-12034号に
は硝酸セルロース系樹脂中間層が、特開昭48-47344号、
同52-25638号、同58-30757号、同58-63945号、同58-953
51号、同58-98739号、同60-66258号及び同61-110153号
にはポリアミド系樹脂中間層が、特開昭48-26141号には
酢酸ビニル系樹脂中間層が、特開昭49-69332号及び52-1
0138号にはマレイン酸系樹脂中間層が、そして特開昭58
-105155号にはポリビニルアルコール系中間層がそれぞ
れ開示されている。 しかしながら、従来公知の中間層を設けた感光体にお
いては、繰り返し使用した場合、帯電電位の立ち上がり
が遅く、また帯電特性も劣化するため、画像濃度が低下
し、また特に反転現像の場合には地汚れを生じるという
難点があった。 〔目的〕 本発明の目的は、繰返し使用しても高感度を維持し、
帯電特性が劣化せず、したがって画像濃度の低下や地汚
れを生じない良好な画像を与える電子写真感光体を提供
することにある。 〔構成〕 本発明によれば、導電性基体上に中間層、およびフル
オレノン骨格を有するビスアゾ顔料、トリフエニルアミ
ン骨格を有するトリスアゾ顔料から選ばれる少なくとも
一種のアゾ顔料を含有してなる感光層を順次設けた電子
写真感光体において、前記中間層に下記の一般式で示さ
れる単量体からなる重合体及び／又は下記一般式で示さ
れる単量体と共重合体し得る化合物との共重合体化合物
を含有させたことを特徴とする電子写真感光体が提供さ
れる。 （式中、R₁は水素原子又はメチル基を、R₂,R₃は同一で
あっても異なってもよく、水素原子、置換又は非置換の
アルキル基、置換又は非置換のアリール基を表わす。
R₂,R₃は互いに結合し、窒素を含む複素環を形成しても
よい。） 本発明の電子写真用感光体は、中間層の主成分とし
て、少くとも前記一般式（Ｉ）で示される単量体からな
る重合体もしくはその共重合体化合物を含有させたこと
から、繰返し使用しても、従来のもののように帯電特性
が劣化しないので、画像濃度の低下や地汚れのない鮮明
な複写画像を与える。 以下、本発明を詳述する。 本発明の感光体の基本的な構成は、第１図に示す様に
導電性基体１上に電荷注入防止性中間層２及び単層型感
光層３を設けたものと第２図に示す様に導電性基体１上
に電荷注入防止性中間層２及び電荷発生層５及び電荷移
動層４からなる積層型感光層３′を設けたものである。 次に本発明で用いられる各構成材料について説明す
る。 導電性基体とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側に
供給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
⁸Ωcm以下で、かつ中間層、電荷発生および電荷移動層
の成膜条件に耐えられるものを使用することができる。
これらの例としては、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス等の
電気伝導性の金属および合金並びにガラス、セラミック
ス等の無機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミド、
フェノール樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性物質
の表面を、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等の方
法によって、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス、炭素、Sn
O₂、In₂O₃等の電気導電性物質を被服して導電処理を行
なったもの等があげられる。 電荷注入防止性中間層は感光体の帯電時に導電性基体
から感光層への電荷注入を阻止して帯電性を保ち、かつ
感光体露光時には感光層で発生した電荷の一方即ち導電
性基体側に阻止されている電荷とは反対極性の電荷を導
電性基体側へ移動させる作用を有する。特に感光層が高
感度の場合には感光層の帯電性が悪くなるので必要であ
る。本発明においては、該中間層に前記重合体及び／又
はその共重合体化合物を含有させる。 前記重合体化合物を構成する単量体としては、例えば
下記に示される化合物が挙げられる。 〔一般式（Ｉ）で示される単量体の例〕 アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Ｎ−アル
キルアクリルアミド（該アルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒド
ロキシエチル基、メチロール基、メトキシメチル基、エ
トキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、N,N−シメチ
ルアミノプロピル基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−
アリールアクリルアミド（該アリール基としては、例え
ばフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル
基、ヒドロキシフェニル基などがある。）、N,N−ジア
ルキルアクリルアミド（該アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシ
ル基、シクロヘキシル基、メチロール基、メトキシメチ
ル基、エトキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、N,N
−ジメチルアミノプロピル基、ベンジル基などがあ
る。）、N,N−ジアリールアクリルアミド（該アリール
基としては、例えばフェニル基、トリル基、ナフチル
基、ヒドロキシフェニル基などがある。）、Ｎ−メチル
−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル
−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエ
チル−Ｎ−アセチルアクリルアミド、アクリロイルモル
ホリンなど；メタクリルアミド類、例えばメタクリルア
ミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（該アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘ
キシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基、メ
チロール基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ
−ブトキシメチル基、N,N−ジメチルアミノプロピル
基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリールメタクリ
ルアミド（該アリール基としては、フェニル基、トリル
基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニ
ル基などがある）、N,N−ジアルキルメタクリルアミド
（該アルキル基としては、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエ
チル基、シクロヘキシル基、メチロール基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、ブトキシメチル基、N,N−
ジメチルアミノプロピル基、ベンジル基などがあ
る。）、N,N−ジアリールメタクリルアミド（該アリー
ル基としては、フェニル基、トリル基、ニトロフェニル
基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリル
アミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、メタクリ
ロイルモルホリンなどが挙げられる。 〔一般式（Ｉ）の単量体と共重合可能な単量体の例〕 必要に応じて共重合させられる他の付加重合性不飽和
化合物は、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
スチレン類、クロトン酸エステル類などがあり、付加重
合性不飽和結合を１個有する化合物から選ばれる。具体
的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル
アクリレート（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オ
クチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチル
アクリレート、２−ヒドロキシスチレンアクリレート、
2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−
ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロ
パンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアク
リレート、グリシジルアクリレート、メタグリシジルア
クリレート、トリフロロエチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレー
ト、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエ
チルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、ジ−（ｎ−ブチル）アミノエチ
ルアクリレート、ジ−（ｔ−ブチル）アミノエチルアク
リレート、Ｎ−（ｔ−ブチル）アミノエチルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレートなど）；アリールアクリレート（例えば
フェニルアクリレートなど）；メタクリル酸エステル
酸、例えば、アルキルメタアクリレート（例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシスチレンメタクリレート、４−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、2,2−ジメチル−３−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メタグリシジルメタク
リレート、トリフロロエチルメタクリレート、２−メト
キシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタク
リレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−フ
ェノキシエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチル
メタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジ−（ｎ−ブチル）アミノエチルメタクリレート、
ジ−（ｔ−ブチル）アミノエチルメタクリレート、Ｎ−
（ｔ−ブチル）アミノエチルメタクリレート、フルフリ
ルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリ
レートなど）、アリールメタクリレート（例えば、フェ
ニルメタクリレートなど）：アクリルアミド類、例えば
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（該アル
キル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、オクチル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル
基などがある。）、Ｎ−アリールアクリルアミド（該ア
リール基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニト
ロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基など
がある。）、N,N−ジアルキルアクリルアミド（該アル
キル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、イソ
ブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基などが
