JPS63309966A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は電荷注入防止性中間層を有する電子写真感光体
の改良に関する。
の改良に関する。
従来、導電性基体上に感光層を設けた一般的な電子写真
感光体、特に感光層が電荷発生層と電荷移動層とから構
成される積層型電子写真感光体に高帯電性、高感度及び
低残留電位性を付与する為、種々の試みがなされて来た
。その1つとして、高感度の電荷発生層中へ帯電時に導
電性基体側から帯電々荷と逆極性の電荷が注入するのを
防止する為の中間層を設けることが提案された0例えば
、特開昭47−6341号、同48−3544号及び同
48−12034号には硝酸セルロース系樹脂中間層が
、特開昭48−47344号、同52−25638号、
同58−30757号、同58−63945号、同58
−95351号、同5B−98739号、同6〇−66
258号及び同61−110153号にはポリアミド系
樹脂中間層が、特開昭48−26141号には酢酸ビニ
ル系樹脂中間層が、特開昭49−69332号及び52
−10138号にはマレイン酸系樹脂中間層が、そして
特開昭58−105155号にはポリビニルアルコール
系中間層がそれぞれ開示されている。
感光体、特に感光層が電荷発生層と電荷移動層とから構
成される積層型電子写真感光体に高帯電性、高感度及び
低残留電位性を付与する為、種々の試みがなされて来た
。その1つとして、高感度の電荷発生層中へ帯電時に導
電性基体側から帯電々荷と逆極性の電荷が注入するのを
防止する為の中間層を設けることが提案された0例えば
、特開昭47−6341号、同48−3544号及び同
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258号及び同61−110153号にはポリアミド系
樹脂中間層が、特開昭48−26141号には酢酸ビニ
ル系樹脂中間層が、特開昭49−69332号及び52
−10138号にはマレイン酸系樹脂中間層が、そして
特開昭58−105155号にはポリビニルアルコール
系中間層がそれぞれ開示されている。
しかしながら、従来公知の中間層を設けた感光体におい
ては、繰り返し使用した場合、帯電電位の立ち上がりが
遅く、また帯電特性も劣化するため、画像濃度が低下し
、また特に反転現像の場合には地汚れを生じるという難
点があった。
ては、繰り返し使用した場合、帯電電位の立ち上がりが
遅く、また帯電特性も劣化するため、画像濃度が低下し
、また特に反転現像の場合には地汚れを生じるという難
点があった。
本発明の目的は、繰返し使用しても高感度を維持し、帯
電特性が劣化せず、したがって画像濃度の低下や地汚れ
を生じない良好な画像を与える電子写真感光体を提供す
ることにある。
電特性が劣化せず、したがって画像濃度の低下や地汚れ
を生じない良好な画像を与える電子写真感光体を提供す
ることにある。
本発明によれば、導電性基体上に中間層及び感光層を順
次設けた電子写真用感光体において、中間層に下記一般
式で示される単量体からなる重合体及び/又は下記一般
式で示される単量体と他の共重合し得る化合物との共重
合体化合物を含有させたことを特徴とする電子写真用感
光体が提供される。
次設けた電子写真用感光体において、中間層に下記一般
式で示される単量体からなる重合体及び/又は下記一般
式で示される単量体と他の共重合し得る化合物との共重
合体化合物を含有させたことを特徴とする電子写真用感
光体が提供される。
(ただし、R1は水素原子又はメチル基を、R2は水素
原子、低級アルキル基あるいは置換又は非置換のアリー
ル基を nは2〜100の整数を表わす、) 本発明の電子写真用感光体は、中間層の主成分として、
少くとも前記一般式(I)で示弯れる単量体からなる重
合体もしくはその共重合体化合物を含有させたことから
、繰返し使用しても、従来のもののように帯電特性が劣
化しないので、画像濃度の低下や地汚れのない鮮明な複
写画像を与える。
原子、低級アルキル基あるいは置換又は非置換のアリー
ル基を nは2〜100の整数を表わす、) 本発明の電子写真用感光体は、中間層の主成分として、
少くとも前記一般式(I)で示弯れる単量体からなる重
合体もしくはその共重合体化合物を含有させたことから
、繰返し使用しても、従来のもののように帯電特性が劣
化しないので、画像濃度の低下や地汚れのない鮮明な複
写画像を与える。
以下、本発明を詳述する。
本発明の感光体の基本的な構成は、第1図に示す様に導
電性基体l上に電荷注入防止性中間層2及び単層型感光
層3を設けたものと第2図に示す様に導電性基体1上に
電荷注入防止性中間層2及び電荷発生層4及び電荷移動
層5からなる積層型感光層3′を設けたものである。
電性基体l上に電荷注入防止性中間層2及び単層型感光
層3を設けたものと第2図に示す様に導電性基体1上に
電荷注入防止性中間層2及び電荷発生層4及び電荷移動
層5からなる積層型感光層3′を設けたものである。
次に本発明で用いられる各構成材料について説明する。
導電性基体とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側に供
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
6Ωcm以下で、かつ中間層、電荷発生および電荷移動
層の成膜条件に耐えられるものを使用することができる
。これらの例としては、A Q 、 Ni、 Cr、
Zn、ステンレス等の電気伝導性の金属および合金並び
にガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリエ
ステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、
紙等の有機絶縁性物質の表面を、真空蒸着、スパッタリ
ング、吹付塗装等の方法によって、AQ 、 Ni、C
r%Zn、ステンレス、炭素、SnO□、In、 O,
等の電気導電性物質を被服して導電処理を行なったもの
等があげられる。
給することを目的とするものであって、電気抵抗が10
6Ωcm以下で、かつ中間層、電荷発生および電荷移動
層の成膜条件に耐えられるものを使用することができる
。これらの例としては、A Q 、 Ni、 Cr、
Zn、ステンレス等の電気伝導性の金属および合金並び
にガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポリエ
ステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、
紙等の有機絶縁性物質の表面を、真空蒸着、スパッタリ
ング、吹付塗装等の方法によって、AQ 、 Ni、C
r%Zn、ステンレス、炭素、SnO□、In、 O,
等の電気導電性物質を被服して導電処理を行なったもの
等があげられる。
電荷注入防止性中間層は感光体の帯電時に導電性基体か
ら感光層への電荷注入を阻止して帯電性を保ち、かつ感
光体露光時には感光層で発生した電荷の一方即ち導電性
基体側に阻止されている電荷とは反対極性の電荷を導電
性基体側へ移動させる作用を有する。特に感光層が高感
度の場合には感光層の帯電性が悪くなるので必要である
1本発明においては、該中間層に前記重合体及び/又は
その共重合体化合物を含有させる。
ら感光層への電荷注入を阻止して帯電性を保ち、かつ感
光体露光時には感光層で発生した電荷の一方即ち導電性
基体側に阻止されている電荷とは反対極性の電荷を導電
性基体側へ移動させる作用を有する。特に感光層が高感
度の場合には感光層の帯電性が悪くなるので必要である
1本発明においては、該中間層に前記重合体及び/又は
その共重合体化合物を含有させる。
前記重合体化合物を構成する単量体としては、例えば下
記に示される化合物が挙げられる。
記に示される化合物が挙げられる。
〔一般式(1)で示される単量体の例〕〔一般式(1)
の単量体と共重合可能な単量体の例〕必要に応じて共重
合させられる他の付加重合性不飽和化合物は、例えばア
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニ
ルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロト
ン酸エステル類などがあり、付加重合性不飽和結合を1
個有する化合物から選ばれる。具体的には、例えばアク
リル酸エステル類、例えばアルキルアクリレート(例え
ばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プ
ロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリ
ル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−
とドロキシスチレンアクリレート、2,2−ジメチルヒ
ドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレ
ート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシ
ジルアクリレート、メタグリシジルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、シクロへキシルアクリレー
ト、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエ
チルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、
2−フェノキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート
、ジー(n−ブチル)アミノエチルアクリレート、ジー
(t−ブチル)アミノエチルアクリレート、N−(t−
ブチル)アミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアク
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど);
アリールアクリレート(例えばフェニルアクリレートな
ど);メタクリル酸エステル酸、例えば、アルキルメタ
アクリレート(例えばメチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタ
クリレート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オク
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシスチレ
ンメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−
ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ト
リメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリ
スリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、メタグリシジルメタクリレート、トリフロロエチ
ルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート
、2−エトキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエ
チルメタクリレート、2−フェノキシエチルメタクリレ
ート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチル
アミノエチルメタクリレート、ジー(n−ブチル)アミ
ノエチルメタクリレート、ジー(t−ブチル)アミノエ
チルメタクリレート、N−(t−ブチル)アミノエチル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタアクリレートなど)、アリールメタ
クリレート(例えば、フェニルメタクリレートなど)ニ
アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキ
ルアクリルアミド(該アルキル基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基
、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロ
キシエチル基、ベンジル基などがある。)、N−アリー
ルアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェ
ニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒ
ドロキシフェニル基などがある。)、N、N−ジアルキ
ルアクリルアミド(該アルキル基としては、メチル基、
エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基
、シクロヘキシル基などがある。)、N、N−ジアリー
ルアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェ
ニル基などがある。)、N−メチル−N−フェニルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリ
ルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチル
アクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例えばメタ
クリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド(該アル
キル基としては、メチル基、エチル基、t−ブチル基、
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシ
ル基などがある)、N−アリールメタクリルアミド(該
アリール基としては、フェニル基などがある。)、N、
N−ジアルキルメタクリルアミド(該アルキル基として
は、エチル基、プロピル基、ブチル基などがある。)、
N、N−ジアリールメタクリルアミド(該アリール基と
しては、フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシエ
チル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N
−フェニルメタクリルアミドなど;アリル化合物1例え
ばアリルエステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸ア
リル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチ
ン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、ア
セトン酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエ
タノールなど;ビニルエーテル類、例えばアルキルビニ
ルエーテル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エト
キシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテ
ル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエー
テル、2−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビ
ニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、
ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノ
エチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエー
テル、ベンジルビ゛ニルエーテル、テトラヒドロフルフ
リルビニルエーテルなど)、ビニルアリールエーテル(
例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル
、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジ
クロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビ
ニルアントラニルエーテルなど);ビニルエステル類、
例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロへキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン類、例え
ばスチレン、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン
、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチ
レン、ジェチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチル
スチレン、トリフルオルメチルスチレン。
の単量体と共重合可能な単量体の例〕必要に応じて共重
合させられる他の付加重合性不飽和化合物は、例えばア
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニ
ルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロト
ン酸エステル類などがあり、付加重合性不飽和結合を1
個有する化合物から選ばれる。具体的には、例えばアク
リル酸エステル類、例えばアルキルアクリレート(例え
ばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プ
ロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリ
ル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−
とドロキシスチレンアクリレート、2,2−ジメチルヒ
ドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレ
ート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシ
ジルアクリレート、メタグリシジルアクリレート、トリ
フロロエチルアクリレート、シクロへキシルアクリレー
ト、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエ
チルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、
2−フェノキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート
、ジー(n−ブチル)アミノエチルアクリレート、ジー
(t−ブチル)アミノエチルアクリレート、N−(t−
ブチル)アミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアク
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど);
アリールアクリレート(例えばフェニルアクリレートな
ど);メタクリル酸エステル酸、例えば、アルキルメタ
アクリレート(例えばメチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタ
クリレート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オク
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシスチレ
ンメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−
ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ト
リメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリ
スリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、メタグリシジルメタクリレート、トリフロロエチ
ルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート
、2−エトキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエ
チルメタクリレート、2−フェノキシエチルメタクリレ
ート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチル
アミノエチルメタクリレート、ジー(n−ブチル)アミ
ノエチルメタクリレート、ジー(t−ブチル)アミノエ
チルメタクリレート、N−(t−ブチル)アミノエチル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタアクリレートなど)、アリールメタ
クリレート(例えば、フェニルメタクリレートなど)ニ
アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキ
ルアクリルアミド(該アルキル基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基
、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロ
キシエチル基、ベンジル基などがある。)、N−アリー
ルアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェ
ニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒ
ドロキシフェニル基などがある。)、N、N−ジアルキ
ルアクリルアミド(該アルキル基としては、メチル基、
エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基
、シクロヘキシル基などがある。)、N、N−ジアリー
ルアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェ
ニル基などがある。)、N−メチル−N−フェニルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリ
ルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチル
アクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例えばメタ
クリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド(該アル
キル基としては、メチル基、エチル基、t−ブチル基、
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシ
ル基などがある)、N−アリールメタクリルアミド(該
アリール基としては、フェニル基などがある。)、N、
N−ジアルキルメタクリルアミド(該アルキル基として
は、エチル基、プロピル基、ブチル基などがある。)、
N、N−ジアリールメタクリルアミド(該アリール基と
しては、フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシエ
チル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N
−フェニルメタクリルアミドなど;アリル化合物1例え
ばアリルエステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸ア
リル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチ
ン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、ア
セトン酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエ
タノールなど;ビニルエーテル類、例えばアルキルビニ
ルエーテル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エト
キシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテ
ル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエー
テル、2−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビ
ニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、
ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノ
エチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエー
テル、ベンジルビ゛ニルエーテル、テトラヒドロフルフ
リルビニルエーテルなど)、ビニルアリールエーテル(
例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル
、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジ
クロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビ
ニルアントラニルエーテルなど);ビニルエステル類、
例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロへキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど;スチレン類、例え
ばスチレン、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン
、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチ
レン、ジェチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチル
スチレン、トリフルオルメチルスチレン。
エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、
4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロルスチレン、
ジブロムスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロル
スチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジ
ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、
トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオル
メチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチ
ルスチレンなど):クロトン酸エステル類、例えば、ク
ロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネートなど):イタ
コン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸ジメチル、イタ
コン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど):マレイン
酸あるいはフマール酸のジアルキル類(例えばジメチル
マレレート、ジブチルフマレートなど)等がある。その
他、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸なども用いることができる。ただし1
分子に2個以上の重合性ビニル基を有する多官能付加重
合性不飽和重合物は望ましくない。
ど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、
4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロルスチレン、
ジブロムスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロル
スチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジ
ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、
トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオル
メチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチ
ルスチレンなど):クロトン酸エステル類、例えば、ク
ロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネートなど):イタ
コン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸ジメチル、イタ
コン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど):マレイン
酸あるいはフマール酸のジアルキル類(例えばジメチル
マレレート、ジブチルフマレートなど)等がある。その
他、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸なども用いることができる。ただし1
分子に2個以上の重合性ビニル基を有する多官能付加重
合性不飽和重合物は望ましくない。
本発明の中間層は、前記重合体及びl又は共重合体化合
物を主成分とするものであるが、必要に応じこの種の中
間層に慣用されている樹脂を併用することもできる。こ
のような樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリ
スチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリアクリ
レート、ポリ塩化ビニル等の熱可塑性樹脂の他、フェノ
ール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹
脂、あるいは光硬化性樹脂が例示される。また、中間層
中にはSnO,、sb、 o3等の導電性粉体及び/又
はZnO1ZnS、 TiO□等の白色顔料を含有させ
ることもできる。導電性基板上への中間層の形成はロー
ルコート法、浸漬塗工法、スプレー塗工法。
物を主成分とするものであるが、必要に応じこの種の中
間層に慣用されている樹脂を併用することもできる。こ
のような樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリ
スチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリアクリ
レート、ポリ塩化ビニル等の熱可塑性樹脂の他、フェノ
ール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹
脂、あるいは光硬化性樹脂が例示される。また、中間層
中にはSnO,、sb、 o3等の導電性粉体及び/又
はZnO1ZnS、 TiO□等の白色顔料を含有させ
ることもできる。導電性基板上への中間層の形成はロー
ルコート法、浸漬塗工法、スプレー塗工法。
ブレード塗工法等により成膜を行ない、50〜200℃
で乾燥又は硬化して膜厚0.05〜10μm、好ましく
は0.2〜2μmの膜とする。
で乾燥又は硬化して膜厚0.05〜10μm、好ましく
は0.2〜2μmの膜とする。
本発明における感光層は、第1図のような単層型でも第
2図に示されるような積層型のいずれでも良い。
2図に示されるような積層型のいずれでも良い。
単層型の感光層とは電荷発生と電荷移動の両方の機能を
1つの層にもつものであり、画像露光によって電荷潜像
を形成させることを目的とする層である。
1つの層にもつものであり、画像露光によって電荷潜像
を形成させることを目的とする層である。
この種の感光層は色素増感された酸化亜鉛、酸化チタン
、硫化亜鉛等の光導電性粉体、無定形シリコン粉体、結
晶セレン粉体、フタロシアニン顔料、アゾ顔料と結着剤
樹脂とをまた必要に応じて後述する電荷移動物質と共に
中間層上に形成される。結着剤樹脂としては後述する積
層型感光層と同様のものが使用される。またピリリウム
系染料とビスフェノールA系ポリカーボネートから形成
される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感光
層も使用出来る。厚さは5〜30μmが適当である。
、硫化亜鉛等の光導電性粉体、無定形シリコン粉体、結
晶セレン粉体、フタロシアニン顔料、アゾ顔料と結着剤
樹脂とをまた必要に応じて後述する電荷移動物質と共に
中間層上に形成される。結着剤樹脂としては後述する積
層型感光層と同様のものが使用される。またピリリウム
系染料とビスフェノールA系ポリカーボネートから形成
される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感光
層も使用出来る。厚さは5〜30μmが適当である。
また、積層型感光層における電荷発生層は、画像露光に
よって電荷を発生分離させることを目的とする層である
1本発明においては、電荷発生層は、有機系染顔料、結
晶セレンまたはセレン化ヒ素を電荷発生物質とするもの
であり、有機系顔料としてはフタロシアニン系顔料、ジ
スアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、スクア
リック塩基染料、アズレニウム塩系染料、キノン系縮合
多環化合物等がある。ジスアゾ顔料およびトリスアゾ顔
料の具体例を以下に示す。
よって電荷を発生分離させることを目的とする層である
1本発明においては、電荷発生層は、有機系染顔料、結
晶セレンまたはセレン化ヒ素を電荷発生物質とするもの
であり、有機系顔料としてはフタロシアニン系顔料、ジ
スアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、スクア
リック塩基染料、アズレニウム塩系染料、キノン系縮合
多環化合物等がある。ジスアゾ顔料およびトリスアゾ顔
料の具体例を以下に示す。
Br
顔41文 −n
これらの有機系染顔料は、樹脂中でまたは樹脂無しで有
機溶媒を加えてボールミル、サンドミル。
機溶媒を加えてボールミル、サンドミル。
三本ロール、アトライター、超音波法等の方法で分散し
て用いる。これら有機系染顔料を分散する樹脂(結着剤
)としてはたとえばポリアミド、ポリウレタン、ポリエ
ステル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテ
ルなどの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリNビニルカルバゾール
、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタ、ジエン共重
合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体
および共重合体があげられ、絶縁性と接着性が要
−求される。上記と同様の分散手段で分散し、中間層
と同様の方法で中間層上に成膜および乾燥して膜厚0.
