JPH0262555A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真用感光体の改良に関する。
近年、電子写真複写機に使用される感光体として、低価
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。
格、生産性及び無公害等の利点を有する有機系の感光材
料を用いたものが普及しはじめている。
有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
(PVK)に代表される光導電性樹脂、 PVK−TN
F(2,4,7−トリニトロフルオレノン)に代表され
る電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表
される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組
合せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、
特に機能分離型の感光体が注目されている。
(PVK)に代表される光導電性樹脂、 PVK−TN
F(2,4,7−トリニトロフルオレノン)に代表され
る電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表
される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組
合せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、
特に機能分離型の感光体が注目されている。
この様な機能分離型の高感度感光体を、カールソンプロ
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い
(暗減衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特性
の劣化が大きく、画像上に、1度ムラや画像濃度の低下
を生じまた反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点
を有している。
セスに適用した場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い
(暗減衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特性
の劣化が大きく、画像上に、1度ムラや画像濃度の低下
を生じまた反転現像の場合、地汚れを生じるという欠点
を有している。
また一般に、高感度感光体は、前露光疲労によって帯電
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷発生材料が吸
収する光によって起こることから。
性が低下する。この前露光疲労は主に電荷発生材料が吸
収する光によって起こることから。
光吸収によって発生した電荷が移動可能な状態で感光体
内に残留している時間が長い程、またその電荷の数が多
い程、前露光疲労による帯電性の低下が著しくなると考
えられる。即ち、光吸収によって発生した電荷が残留し
ている状態で帯電操作をしても、残留しているキャリア
の移動で表面電荷が中和される為、残留電荷が消費され
るまで表面電位は上昇しない。従って、前露光疲労分だ
け表面電位の上昇が遅れることになり、見かけ上の帯電
4位は低くなる。
内に残留している時間が長い程、またその電荷の数が多
い程、前露光疲労による帯電性の低下が著しくなると考
えられる。即ち、光吸収によって発生した電荷が残留し
ている状態で帯電操作をしても、残留しているキャリア
の移動で表面電荷が中和される為、残留電荷が消費され
るまで表面電位は上昇しない。従って、前露光疲労分だ
け表面電位の上昇が遅れることになり、見かけ上の帯電
4位は低くなる。
上述の欠点に対して、特開昭55−45024号公報に
はアルミナ繊維を分散した保護層が、特開昭56−38
054号公報、特開昭56−99347号公報及び特開
昭57−165848号公報にはAQ20.、 SiO
□、SiC,5in2、AQ、0.、B4C等を分散し
た保護層が、特開昭58−121044号公報にはSn
O□及びsb、 o、を分散した保護層が、特開昭59
−159号公報にはCuIを分散した保護層が、特開昭
60−75842号公報にはTiO2を分散した保護層
が、特開昭57−30846号公報及び特開昭57−1
54250号公報には酸化インジウムを分散した保護層
が、特開昭58−59459号公報には阿gFz、Si
N4、AQ20.、ZrO25等の粉末をスパッタリン
グ方法で被覆する方法が開示されている。
はアルミナ繊維を分散した保護層が、特開昭56−38
054号公報、特開昭56−99347号公報及び特開
昭57−165848号公報にはAQ20.、 SiO
□、SiC,5in2、AQ、0.、B4C等を分散し
た保護層が、特開昭58−121044号公報にはSn
O□及びsb、 o、を分散した保護層が、特開昭59
−159号公報にはCuIを分散した保護層が、特開昭
60−75842号公報にはTiO2を分散した保護層
が、特開昭57−30846号公報及び特開昭57−1
54250号公報には酸化インジウムを分散した保護層
が、特開昭58−59459号公報には阿gFz、Si
N4、AQ20.、ZrO25等の粉末をスパッタリン
グ方法で被覆する方法が開示されている。
しかしながら、従来公知の電子写真用感光体は繰り返し
使用による帯電性の低下、とりわけ帯電4位の立上りの
遅れに関しては未だに不充分であり、しかも残留電位の
変化が大きく、より一層の改善が望まれていた。
使用による帯電性の低下、とりわけ帯電4位の立上りの
遅れに関しては未だに不充分であり、しかも残留電位の
変化が大きく、より一層の改善が望まれていた。
本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、シかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立上りの遅れがなく、かつ残留
電位の変化が小さい電子写真用感光体を提供することを
目的とする。
性の低下が著しく小さく、シかも帯電と露光の繰り返し
後においても帯電電位の立上りの遅れがなく、かつ残留
電位の変化が小さい電子写真用感光体を提供することを
目的とする。
本発明によれば、表面に保護層を有する電子写真感光体
において、該保護層に下記一般式(1)で示される単量
体からなる重合体及び/又は該一般式(1)で示される
単量体と他の共重合し得る化合物との共重合体を含有さ
せたことを特徴とする電子写真感光体が提供される。
において、該保護層に下記一般式(1)で示される単量
体からなる重合体及び/又は該一般式(1)で示される
単量体と他の共重合し得る化合物との共重合体を含有さ
せたことを特徴とする電子写真感光体が提供される。
本発明で用いられる一般式(1)の単量体、および一般
式(1)の単量体と共重合可能な他の単量体を以下に例
示する。
式(1)の単量体と共重合可能な他の単量体を以下に例
示する。
〔一般式(1)で示される単量体の例)(式中、R□は
水素原子又はメチル基を、R2は水素原子、低級アルキ
ル基あるいは置換又は未置換のアリール基を、またnは
2〜100の整数を表わす。) 本発明者らは、導電性基体上に感光層及び保護層を積層
してなる電子写真用感光体の保護層に着目して、前記欠
点を解消すべく鋭意検討した結果。
水素原子又はメチル基を、R2は水素原子、低級アルキ
ル基あるいは置換又は未置換のアリール基を、またnは
2〜100の整数を表わす。) 本発明者らは、導電性基体上に感光層及び保護層を積層
してなる電子写真用感光体の保護層に着目して、前記欠
点を解消すべく鋭意検討した結果。
該保護層中に、前記特定樹脂に含有させることによって
、繰り返し使用後の帯電4位の立上りの遅れがなく、か
つ残留電位の変化が小さい電子写真感光体が得られるこ
とを見い出し、本発明を完成するに至った。
、繰り返し使用後の帯電4位の立上りの遅れがなく、か
つ残留電位の変化が小さい電子写真感光体が得られるこ
とを見い出し、本発明を完成するに至った。
本発明においては、前記したように感光層上に前記特定
樹脂を分散させた保護層を設ける。
樹脂を分散させた保護層を設ける。
〔一般式(I)の単量体と共重合可能な単量体の例〕必
要に応じて共重合させられる他の付加重合性不飽和化合
物は、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類
、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類などがあり、付加重合性
不飽和結合を1個有する化合物から選ばれる。具体的に