ある。）、N,N−ジアリールアクリルアミド（該アリー
ル基としては、例えばフェニル基などがある。）、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ
エチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトア
ミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど；メタク
リルアミド類、例えばメタクリルアミド、Ｎ−アルキル
メタクリルアミド（該アルキル基しては、メチル基、エ
チル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキシ
エチル基、シクロヘキシル基などがある）、Ｎ−アリー
ルメタクリルアミド（該アリール基としては、フェニル
基などがある。）、N,N−ジアルキルメタクリルアミド
（該アルキル基としては、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などがある。）、N,N−ジアリールメタクリルアミ
ド（該アリール基としては、フェニル基などがあ
る。）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−フェニルメタクリ
ルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド
など；アリル化合物、例えばアリルエステル類（例えば
酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラ
ウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸ア
リル、安息香酸アリル、アセトン酢酸アリル、乳酸アリ
ルなど）、アリルオキシエタノールなど；ビニルエーテ
ル類、例えばアルキルビニルエーテル（例えばヘキシル
ビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニ
ルエーテル、エチルヘキシビニルエーテル、メトキシエ
チルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、
クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−2,2−ジメ
チルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルエーテ
ル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリ
コールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエ
ーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチル
アミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテ
ル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど）、ビ
ニルアリールエーテル（例えばビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニ
ルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど）；ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカ
プロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロル
アセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキ
シアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセ
トアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フエニ
ルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレー
ト、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香
酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビ
ニルなど；スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチ
レン（例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリ
メチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、
イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチ
レン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベン
ジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメ
チルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメ
チルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えばメト
キシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジ
メトキシスチレンなど）、ハロゲノスチレン（例えばク
ロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレ
ン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブ
ロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フ
ルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−