05μ■及至数μmの電荷発生層を形成する。
て用いる。これら有機系染顔料を分散する樹脂(結着剤
)としてはたとえばポリアミド、ポリウレタン、ポリエ
ステル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテ
ルなどの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリNビニルカルバゾール
、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタ、ジエン共重
合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体
および共重合体があげられ、絶縁性と接着性が要
−求される。上記と同様の分散手段で分散し、中間層
と同様の方法で中間層上に成膜および乾燥して膜厚0.
05μ■及至数μmの電荷発生層を形成する。
有機系染顔料の含有量は60重量%及至100重量%が
好ましい。
好ましい。
結晶セレン又はセレン化ヒ素合金の粉末を用いた場合は
、電荷移動性結着剤及び/又は電荷移動性有機化合物と
併用される。この様な電荷移動性物質としてはポリビニ
ルカルバゾール及びその誘導体(例えば、カルバゾール
骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基
等の置換基を有するもの)、ポリビニルピレン、オキサ
ジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタ
ン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化
合物などの窒素含有化合物及びジアリールメタン系化合
物等があるが、特にポリビニルカルバゾール及びその誘
導体が好ましい、またこれらの物質を混合して用いても
良い、混合して用いる場合もポリビニルカルバゾール及
びその誘導体に他の電荷移動性有機化合物を添加するの
が好ましい。また接着性、可撓性等を向上させる目的で
必要に応じて有機系顔料と併用して用いた結着剤樹脂が
使用出来る。この種の電荷発生物質の含有量は層全体の
30〜90重量2が適当である。また電荷発生物質を用
いた場合の電荷発生層の厚さは0.2−5μmが適当で
ある。
、電荷移動性結着剤及び/又は電荷移動性有機化合物と
併用される。この様な電荷移動性物質としてはポリビニ
ルカルバゾール及びその誘導体(例えば、カルバゾール
骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基
等の置換基を有するもの)、ポリビニルピレン、オキサ
ジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタ
ン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化
合物などの窒素含有化合物及びジアリールメタン系化合
物等があるが、特にポリビニルカルバゾール及びその誘
導体が好ましい、またこれらの物質を混合して用いても
良い、混合して用いる場合もポリビニルカルバゾール及
びその誘導体に他の電荷移動性有機化合物を添加するの
が好ましい。また接着性、可撓性等を向上させる目的で
必要に応じて有機系顔料と併用して用いた結着剤樹脂が
使用出来る。この種の電荷発生物質の含有量は層全体の
30〜90重量2が適当である。また電荷発生物質を用
いた場合の電荷発生層の厚さは0.2−5μmが適当で
ある。
電荷発生層の上に設けられる電荷移動層は、帯電電荷を
その表面に保持させ、また、露光により電荷発生層で発
生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結
合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持さ
せる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、
また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成
するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いこ
とが要求される。これらの要件を満足させるべく、有機
電荷移動物質を有効成分として含有する有機電荷移動層
が用いられる。有機電荷移動物質としては、たとえば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール系化合物、ピラゾリン系
化合物、α−フェニルスチレンベン系化合物、ヒドラゾ
ン系化合物、ジアリールメタン系化合物、トリフェニル
アミン系化合物、ジビニルベンゼン系化合物、フルオレ
イン系化合物、アントラセン系化合物、オキサジアゾー
ル系化合物、ジアミノカルバゾール系化合物など従来知
られている化合物を使用することができる。
その表面に保持させ、また、露光により電荷発生層で発
生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結
合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持さ
せる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、
また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成
するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いこ