は4例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキルアク
リレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアク
リレート、2−ヒドロキシスチレンアクリレート、2,
2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパ
ンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリ
レート、グリシジルアクリレート、メタグリシジルアク
リレート、トリフロロエチルアクリレート、シクロへキ
シルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、
2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチル
アクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、ジ
メチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチ
ルアクリレート、ジー(ローブチル)アミノエチルアク
リレート、ジー(t−ブチル)アミノエチルアクリレー
ト、N−(t−ブチル)アミノエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、
フルフリルアクレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レートなど);アリールアクリレート(例えばフェニル
アクリレートなど);メタクリル酸エステル酸、例えば
、アルキルメタアクリレート(例えばメチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート
、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート
、ヘキシルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシスチレンメタクリレート、4−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレ
ート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート。
要に応じて共重合させられる他の付加重合性不飽和化合
物は、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類
、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類などがあり、付加重合性
不飽和結合を1個有する化合物から選ばれる。具体的に
は4例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキルアク
リレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアク
リレート、2−ヒドロキシスチレンアクリレート、2,
2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパ
ンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリ
レート、グリシジルアクリレート、メタグリシジルアク
リレート、トリフロロエチルアクリレート、シクロへキ
シルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、
2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチル
アクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、ジ
メチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチ
ルアクリレート、ジー(ローブチル)アミノエチルアク
リレート、ジー(t−ブチル)アミノエチルアクリレー
ト、N−(t−ブチル)アミノエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、
フルフリルアクレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レートなど);アリールアクリレート(例えばフェニル
アクリレートなど);メタクリル酸エステル酸、例えば
、アルキルメタアクリレート(例えばメチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート
、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート
、ヘキシルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシスチレンメタクリレート、4−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレ
ート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート。
メタグリシジルメタクリレート、トリフロロエチルメタ
クリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−
エトキシエチルメタクリレート2−ブトキシエチルメタ
クリレート、2−フェノキシエチルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、ジー(n−ブチル)アミノエチル
メタクリレート、ジー(t−ブチル)アミノエチルメタ
クリレート、N−(t−ブチル)アミノエチルメタクリ
レート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフル
フリルメタアクリレートなど)、アリールメタクリレー
ト(例えば、フェニルメタクリレートなど)ニアクリル
アミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキルアクリ
ルアミド(該アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチ
ル基、ベンジル基などがある。)、N−アリールアクリ
ルアミド(該アリール基としては1例えばフェニル基、
トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシ
フェニル基などがある。)、N、N−ジアルキルアクリ
ルアミド(該アルキル基としては、メチル基、エチル基
、ブチル基。
クリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−
エトキシエチルメタクリレート2−ブトキシエチルメタ
クリレート、2−フェノキシエチルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、ジー(n−ブチル)アミノエチル
メタクリレート、ジー(t−ブチル)アミノエチルメタ
クリレート、N−(t−ブチル)アミノエチルメタクリ
レート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフル
フリルメタアクリレートなど)、アリールメタクリレー
ト(例えば、フェニルメタクリレートなど)ニアクリル
アミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキルアクリ
ルアミド(該アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチ
ル基、ベンジル基などがある。)、N−アリールアクリ
ルアミド(該アリール基としては1例えばフェニル基、
トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシ
フェニル基などがある。)、N、N−ジアルキルアクリ
ルアミド(該アルキル基としては、メチル基、エチル基
、ブチル基。
イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基な
どがある。)、 N、N−ジアリールアクリルアミド(
該アリール基としては、例えばフェニル基などがある。
どがある。)、 N、N−ジアリールアクリルアミド(
該アリール基としては、例えばフェニル基などがある。
)、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−
アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど
;メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−
アルキルメタクリルアミド(該アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、t−ブチル基、エチルヘキシル基、
ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などがある)、
N−アリールメタクリルアミド(該アリール基としては
、フェニル基などがある。)、 N、N−ジアルキルメ
タクリルアミド(該アルキル基としては、エチル基。
ドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−
アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど
;メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−
アルキルメタクリルアミド(該アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、t−ブチル基、エチルヘキシル基、
ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などがある)、
N−アリールメタクリルアミド(該アリール基としては
、フェニル基などがある。)、 N、N−ジアルキルメ
タクリルアミド(該アルキル基としては、エチル基。
プロピル基、ブチル基などがある。)、N、N−ジアリ
ールメタクリルアミド(該アリール基としては。
ールメタクリルアミド(該アリール基としては。
フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシエチル−N
−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルメタクリルアミドなど;アリル化合物、例えばアリル
エステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カ
プリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセトン酢
酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエタノール
など;ビニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテ
ル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシビニルエ
ーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチ
ルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−
メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2
−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベ
ンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニル
エーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例えばビニ
ルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルク
ロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフェ
ニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアント
ラニルエーテルなど);ビニルエステル類1例えばビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレ
レート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート
、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテー
ト、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテ
ート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビ
ニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロへキシル
カルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル
、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン類、例えばスチレン
、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジメチル
スチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン
、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシル
スチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、
トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン
、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレ
ン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲノスチ
レン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロル
スチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨード
スチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フ
ルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど):クロ
トン酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル(例え
ばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリン
モノクロトネートなど):イタコン酸ジアルキル類(例
えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなど):マレイン酸あるいは、フマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジブチル
フマレートなど)等がある。その他、アクリロニトリル
、メタクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸など
も用いることができる。ただし1分子に2個以上の重合
性ビニル基を有する多官能付加重合性不飽和重合物は望
ましくない。
−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルメタクリルアミドなど;アリル化合物、例えばアリル
エステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カ
プリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセトン酢
酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエタノール
など;ビニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテ
ル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシビニルエ
ーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチ
ルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−
メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2
−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベ
ンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニル
エーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例えばビニ
ルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルク
ロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフェ
ニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアント
ラニルエーテルなど);ビニルエステル類1例えばビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレ
レート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート
、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテー
ト、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテ
ート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビ
ニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロへキシル
カルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル
、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル
、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン類、例えばスチレン
、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジメチル
スチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン
、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシル
スチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、
トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン
、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレ
ン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲノスチ
レン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロル
スチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨード
スチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フ
ルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど):クロ
トン酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル(例え
ばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリン
モノクロトネートなど):イタコン酸ジアルキル類(例
えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなど):マレイン酸あるいは、フマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジブチル
フマレートなど)等がある。その他、アクリロニトリル
、メタクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸など
も用いることができる。ただし1分子に2個以上の重合
性ビニル基を有する多官能付加重合性不飽和重合物は望
ましくない。
本発明に用いられる前記特定樹脂の含有量は、保護層の
バインダー樹脂1重量部に対して、好ましくは0.01
〜lO重量部、さらに好ましくは0.1〜1重量部であ
る。
バインダー樹脂1重量部に対して、好ましくは0.01
〜lO重量部、さらに好ましくは0.1〜1重量部であ
る。
保護層は感光層と同様の方法で成膜、乾燥され、厚さは
1〜30paが好ましい。保護層中には、残留電位の上
昇を防止するための金属酸化物が含有されていることが
好ましい。具体的には5nOt、 5b203、In2
0j、 TiO2等であり、含有量は保護層に対してt
o−80重量%の範囲である。粒径は0.5n以下、好
ましくは0.3p以下である。保護層と感光層との間に
帯電性、接着性改善のための中間層を設けてもよい。膜
厚はO,G5−0.5.が好ましい。
1〜30paが好ましい。保護層中には、残留電位の上
昇を防止するための金属酸化物が含有されていることが
好ましい。具体的には5nOt、 5b203、In2
0j、 TiO2等であり、含有量は保護層に対してt
o−80重量%の範囲である。粒径は0.5n以下、好
ましくは0.3p以下である。保護層と感光層との間に
帯電性、接着性改善のための中間層を設けてもよい。膜
厚はO,G5−0.5.が好ましい。
また、樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリニデン、ポリア
クリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、
酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトル
エン、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、シリコン樹
脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェ
ノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化
性樹脂が挙げられる。
ン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリニデン、ポリア
クリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、
酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトル
エン、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、シリコン樹
脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェ
ノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化
性樹脂が挙げられる。
以下,本発明を更に詳細に説明する。
導電性基体とは,帯電電荷と逆極性の電荷を基体側に供
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
′Ωc11以下で、かつ中間層,11!荷発生および電
荷移動層の成膜条件に耐えられるものを使用することが
できる。これらの例としては、AQ%Ni. Cr.
Zn.スチレンレス等の電気伝導性の金属および合金並
びにガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリ
エステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂
、紙等の有機絶縁性物質の表面を、真空蒸着、スパッタ
リング、吹付塗装等の方法によって、AQ, Ni.
Cr, Zn.ステンレス、炭素. SnO,、In2
03等の電気導電性物質を被服して導電処理を行なった
もの等があげられる。
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
′Ωc11以下で、かつ中間層,11!荷発生および電
荷移動層の成膜条件に耐えられるものを使用することが
できる。これらの例としては、AQ%Ni. Cr.
Zn.スチレンレス等の電気伝導性の金属および合金並
びにガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリ
エステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂
、紙等の有機絶縁性物質の表面を、真空蒸着、スパッタ
リング、吹付塗装等の方法によって、AQ, Ni.