４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−
トリフルオルメチルスチレンなど）：クロトン酸エステ
ル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ートなど）：イタコン酸ジアルキル類（例えばイタコン
酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル
など）：マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
（例えばジメチルマレレート、ジブチルフマレートな
ど）等がある。その他、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、アクリル酸、メタクリル酸なども用いること
ができる。ただし１分子に２個以上の重合性ビニル基を
有する多官能付加重合性不飽和重合物は望ましくない。 本発明の中間層は、前記重合体及び／又は共重合体化
合物を主成分とするものであるが、必要に応じこの種の
中間層に慣用されている樹脂を併用することもできる。
このような樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポ
リスチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリアク
リレート、ポリ塩化ビニル等の熱可塑性樹脂の他、フェ
ノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性
樹脂、あるいは光硬化性樹脂が例示される。また、中間
層中にはSnO₂、Sb₂O₃等の導電性粉体及び／又はZnO、Zn
S、TiO₂等の白色顔料を含有させることもできる。導電
性基板上への中間層の形成はロールコート法、浸漬塗工
法、スプレー塗工法、ブレード塗工法等により成膜を行
ない、50〜200℃で乾燥又は硬化して膜厚0.05〜10μ
ｍ、好ましくは0.2〜２μｍの膜とする。 本発明における感光層は、第１図のような単層型でも
第２図に示されるような積層型のいずれでも良い。 単層型の感光層とは電荷発生と電荷移動の両方の機能
を１つの層にもつものであり、画像露光によって電荷潜
像を形成させることを目的とする層である。 この種の感光層は色素増感された酸化亜鉛、酸化チタ
ン、硫化亜鉛等の光導電性粉体、無定形シリコン粉体、
結晶セレン粉体、フタロシアニン顔料、アゾ顔料と結着
剤樹脂とをまた必要に応じて後述する電荷移動物質と共
に中間層上に形成される。結着剤樹脂としては後述する
積層型感光層と同様のものが使用される。またピリリウ
ム系染料とビスフェノールＡ系ポリカーボネートから形
成される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感
光層も使用出来る。厚さは５〜30μｍが適当である。 また、積層型感光層における電荷発生層は、画像露光
によって電荷を発生分離させることを目的とする層であ
る。本発明においては、電荷発生層は、有機系染顔料、
結晶セレンまたはセレン化ヒ素を電荷発生物質とするも
のであり、有機系顔料としてはフタロシアニン系顔料、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、スク
アリック塩系染料、アズレニウム塩系染料、キノン系縮
合多環化合物等がある。ジスアゾ顔料およびトリスアゾ
顔料の具体例を以下に示す。 これらの有機系染顔料は、樹脂中でまたは樹脂無しで
有機溶媒を加えてボールミル、サンドミル、三本ロー
ル、アトライター、超音波法等の方法で分散して用い
る。これら有機系染顔料を分散する樹脂（結着剤）とし
てはたとえばポリアミド、ポリウレタン、ポリエステ
ル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルな
どの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリＮビニルカルバゾール、
ポリビニルブチラール、スチレン−ブタジエン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体お
よび共重合体があげられ、絶縁性と接着性が要求され
る。上記と同様の分散手段で分散し、中間層と同様の方
法で中間層上に成膜および乾燥して膜厚0.05μｍ及至数
μｍの電荷発生層を形成する。有機系染顔料の含有量は
60重量％及至100重量％が好ましい。 結晶セレン又はセレン化ヒ素合金の粉末を用いた場合
は、電荷移動性結着剤及び／又は電荷移動性有機化合物
と併用される。この様な電荷移動性物質としてはポリビ
ニルカルバゾール及びその誘導体（例えば、カルバゾー
ル骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ
基等の置換基を有するもの）、ポリビニルピレン、オキ
サジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメ
タン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系
化合物などの窒素含有化合物及びジアリールメタン系化
合物等があるが、特にポリビニルカルバゾール及びその
誘導体が好ましい。またこれらの物質を混合して用いて
も良い。混合して用いる場合もポリビニルカルバゾール
及びその誘導体に他の電荷移動性有機化合物を添加する
のが好ましい。また接着性、可撓性等を向上させる目的
で必要に応じて有機系顔料と併用して用いた結着剤樹脂
が使用出来る。この種の電荷発生物質の含有量は層全体
の30〜90重量％が適当である。また電荷発生物質を用い
た場合の電荷発生層の厚さは0.2〜５μｍが適当であ
る。 電荷発生層の上に設けられる電荷移動層は、帯電電荷
をその表面に保持させ、また、露光により電荷発生層で
発生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と
結合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持