とが要求される。これらの要件を満足させるべく、有機
電荷移動物質を有効成分として含有する有機電荷移動層
が用いられる。有機電荷移動物質としては、たとえば、
ポリ−N−ビニルカルバゾール系化合物、ピラゾリン系
化合物、α−フェニルスチレンベン系化合物、ヒドラゾ
ン系化合物、ジアリールメタン系化合物、トリフェニル
アミン系化合物、ジビニルベンゼン系化合物、フルオレ
イン系化合物、アントラセン系化合物、オキサジアゾー
ル系化合物、ジアミノカルバゾール系化合物など従来知
られている化合物を使用することができる。
ポリビニルカルバゾール等の重合体以外のこれら有機電
荷移動物質は、前述の電荷発生層の結着剤として示した
ものと同様の樹脂へ配合して用いられる。ただし、電荷
発生層で使用される樹脂と電荷移動層で使用される樹脂
とが同じである必要はない。またこれらには、必要に応
じて可塑剤が配合される。こうした可塑剤としては、例
えばハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジル
ホスフェート等やポリエステル等の重合体及び共重合体
などがあげられる。電荷移動物質と上記結合剤樹脂と(
成膜時のレベリング剤としての)シリコン油とを有機溶
媒に溶解して、中間層および電荷発生層と同様の方法で
成膜および乾燥して、腹膜5μm1至100μ―の電荷
移動層を電荷発生層上に形成する。電荷移動物質と樹脂
結合剤比は、2/8及至8/2重量比であって、樹脂結
合剤に対するシリコン油量は、0.001重量%及至1
重量%である。
荷移動物質は、前述の電荷発生層の結着剤として示した
ものと同様の樹脂へ配合して用いられる。ただし、電荷
発生層で使用される樹脂と電荷移動層で使用される樹脂
とが同じである必要はない。またこれらには、必要に応
じて可塑剤が配合される。こうした可塑剤としては、例
えばハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジル
ホスフェート等やポリエステル等の重合体及び共重合体
などがあげられる。電荷移動物質と上記結合剤樹脂と(
成膜時のレベリング剤としての)シリコン油とを有機溶
媒に溶解して、中間層および電荷発生層と同様の方法で
成膜および乾燥して、腹膜5μm1至100μ―の電荷
移動層を電荷発生層上に形成する。電荷移動物質と樹脂
結合剤比は、2/8及至8/2重量比であって、樹脂結
合剤に対するシリコン油量は、0.001重量%及至1
重量%である。
本発明の電子写真用感光体は、中間層の主成分として、
前記一般式(1)で示される単量体からなる重合体及び
/又はその共重合体化合物を用いたことから、繰返し使
用しても帯電特性が劣化しないため、画像濃度の低下や
地汚れを生じない鮮明な複写画像を与える。
前記一般式(1)で示される単量体からなる重合体及び
/又はその共重合体化合物を用いたことから、繰返し使
用しても帯電特性が劣化しないため、画像濃度の低下や
地汚れを生じない鮮明な複写画像を与える。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
〔合成例1〕
撹拌機、温度計、還流冷却器を備えた反応容器にジメチ
ルホルムアミド200重量部を採り、窒素ガスを通気し
ながら80℃に加熱した。この中にアゾビスイソブチロ
ニトリル 0.2重量部よりなる混合液を1時間に
亘って滴下した。次いで同温度で6時間撹拌を続け、反
応させた。
ルホルムアミド200重量部を採り、窒素ガスを通気し
ながら80℃に加熱した。この中にアゾビスイソブチロ
ニトリル 0.2重量部よりなる混合液を1時間に
亘って滴下した。次いで同温度で6時間撹拌を続け、反
応させた。
反応終了後、イソプロピルエーテル中に投じ重合体を沈
殿させ、60℃で真空乾燥した。この様にして得られた
重合体を樹脂Aとする。
殿させ、60℃で真空乾燥した。この様にして得られた
重合体を樹脂Aとする。
〔合成例2〕
合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ、
共重合体(樹脂B)を得た。
共重合体(樹脂B)を得た。
アゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部〔合成
例3〕 合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ共
重合体(樹脂C)を得た。
例3〕 合成例1と同様な方法で下記組成の単量体を反応させ共
重合体(樹脂C)を得た。
2−スルホエチルメタクリレート 25重量部ア
ゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部〔合成例
4〕 合成例1と同様の方法で下記組成の単量体を反応させ共
重合体(樹脂D)を得た。
ゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部〔合成例
4〕 合成例1と同様の方法で下記組成の単量体を反応させ共
重合体(樹脂D)を得た。
メタクリル酸 4重量部2−メタク
リロキシエチルアシッドフォスフェート15重量部 2−メタクリロキシエチルフタル酸 14重量部ア
ゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部実施例1 ナイロン樹脂(東し■製、CM−8000) 4
Ifメタノール 60〃ブタ
ノール 32〃上記混合物を
混合して中間層用塗工液とした。
リロキシエチルアシッドフォスフェート15重量部 2−メタクリロキシエチルフタル酸 14重量部ア
ゾビスイソブチロニトリル 0.2重量部実施例1 ナイロン樹脂(東し■製、CM−8000) 4
Ifメタノール 60〃ブタ