Cr, Zn.ステンレス、炭素. SnO,、In2
03等の電気導電性物質を被服して導電処理を行なった
もの等があげられる。
本発明における感光層は,単層型でも積層型のいずれで
も良い。
も良い。
単層型の感光層とは電荷発生と電荷移動の両方の機能を
1つの層にもつものであり、画像露光によって電荷潜像
を形成させることを目的とする層である。
1つの層にもつものであり、画像露光によって電荷潜像
を形成させることを目的とする層である。
この種の感光層は色素増感された酸化亜鉛、酸化チタン
、酸化亜鉛等の光導電性粉体、無定形シリコン粉体,結
晶セレン粉体,フタロシアニン顔゛料、アゾ顔料と結着
剤樹脂とをまた必要に応じて後述する電荷移動物質と共
に導電層上に形成される。結着剤樹脂としては後述する
積層型感光層と同様のものが使用される。またビリリウ
ム系染料とビスフェノールA系ポリカーボネートから形
成される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感
光層も使用出来る。厚さは5〜30声が適当である。
、酸化亜鉛等の光導電性粉体、無定形シリコン粉体,結
晶セレン粉体,フタロシアニン顔゛料、アゾ顔料と結着
剤樹脂とをまた必要に応じて後述する電荷移動物質と共
に導電層上に形成される。結着剤樹脂としては後述する
積層型感光層と同様のものが使用される。またビリリウ
ム系染料とビスフェノールA系ポリカーボネートから形
成される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感
光層も使用出来る。厚さは5〜30声が適当である。
積層型感光層の場合の電荷移動層は、露光により電荷発
生層で発生分離した電荷を移動させて導電層に誘起され
ていた電荷を消去させる働きをする層である。帯電電荷
を保持させる目的達成のために電気抵抗が高いことが要
求され、また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目
的を達成するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性
が良いことが要求される。これらの要件を満足させるべ
く、有機電荷移動物質を有効成分として含有する有機電
荷移動層が用いられる。有機電荷移動物質としては、た
とえば、ポリ−N−ビニルカルバゾール系化合物、ピラ
ゾリン系化合物、α−フェニルスチルベン系化合物、ヒ
ドラゾン系化合物、ジアリールメタン系化合物、トリフ
ェニルアミン系化合物、ジビニルベンゼン系化合物、フ
ルオレイン系化合物、アントラセン系化合物、オキサジ
アゾール系化合物、ジアミノカルバゾール化合物など従
来知られている化合物を使用することができる。
生層で発生分離した電荷を移動させて導電層に誘起され
ていた電荷を消去させる働きをする層である。帯電電荷
を保持させる目的達成のために電気抵抗が高いことが要
求され、また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目
的を達成するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性
が良いことが要求される。これらの要件を満足させるべ
く、有機電荷移動物質を有効成分として含有する有機電
荷移動層が用いられる。有機電荷移動物質としては、た
とえば、ポリ−N−ビニルカルバゾール系化合物、ピラ
ゾリン系化合物、α−フェニルスチルベン系化合物、ヒ
ドラゾン系化合物、ジアリールメタン系化合物、トリフ
ェニルアミン系化合物、ジビニルベンゼン系化合物、フ
ルオレイン系化合物、アントラセン系化合物、オキサジ
アゾール系化合物、ジアミノカルバゾール化合物など従
来知られている化合物を使用することができる。
ポリビニルカルバゾール等の重合体以外のこれらの有機
電荷移動物質は、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエス
テル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテル
などの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリN−ビニルカルバゾール
、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体お
よび共重合体等の樹脂へ配合して用いられる。
電荷移動物質は、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエス
テル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテル
などの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリN−ビニルカルバゾール
、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体お
よび共重合体等の樹脂へ配合して用いられる。
またこれらには、必要に応じて可塑剤が配合される。こ
うした可塑剤としては、例えばハロゲン化パラフィン、
ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート、ジオクチル
ブタレート、トリクレジルホスフェート等やポリエステ
ル等の重合体及び共重合体などがあげられる。電荷移動
物質と上記結合樹脂層と(成膜時のレベリング剤として
の)シリ、コン油とを有機溶媒に溶解して、ロールコー
ト法、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ブレード塗工法等
により導電性基板上等に成膜し、50〜200’Cで乾
燥硬化して膜厚5〜loopmの電荷移動層を形成する
。
うした可塑剤としては、例えばハロゲン化パラフィン、
ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート、ジオクチル
ブタレート、トリクレジルホスフェート等やポリエステ
ル等の重合体及び共重合体などがあげられる。電荷移動
物質と上記結合樹脂層と(成膜時のレベリング剤として
の)シリ、コン油とを有機溶媒に溶解して、ロールコー
ト法、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ブレード塗工法等
により導電性基板上等に成膜し、50〜200’Cで乾
燥硬化して膜厚5〜loopmの電荷移動層を形成する
。
電荷移動物質と樹脂結合剤比は、2/8乃至872重量
比であって、樹脂結合剤に対するシリコン油量は、0.
001重i%乃至1重量%である。
比であって、樹脂結合剤に対するシリコン油量は、0.