させる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求さ
れ、また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を
達成するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良
いことが要求される。これらの要件を満足させるべく、
有機電荷移動物質を有効成分として含有する有機電荷移
動層が用いられる。有機電荷移動物質としては、例え
ば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール系化合物、ピラゾリ
ン系化合物、α−フェニルスチレンベン系化合物、ヒド
ラゾン系化合物、ジアリールメタン系化合物、トリフェ
ニルアミン系化合物、ジビニルベンゼン系化合物、フル
オレイン系化合物、アントラセン系化合物、オキサジア
ゾール系化合物、ジアミノカルバゾール系化合物など従
来知られている化合物を使用することができる。ポリビ
ニルカルバゾール等の重合体以外のこれらの有機電荷移
動物質は、前述の電荷発生層の結着剤として示したもの
と同様の樹脂へ配合して用いられる。ただし、電荷発生
層で使用される樹脂と電荷移動層で使用される樹脂とが
同じである必要はない。またこれらには、必要に応じて
可塑剤が配合される。こうした可塑剤としては、例えば
ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジブチル
フタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルホス
フェート等やポリエステル等の重合体及び共重合体など
があげられる。電荷移動物質と上記結合剤樹脂と（成膜
時のレベリング剤としての）シリコン油とを有機溶媒に
溶解して、中間層および電荷発生層と同様の方法で成膜
および乾燥して、膜膜５μｍ及至100μｍの電荷移動層
を電荷発生層上に形成する。電荷移動物質と樹脂結合剤
比は、2/8及至8/2重量比であって、樹脂結合剤に対する
シリコン油量は、0.001重量％及至１重量％である。 〔効果〕 本発明の電子写真用感光体は、中間層の主成分とし
て、前記一般式（Ｉ）で示される単量体からなる重合体
及び／又はその共重合体化合物を用いたことから、繰返
し使用しても帯電特性が劣化しないため、画像濃度の低
下や地汚れを生じない鮮明な複写画像を与える。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。 〔合成例１〕 撹拌機、温度計、還流冷却器を備えた反応容器にシク
ロヘキサノン200重量部を採り、窒素ガスを通気しなが
ら80℃に加熱した。この中に Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド 50重量部 アゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部 よりなる混合液を１時間に亘って滴下した。そのまま同
温度で２時間撹拌を続けた後、シクロヘキサノン20重量
部、アゾビスイソブチロニトリル0.2重量部よりなる液
を、10分間で滴下し、同温度で２時間撹拌を続けた。次
いで85℃に昇温し、２時間撹拌を続け、重合体を得た。
この様にして得られた重合体（溶液）を樹脂Ａとする。 〔合成例２〕 合成例１において、溶媒をシクロヘキサノンの代りに
ジメチルホルムアミドを用いた以外は合成例１と同様に
して、下記組成の単量体を反応させた。 Ｎ−メチルアクリルアミド 20重量部 N,N−ジメチルアクリルアミド ５重量部 Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド 25重量部 アゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部 反応終了後、イソプロピルエーテル中に投じ、共重合
体を沈殿させ、60℃で真空乾燥して共重合体（樹脂Ｂ）
を得た。 〔合成例３〕 合成例１と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ
共重合体（樹脂Ｃ）を得た。 Ｎ−ブトキシメチルメタクリルアミド 22重量部 ２−ヒドロキシスチレンメタクリレート 28重量部 アゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部 〔合成例４〕 合成例１と同様な方法で、下記組成の単量体を反応さ
せ、共重合体（樹脂Ｄ）を得た。 Ｎ−メチルメタクリルアミド 14重量部 メタクリルアミド 11重量部 メチルメタクリレート ２重量部 ２−ヒドロキシブチルメタクリレート 23重量部 アゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部 実施例１ 〔中間層用塗工液〕 樹脂Ａ ４重量部 ポリビニルアルコール （電気化学工業（株）製、ボバールB-24） ４重量部 メタノール 27 〃 水 55 〃 上記混合物を混合して中間層用塗工液とした。 〔電荷発生層用塗工液〕 φ15cmのガラスポット中に容積の1/2の量のφ1cmのス
テンレスボールと400gのシクロヘキサノンと25gの前記
アゾ顔料No1を投入して48時間混合した。さらに400gの
シクロヘキサノンを追加投入してさらに24時間混合した
後、取出した分散溶液800gを撹拌しながらメチルエチル
ケトン800gを滴下して電荷発生層用塗工液とした。 〔電荷移動層用塗工液〕 α−フェニルスチルベン系電荷移動物質 （下記の化合物） 10重量部 ポリカーボネート 10重量部 （商品名、パンライトC 1400:帝人（株）） シリコン油 0.002重量部 （商品名、KF 50:信越シリコーン（株）） テトラヒドロフラン 80重量部 つぎに、Al蒸着した100μｍ厚のPETフィルム（東レ
（株）製ルミラー）の表面にドクターブレードで前記中
間層用塗工液を塗工し、120℃で10分間加熱乾燥を行な
って膜厚１μｍの中間層を設けた。ついで、この中間層
の上に前記電荷発生層用塗工液をブレードで塗工し、12
0℃で10分間加熱乾燥して、膜厚0.1μｍの電荷発生層を
形成し、さらにその上に前記電荷移動層用塗工液をブレ