ノール 32〃上記混合物を
混合して中間層用塗工液とした。
cmのステンレスポールと400gのシクロヘキサノン
と25gの前記アゾ顔料Notを投入して48時間混合
した。さらに400gのシクロヘキサノンを追加投入し
てさらに24時間混合した後、取出した分散溶液800
gを撹拌しながらメチルエチルケトン800gを滴下し
て電荷発生層用塗工液とした。
と25gの前記アゾ顔料Notを投入して48時間混合
した。さらに400gのシクロヘキサノンを追加投入し
てさらに24時間混合した後、取出した分散溶液800
gを撹拌しながらメチルエチルケトン800gを滴下し
て電荷発生層用塗工液とした。
テトラヒドロフラン 80重量部つぎに
、AQ蒸着した10(lμ鴇厚のPETフィルム(東し
■製ルミラー)の表面にドクターブレードで前記中間層
用塗工液を塗工し、120℃で10分間加熱乾燥を行な
って膜厚1μmの中間層を設けた。ついで、この中間層
の上に前記電荷発生層用塗工液をブレードで塗工し、1
20℃で10分間加熱乾燥して、膜厚0.1μmの電荷
発生層を形成し、さらにその上に前記電荷移動層用塗工
液をブレードで塗工し、120℃で20分間加熱乾燥し
、膜厚20μ扉の電荷移動層を形成し、実施例1の電子
写真用感光体を作成した。
、AQ蒸着した10(lμ鴇厚のPETフィルム(東し
■製ルミラー)の表面にドクターブレードで前記中間層
用塗工液を塗工し、120℃で10分間加熱乾燥を行な
って膜厚1μmの中間層を設けた。ついで、この中間層
の上に前記電荷発生層用塗工液をブレードで塗工し、1
20℃で10分間加熱乾燥して、膜厚0.1μmの電荷
発生層を形成し、さらにその上に前記電荷移動層用塗工
液をブレードで塗工し、120℃で20分間加熱乾燥し
、膜厚20μ扉の電荷移動層を形成し、実施例1の電子
写真用感光体を作成した。
比較例1
実施例1の中間層用塗工液から樹脂^を除いた以外は実
施例1と同様にして比較例1の電子写真用感光体を作成
した。
施例1と同様にして比較例1の電子写真用感光体を作成
した。
実施例2
実施例1において、中間層用塗工液を下記のものに代え
た以外は実施例1と同様にして実施例2の電子写真用感
光体を作成した。
た以外は実施例1と同様にして実施例2の電子写真用感
光体を作成した。
樹脂C4重量部
メタノール 41 11水
41
II比較例2 実施例2の中間層用塗工液から樹脂Cを除いた以外は実
施例2と同様にして比較例2の電子写真用感光体を作成
した。
41
II比較例2 実施例2の中間層用塗工液から樹脂Cを除いた以外は実
施例2と同様にして比較例2の電子写真用感光体を作成
した。
実施例3
実施例1において、中間層用塗工液を下記のものに代え
た以外は、実施例1と同様にして実施例3の電子写真用
感光体を作成した。
た以外は、実施例1と同様にして実施例3の電子写真用
感光体を作成した。
樹脂8 4重量部ナイロン
樹脂(東し■製、CM−8000) 4重量部メタ
ノール 60〃ブタノール
321!実施例4 実施例1において、電荷移動物質を、 に代えたほかは実施例1と同様にして実施例4の電子写
真用感光体を作成した。
樹脂(東し■製、CM−8000) 4重量部メタ
ノール 60〃ブタノール
321!実施例4 実施例1において、電荷移動物質を、 に代えたほかは実施例1と同様にして実施例4の電子写
真用感光体を作成した。
比較例3
実施例4の中間層用塗工液から樹脂Aを除いたほかは実
施例4と同様にして比較例3の電子写真用感光体を作成
した。
施例4と同様にして比較例3の電子写真用感光体を作成
した。
実施例5
樹脂A 5重量部ナイロ
ン樹脂(東し@製、CM−8000) 5 II
酸化スズ微粉 5 〃酸化チタン
粉末 3 〃メタノール
40重量部から成る液をボールミルで
72時間分散し、次にメタノール/ブタノール(20/
30重量部)の混合溶媒で稀釈して再びボールミルで4
8時間処理した。
ン樹脂(東し@製、CM−8000) 5 II
酸化スズ微粉 5 〃酸化チタン
粉末 3 〃メタノール
40重量部から成る液をボールミルで
72時間分散し、次にメタノール/ブタノール(20/
30重量部)の混合溶媒で稀釈して再びボールミルで4
8時間処理した。
この液を中間層用塗工液としたほかは実施例1と同様に
して実施例5の電子写真用感光体を作成した。
して実施例5の電子写真用感光体を作成した。
実施例6
樹脂A 48重量部酸化
スズ微粉 48〃トリレンジイソ
シアネート 14.5 IIシクロへキサノン
552〃メチルエチルケトン
130〃から成る液を中間層用塗工液とし、
中間層塗工後、130℃で1時間の加熱処理を行なった
ほかは実施例1と同様にして実施例6の電子写真用感光
体を作成した。
スズ微粉 48〃トリレンジイソ
シアネート 14.5 IIシクロへキサノン
552〃メチルエチルケトン
130〃から成る液を中間層用塗工液とし、
中間層塗工後、130℃で1時間の加熱処理を行なった
ほかは実施例1と同様にして実施例6の電子写真用感光
体を作成した。
以上のようにして作成した電子写真感光体を静重複写紙
試験装置(川口電機製作新製SP42g型)を使用して
次の様にして電子写真特性を評価した。
試験装置(川口電機製作新製SP42g型)を使用して
次の様にして電子写真特性を評価した。
まず、−6KVのコロナ帯電を20秒間行ない、次に暗
所に放置して表面電位が一800■になったところで、
4.51uxのタングステン光を照射して、この時の帯
電開始後2秒の表面電位v2、光照射の際表面電位が一
400vになるのを必要な露光量5(lux 5ee)
を測定した。また、この後、感光体に色温度2856°
にのタングステン光を1000001ux see照射
し、再び前記と同様にして、帯電電位■2′、露光量S