001重i%乃至1重量%である。
電荷発生層は、画像露光によって電荷を発生分離させる
ことを目的とする層である。本発明においては、電荷発
生層は、有機系染顔料、結晶セレンまたはセレン化ヒ素
を電荷発生物質とするものであり、有機系顔料としては
フタロシアニン系顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料
、ペリレン系顔料、スクアリック塩基染料、アズレニウ
ム塩系染料、キノン系縮合多環化合物等がある。ジスア
ゾ顔料およびトリスアゾ顔料の具体例を以下に示す。
ことを目的とする層である。本発明においては、電荷発
生層は、有機系染顔料、結晶セレンまたはセレン化ヒ素
を電荷発生物質とするものであり、有機系顔料としては
フタロシアニン系顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料
、ペリレン系顔料、スクアリック塩基染料、アズレニウ
ム塩系染料、キノン系縮合多環化合物等がある。ジスア
ゾ顔料およびトリスアゾ顔料の具体例を以下に示す。
顔」L励
顔」L勘
一一一へ一一一
顔」1題
顔」[沙
顔4[退
顔」LN
−^−
顔4L醜
顔4[退
6一
顔、lQ
A
〔
A−N=h−o−nc=uc−o−a+=cuQN=N
−A]顔4[製 一一一へ一一一 i 顔JLし 顔4L胸 A 顔4Lぬ 一6= これらの有機系染顔料は、樹脂中でまたは樹脂無しで有
機溶媒を加えてボールミル、サンドミル。
−A]顔4[製 一一一へ一一一 i 顔JLし 顔4L胸 A 顔4Lぬ 一6= これらの有機系染顔料は、樹脂中でまたは樹脂無しで有
機溶媒を加えてボールミル、サンドミル。
三本ロール、アトライター、超音波法等の上記と同様の
方法で分散して用いる。これら有機系染顔料を分散する
樹脂(結着剤)としては、電荷移動層で用いたものと同
様の樹脂を用いることが出来る。
方法で分散して用いる。これら有機系染顔料を分散する
樹脂(結着剤)としては、電荷移動層で用いたものと同
様の樹脂を用いることが出来る。
電荷発生層の形成は電荷移動層で行、なったと同様に成
膜及び乾燥し、膜厚0.05〜数−の電荷発生層を形成
する。
膜及び乾燥し、膜厚0.05〜数−の電荷発生層を形成
する。
結晶セレン又はセレン化ヒ素合金の粉末を用いた場合は
、電荷移動性結着剤及び/又は電荷移動有機化合物と併
用される。この様な電荷移動性物質としてはポリビニル
カルバゾール及びそのl[体(例えば、カルバゾール骨
格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基等
の置換基をイするもの)、ポリビニルピレン、オキサジ
アゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタン
、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化合
物などの窒素含有化合物及びジアリールメタン系化合物
等があるが、特にポリビニルカルバゾール及びその誘導
体が好ましい。またこれらの物質を混合して用いてもよ
い。混合して用いる場合もポリビニルカルバゾール及び
その誘導体に他の電荷移動性有機化合物を添加するのが
好ましい。
、電荷移動性結着剤及び/又は電荷移動有機化合物と併
用される。この様な電荷移動性物質としてはポリビニル
カルバゾール及びそのl[体(例えば、カルバゾール骨
格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基等
の置換基をイするもの)、ポリビニルピレン、オキサジ
アゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタン
、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化合
物などの窒素含有化合物及びジアリールメタン系化合物
等があるが、特にポリビニルカルバゾール及びその誘導
体が好ましい。またこれらの物質を混合して用いてもよ
い。混合して用いる場合もポリビニルカルバゾール及び
その誘導体に他の電荷移動性有機化合物を添加するのが
好ましい。
また接着性、可撓性等を向上させる目的で必要に応じて
有機系顔料と併用して用いた結着剤樹脂が使用出来る。
有機系顔料と併用して用いた結着剤樹脂が使用出来る。
この種の電荷発生物質の含有量は層全体の30〜90重
量%が適当である。また電荷発生物質を用いた場合の電
荷発生層の厚さは0.2−5−が適当である。
量%が適当である。また電荷発生物質を用いた場合の電
荷発生層の厚さは0.2−5−が適当である。
〔合成例1〕
撹拌機、温度計、還流冷却器を備えた反応容器にジメチ
ルホルムアミド200重量部を採り、窒素ガスを通気し
ながら80℃に加熱した。この中に、アゾビスイソブチ
ロニトリル 061部よりなる混合液を1時間に亘
って滴下した。次いで同温度で6時間撹拌を続け、反応
させた。反応終了後、イソプロピルエーテル中に投じ、
重合体を沈殿させ60℃で真空乾燥した。この様にして