ードで塗工し、120℃で20分間加熱乾燥し、膜厚20μｍ
の電荷移動層を形成し、実施例１の電子写真用感光体を
作成した。 実施例２ 実施例１において、中間層用塗工液を下記のものに代
えた以外は実施例１と同様にして実施例２の電子写真用
感光体を作成した。 〔中間層用塗工液〕 樹脂Ｂ ４重量部 ポリビニルアルコール ４ 〃 （電気化学工業（株）製、ポバールB-24） メタノール 27 〃 水 55 〃 比較例１ 実施例２の中間層用塗工液から樹脂Ｂを除いた以外は
実施例２と同様にして比較例１の電子写真用感光体を作
成した。 実施例３ 実施例１において、中間層用塗工液を下記のものに代
えた以外は、実施例１と同様にして実施例３の電子写真
用感光体を作成した。 〔中間層用塗工液〕 樹脂Ｃ ４重量部 ポリビニルアルコール （電気化学工業（株）製、ポバールB24） ４ 〃 メタノール 27 〃 水 55 〃 実施例４ 実施例１において、電荷移動物質を、 に代えたほかは実施例１と同様にして実施例４の電子写
真用感光体を作成した。 比較例２ 実施例４の中間層用塗工液から樹脂Ａを除いたほかは
実施例４と同様にして比較例２の電子写真用感光体を作
成した。 実施例５ 樹脂Ａ ５重量部 ポリビニルアルコール ５ 〃 （電気化学工業（株）製、ポバール24） 酸化スズ微粉 ５ 〃 酸化チタン粉末 ３ 〃 メタノール 27 〃 水 55 〃 から成る液をボールミルで72時間分散し、次にメタノー
ル／水（1/2重量部）の混合溶媒で稀釈して再びボール
ミルで48時間処理した。 この液を中間層用塗工液としたほかは実施例１と同様
にして実施例５の電子写真用感光体を作成した。 実施例６ 樹脂Ａ 48重量部 ポリビニルブチラール 48 〃 （積水化学（株）製、BL-1） 酸化スズ微粉 48 〃 トリレンジイソシアネート 14.5 〃 シクロヘキサノン 552 〃 メチルエチルケトン 130 〃 から成る液を中間層用塗工液とし、中間層塗工後、130
℃で１時間の加熱処理を行なったほかは実施例１と同様
にして実施例６の電子写真用感光体を作成した。 以上のようにして作成した電子写真感光体を静電複写
紙試験装置（川口電機製作所製SP428型）を使用して次
の様にして電子写真特性を評価した。まず、−6KVのコ
ロナ帯電を20秒間行ない、次に暗所に放置して表面電位
が−800Vになったところで、4.51uxのタングステン光を
照射して、この時の帯電開始後２秒の表面電位V₂、光照
射の際表面電位が−400Vになるのを必要な露光量Ｓ（lu
x sec）を測定した。また、この後、感光体に色温度285
6°Ｋのタングステン光を100000lux sec照射し、再び前
記と同様にして、帯電電位V₂′、露光量Ｓ′を求めた。 実施例７ 肉厚3mm、80φ×340mmのAlドラム上に実施例１と同様
の中間層用塗工液を浸漬塗工し、130℃20分の加熱乾燥
を行なって、膜厚１μｍの中間層を形成した。さらに、
この上に、実施例１と同様の電荷発生層用塗工液を浸漬
塗工し、130℃20分加熱乾燥して0.1μｍの電荷発生層を
設けた。さらにこの上に電荷移動層用塗工液を浸漬塗工
し、130℃30分の加熱乾燥を行なって膜厚20μｍの電荷
移動層を得た。 この様にして作成した感光体ドラムを帯電と転写チャ
ージャーと現像バイアスを負極性に改良したFT4060
（（株）リコー製複写機）に搭載して画像出しを行なっ
たところ鮮明な画像が得られた。この時の帯電チャージ
ャー通過直後の感光体表面電位を測定したところ、−80
0Vであった。この後、さらにこの感光体に帯電と露光を
10000回くり返した後、同様の操作を行なったところ画
像濃度の低下はなく、表面電位は−740Vであった。 比較例３ 比較例１と同様の各層用塗工液を用いて実施例７と同
様の感光体を作成し、測定を行なったところ、初期表面
電位は−800Vであったが、10000回くり返し後の表面電
位は−520Vと著しく低下し、また画像濃度の低下が見ら
れた。 実施例１の電荷発生物質をダイアンブルーに替えて、
行った結果を、比較例６として示す。 また、比較例６の中間層用塗工液から樹脂Ａを除いた
以外は、比較例６と同じにして作成した電子写真感光体
を用いた結果を、比較例７として示す。 電荷発生物質を酸化亜鉛に替えて、他は同じにして実
施例３を行った結果を、追加比較例８として示す。 また、追加比較例８の中間層用塗工液から樹脂Ｃを除
いた以外は、追加実施例８と同じにして作成した電子写
真感光体を用いた結果を、比較例９として示す。 これらの結果と本願発明の結果を合わせて表に示す
と、表−２の通りである。

【図面の簡単な説明】 第１図及び第２図は、本発明に係る電子写真用感光体の
模式断面図である。 １……導電性基体、２……電荷注入防止性中間層、３…
…単層型感光層、３′……積層型感光層、４……電荷発
生層、５……電荷移動層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅田 実 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭59−160150（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−4152（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−38194（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．導電性基体上に中間層、およびフルオレノン骨格を
   有するビスアゾ顔料、トリフエニルアミン骨格を有する
   トリスアゾ顔料から選ばれる少なくとも一種のアゾ顔料
   を含有してなる感光層を順次設けた電子写真感光体にお
   いて、前記中間層に下記の一般式で示される単量体から
   なる重合体及び／又は下記一般式で示される単量体と共
   重合体し得る化合物との共重合体化合物を含有させたこ
   とを特徴とする電子写真感光体。 （式中、R₁は水素原子又はメチル基を、R₂,R₃は同一で
   あっても異なってもよく、水素原子、置換又は非置換の
   アルキル基、置換又は非置換のアリール基を表わす。
   R₂,R₃は互いに結合し、窒素を含む複素環を形成しても
   よい。）