′を求めた。
所に放置して表面電位が一800■になったところで、
4.51uxのタングステン光を照射して、この時の帯
電開始後2秒の表面電位v2、光照射の際表面電位が一
400vになるのを必要な露光量5(lux 5ee)
を測定した。また、この後、感光体に色温度2856°
にのタングステン光を1000001ux see照射
し、再び前記と同様にして、帯電電位■2′、露光量S
′を求めた。
一表−1
実施例7
肉厚3■、80φX 340mmのAQトドラム上実施
例1と同様の中間層用塗工液を浸漬塗工し、130℃2
0分の加熱乾燥を行なって、膜厚1μ重め中間層を形成
した。さらに、この上に、実施例1と同様の電
−荷発生層用塗工液を浸漬塗工し、130℃20分加熱
乾燥して0.1μmの電荷発生層を設けた。さらにこの
上に電荷移動層用塗工液を浸漬塗工し、130℃30分
の加熱乾燥を行なって膜厚20μ腫の電荷移動層を得た
。
例1と同様の中間層用塗工液を浸漬塗工し、130℃2
0分の加熱乾燥を行なって、膜厚1μ重め中間層を形成
した。さらに、この上に、実施例1と同様の電
−荷発生層用塗工液を浸漬塗工し、130℃20分加熱
乾燥して0.1μmの電荷発生層を設けた。さらにこの
上に電荷移動層用塗工液を浸漬塗工し、130℃30分
の加熱乾燥を行なって膜厚20μ腫の電荷移動層を得た
。
この様にして作成した感光体ドラムを帯電と転写チャー
ジャーと現像バイアスを負極性に改良したFT4060
(■リコー製複写機)に塔載して画像出しを行なったと
ころ鮮明な画像が得られた。この時の帯電チャージャー
通過直後の感光体表面電位を測定したところ、−5oo
vであった。この後、さらにこの感光体に帯電と露光を
10000回くり返した後、同様の操作を行なったとこ
ろ画像濃度の低下はなく、表面電位は一730■であっ
た。
ジャーと現像バイアスを負極性に改良したFT4060
(■リコー製複写機)に塔載して画像出しを行なったと
ころ鮮明な画像が得られた。この時の帯電チャージャー
通過直後の感光体表面電位を測定したところ、−5oo
vであった。この後、さらにこの感光体に帯電と露光を
10000回くり返した後、同様の操作を行なったとこ
ろ画像濃度の低下はなく、表面電位は一730■であっ
た。
比較例4
比較例1と同様の各層用塗工液を用いて実施例7と同様
の感光体を作成し、測定を行なったところ、初期表面電
位は一800■であったが、10000回くり返し後の
表面電位は一520vと著しく低下し、また画像濃度の
低下が見られた。
の感光体を作成し、測定を行なったところ、初期表面電
位は一800■であったが、10000回くり返し後の
表面電位は一520vと著しく低下し、また画像濃度の
低下が見られた。
第1図及び第2図は、本発明に係る電子写真用感光体の
模式断面図である。 1・・・導電性基体、2・・・電荷注入防止性中間層、
3・・・単層型感光層、3′・・・積層型感光層、4・
・・電荷発生層、5・・・電荷移動層特許出願人 株式
会社 リ コ −第1図 第2図
模式断面図である。 1・・・導電性基体、2・・・電荷注入防止性中間層、
3・・・単層型感光層、3′・・・積層型感光層、4・
・・電荷発生層、5・・・電荷移動層特許出願人 株式
会社 リ コ −第1図 第2図
Claims (1)
- (1)導電性基体上に中間層及び感光層を順次設けた電
子写真用感光体において、中間層に下記一般式で示され
る単量体からなる重合体及び/又は下記一般式で示され
る単量体と他の共重合し得る化合物との共重合体化合物
を含有させたことを特徴とする電子写真用感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R_1は水素原子又はメチル基を、R_2は
水素原子、低級アルキル基あるい は置換又は非置換のアリール基を nは2〜100の整数を表わす。)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14588487A JPS63309966A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 電子写真用感光体 |
US07/159,748 US4822705A (en) | 1987-02-24 | 1988-02-24 | Electrophotographic photoconductor with layer preventing charge injection |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14588487A JPS63309966A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63309966A true JPS63309966A (ja) | 1988-12-19 |
Family
ID=15395278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14588487A Pending JPS63309966A (ja) | 1987-02-24 | 1987-06-10 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63309966A (ja) |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP14588487A patent/JPS63309966A/ja active Pending
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