得られた重合体をAとする。
ルホルムアミド200重量部を採り、窒素ガスを通気し
ながら80℃に加熱した。この中に、アゾビスイソブチ
ロニトリル 061部よりなる混合液を1時間に亘
って滴下した。次いで同温度で6時間撹拌を続け、反応
させた。反応終了後、イソプロピルエーテル中に投じ、
重合体を沈殿させ60℃で真空乾燥した。この様にして
得られた重合体をAとする。
〔合成例2〕
合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ、
共重合体(#4脂B)を得た。
共重合体(#4脂B)を得た。
実施例1
〔電荷移動層用塗工液〕
アゾビスイソブチロニトリル 0.重量部〔合成例
3〕 合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ、
共重合体(樹脂C)を得た。
3〕 合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ、
共重合体(樹脂C)を得た。
メチルメタクリレート
4旬刊量部
アゾビスイソブチロニトリル 0.11部〔実施例
〕 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
〕 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
テトラヒドロフラン 80〔電荷発生層
用塗工液〕 前記アゾ顔料Nα1とシクロヘキサノンを重量比1:1
6でボールミルポットに入れて、ステンレスポールを用
いて、48時間ボールミリングを行なった。
用塗工液〕 前記アゾ顔料Nα1とシクロヘキサノンを重量比1:1
6でボールミルポットに入れて、ステンレスポールを用
いて、48時間ボールミリングを行なった。
さらに等量のシクロヘキサノンを追加投入して24時間
ミリングした後、取り出した液を撹拌しながらシクロヘ
キサノンで希釈して、固形分濃度1重量%としたものを
電荷発生用塗工液とした。
ミリングした後、取り出した液を撹拌しながらシクロヘ
キサノンで希釈して、固形分濃度1重量%としたものを
電荷発生用塗工液とした。
スチレン20重量%、メチルメタクリレート30重量X
、アクリル酸25重量%、N−メチロールアクリルアミ
ド25重量%を含有する混合樹脂のトルエン/ブタノー
ル(9/1)溶液(固形分40重量%)30重量部とS
r+O□粉末12重量部;合成例1で得た樹脂A3重量
部及び適当量のトルエン/n−ブタノール9:1の混合
溶液とをボールミルで72時間分散して保護層用塗工液
とした。
、アクリル酸25重量%、N−メチロールアクリルアミ
ド25重量%を含有する混合樹脂のトルエン/ブタノー
ル(9/1)溶液(固形分40重量%)30重量部とS
r+O□粉末12重量部;合成例1で得た樹脂A3重量
部及び適当量のトルエン/n−ブタノール9:1の混合
溶液とをボールミルで72時間分散して保護層用塗工液
とした。
AQ抜板上前記電荷移動層用塗工液を6mm/ see
の引上速度で浸漬塗布し、120℃、30分間加熱乾燥
して膜厚20−の電荷移動層を設けた。さらにその上に
前記電荷発生層用塗工液を引上速度5mm/seeで浸
漬塗布し、120℃、20分間加熱乾燥して電荷発生層
を設けた。さらに、その上に前記保護層用塗工液をスプ
レー塗布して130℃30分加熱硬化して、膜厚5I1
1aの保護層を設け、感光体を作製した。
の引上速度で浸漬塗布し、120℃、30分間加熱乾燥
して膜厚20−の電荷移動層を設けた。さらにその上に
前記電荷発生層用塗工液を引上速度5mm/seeで浸
漬塗布し、120℃、20分間加熱乾燥して電荷発生層
を設けた。さらに、その上に前記保護層用塗工液をスプ
レー塗布して130℃30分加熱硬化して、膜厚5I1
1aの保護層を設け、感光体を作製した。
比較例1
実施例1の保護層から樹脂Aを除いたほかは実施例1と
同様にして感光体を作製した。
同様にして感光体を作製した。
実施例2
実施例1の電荷発生層中の顔料Nα1の代りに顔料Na
41を用いたほかは実施例1と同様にして感光体を作製
した。
41を用いたほかは実施例1と同様にして感光体を作製
した。
実施例3
実施例1の保護層中の樹脂Aを樹脂Bに代えたほかは実
施例1と同様にして感光体を作製した。
施例1と同様にして感光体を作製した。
実施例4
実施例1において、電荷発生層塗工液と保護層の間に
ナイロン樹脂(東し製、CM8000) 2重量
部メタノール 60重量部ブタ
ノール 38重量部から成る液
を引上速度3mm/seeで浸漬塗布して、120℃で
20分の加熱乾燥して、膜厚0.17mの中間層を設け
たほかは実施例1と同様にして感光体を作製した。
部メタノール 60重量部ブタ
ノール 38重量部から成る液
を引上速度3mm/seeで浸漬塗布して、120℃で
20分の加熱乾燥して、膜厚0.17mの中間層を設け
たほかは実施例1と同様にして感光体を作製した。
実施例5
実施例1において、保護層用塗工液を以下のものに代え
たほかは、実施例1と同様にして感光体を作製した。
たほかは、実施例1と同様にして感光体を作製した。
酸化スズ粉末 5重量部シクロへ
キサノン 70重量部から成る液をボ
ールミルで72時間分散し、シクロヘキサノンで希釈し
て固形分濃度を10重量ごとした。この液に樹脂Cを5
重量部添加して、撹拌混合したものを保護層用塗工液と
した。
キサノン 70重量部から成る液をボ
ールミルで72時間分散し、シクロヘキサノンで希釈し
て固形分濃度を10重量ごとした。この液に樹脂Cを5
重量部添加して、撹拌混合したものを保護層用塗工液と
した。
比較例2
実施例4において、保護層用塗工液から樹脂Aを除いた
ほかは実施例4と同様にして感光体を作成した。
ほかは実施例4と同様にして感光体を作成した。
以上のようにして作成した電子写真感光体を静電複写紙
試験装置(川口電機製作所製5P428型)を使用して
次の様にして電子写真特性を評価した。
試験装置(川口電機製作所製5P428型)を使用して
次の様にして電子写真特性を評価した。
まず、+6KVのコロナ帯電を20秒間行ない、次に暗
所に放置して表面電位が+800vになったところで、
4.5Luxのタングステン光を照射して、この時の帯
電開始後2秒の表面電位v2、光照射の際表面電位が+
400vになるのを必要な露光量5(Lux 5ee)
を測定した。また、この後、感光体に色温度2856”
にのタングステン光を100000Lux see照射
し、再び前記と同様にして、帯電電位V、/、露光量S
′を求めた。その結果を表1に示す。
所に放置して表面電位が+800vになったところで、
4.5Luxのタングステン光を照射して、この時の帯
電開始後2秒の表面電位v2、光照射の際表面電位が+
400vになるのを必要な露光量5(Lux 5ee)
を測定した。また、この後、感光体に色温度2856”
にのタングステン光を100000Lux see照射
し、再び前記と同様にして、帯電電位V、/、露光量S
′を求めた。その結果を表1に示す。
表1
また作成した感光体を肉厚3mm、110φX 340
m+sのAMドラムに張りつけて、FT4060(wI
リコー製複写機)に塔載して画像出しを行ない、さらに
画像出しを10000回繰返した。その結果を表2に示
す。
m+sのAMドラムに張りつけて、FT4060(wI
リコー製複写機)に塔載して画像出しを行ない、さらに
画像出しを10000回繰返した。その結果を表2に示
す。
表2
〔効 果〕
本発明の電子写真感光体は、前記構成からなり、保ff
l/lとして前記特定樹脂を分散させたものを用いたこ
とから、高感度であるとともに前露光疲労による帯電性
の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し後
においても帯電特性が劣化せず、かつ残留電位の上昇が
少ないという顕著な作用効果を有する。
l/lとして前記特定樹脂を分散させたものを用いたこ
とから、高感度であるとともに前露光疲労による帯電性
の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し後
においても帯電特性が劣化せず、かつ残留電位の上昇が
少ないという顕著な作用効果を有する。
特許出願人 株式会社 リ コ
Claims (1)
- (1)表面に保護層を有する電子写真感光体において、
該保護層に下記一般式( I )で示される単量体からな
る重合体及び/又は該一般式( I )で示される単量体
と他の共重合し得る化合物との共重合体を含有させたこ
とを特徴とする電子写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子又はメチル基を、R_2は水
素原子、低級アルキル基あるいは置換又は未置換のアリ
ール基を、またnは2〜100の整数を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21455488A JPH0262555A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21455488A JPH0262555A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0262555A true JPH0262555A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16657646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21455488A Pending JPH0262555A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0262555A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21455488A patent/JPH0262555A/ja active Pending
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