JP2668604B2 - 光情報記録方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報記録媒体に光によ
り情報を記録する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般のＤＲＡＷ（Direct Read After Wr
ite 、書き込み可能）型の情報記録媒体は、基本構造と
してプラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板
と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金
属または半金属、あるいはシアニン色素等の色素類から
なる記録層とを有する。記録媒体への情報の書き込み
は、たとえばレーザービームを記録媒体に照射すること
により行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収して
局所的に温度上昇する結果、ピット形成等の物理的変化
あるいは化学的変化を生じてその光学的特性を変えるこ
とにより情報が記録される。光ディスクからの情報の読
み取りもまた、レーザービームを光ディスクに照射する
ことにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じ
た反射光または透過光を検出することにより情報が再生
される。

【０００３】上記レーザービームの照射は、レーザーを
基板上に円環状（本発明ではスパイラル状も含む）に形
成された凹溝からなるプリグルーブに沿って（案内され
て）移動させることにより行なわれる。このようなプリ
グルーブは、一般に基板の内周側（一般に内周縁から半
径方向に外側５ｍｍ前後はミラー部）から外周側（外周
端まであるいは外周端から１〜３ｍｍ内周側まで）まで
形成されている。また、光ディスクの基板としては、一
般に直径が５インチ（120mm）、５．２５インチ（130m
m)、３．０インチ（80mm）、３．５インチ（90mm）のも
のが使用されている。

【０００４】記録層材料の中でも、色素を用いた記録層
は、色素を溶剤に溶かした色素塗布液を基板に塗布乾燥
することにより容易に形成することができる。このた
め、真空蒸着等により形成する必要がある金属記録層に
比べて製造上明らかに有利である。従って、最近では色
素を記録層材料として使用する例が多く見受けられる。
色素からなる記録層は、反射率が一般に３０％程度と低
いため、ＤＲＡＷ型ＣＤ（記録信号としてオーディオ用
ＣＤに使用されているＣＤフォーマット信号を用いる）
のように情報を市販のＣＤプレーヤーで再生できる、す
なわち高反射率が要求される場合は、一般に反射層が設
けられる。このようなＤＲＡＷ型ＣＤの例として、ポリ
カーボネート基板上に色素記録層、Ａｕの反射層および
保護層がこの順で積層された構造の光ディスクが日経エ
レクトロニクス（１０７頁、1989年1月23日発行）に記
載されている。

【０００５】一方、再生専用の光ディスクである、市販
のＣＤプレーヤーで再生できる一般のオーディオ用ＣＤ
（コンパクトディスク）は、カッティング原板からスタ
ンパを作成して成形することにより製造される。このた
め、製造経費が高く、大量に販売できるソフトには適用
することができるが、数枚、数十枚程度の少量のＣＤソ
フト等（同じ情報が記録された光ディスク）を作成する
場合は、製造経費を抑える必要から例えば上記ＣＤ−Ｄ
ＲＡＷ（基板上に色素記録層、反射層および保護層が積
層された）に記録することにより行なわれていていた。
すなわち、ＣＤ−ＤＲＡＷをＣＤの再生線速度である
１．２〜１．４ｍ／秒で回転させながら発振波長７８０
ｎｍを有するレーザーをプリグルーブに照射することに
より情報を記録し、一般に少量のＣＤソフト等を作成し
ていた。このような作成方法では、記録時の線速度が再
生線速度と等しいため、ＣＤソフト一枚製作するため
に、ＣＤソフト一枚の再生時間と同じ時間を要する。従
って、記録に要する時間を短縮することが望まれる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】その方法として、レー
ザーのパワーを大きくして、速い線速度で記録する方法
が考えられる。すなわち、速い線速度にして、その速度
の増加に伴ないレーザーの発振周波数を大きくすること
により情報の記録をする。しかしながら、本発明者等の
検討によると、単に速度の増加と共に発振周波数を大き
くするだけでは実用的に充分な再生信号が得られないこ
とが判明した。

【０００７】本発明は、数枚、数十枚程度の比較的少量
の同じ情報が記録された光ディスク（ＣＤソフト等）を
容易に作成することができる光情報記録方法を提供する
ことを目的とする。また、本発明は、比較的少量の同じ
情報が記録された光ディスク（ＣＤソフト等）を容易に
作成することができ、且つ再生特性、特にジッターの優
れたＥＦＭ信号を記録することが可能な光情報記録方法
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的は、表面にプリ
グルーブが設けられた円盤状基板の上に、記録層が設け
られた情報記録媒体を、予め定められた記録情報再生時
の線速度より速い線速度で回転させながらレーザーを基
板側から照射してＥＦＭ信号を記録する際、記録すべき
ピット長ｎＴのピットを記録するための該レーザーのパ
ルス幅Ｔ_LD(n)を下記の条件(1) 〜(3)： Ｔ_LD(n) ＝（ｎ−ｍ）Ｔ (1) ｍ ＝２×Ｖ₁ ／Ｖ−ａ (2) Ｔ ＝Ｔ₁ ×Ｖ₁ ／Ｖ (3) ［但し、Ｔ_LD(n) (ns）はピット長ｎＴのピット記録時
のレーザーのパルス幅を表わし、ｎは４〜１１の整数を
表わし、Ｔ（ns）は記録時のクロック周期を表わし、Ｔ
₁ （ns）は再生時のクロック周期を表わし、Ｖ₁ （ｍ／
秒）は再生時の定線速度を表わし、Ｖ（ｍ／秒）は記録
時の定線速度を表わし、そしてａは０．５〜１．５の範
囲の定数を表わす］を満足するように変調させ、且つピ
ット長３Ｔのピットを記録するための該レーザーのパル
ス幅Ｔ_LD(3) を上記(2) と(3)および下記の(4) ： Ｔ_LD(3) ＝（ｎ−ｍ＋ｆ）Ｔ (4) ［但し、Ｔ_LD(3) (ns）はピット長３Ｔのピット記録時
のレーザーのパルス幅を表わし、Ｔ（ns）は記録時のク
ロック周期を表わし、ｆは、０．０３〜０．６の範囲の
定数を表わし、そしてｍは上記と同じ意味を表わす］を
満足するように変調させて記録することからなる光情報
記録方法により達成することができる。

【０００９】上記本発明の光情報記録方法の好ましい態
様は以下の通りである。

【００１０】１）ａが、０．８〜１．２の範囲にあるこ
とを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１１】２）ｆが、０．１〜０．４の範囲にあるこ
とを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１２】３）Ｖ₁ が、１．２〜１．４ｍ／秒の範囲
にあることを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１３】４）Ｖ₁ ／Ｖが、１／１５以上且つ１未満
であることを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１４】５）Ｖ₁ ／Ｖが、１／１２以上且つ１／２
未満の範囲にあることを特徴とする上記光情報記録方
法。

【００１５】６）上記レーザーの照射を、スリービーム
法によって該プリグルーブをトラッキングしならがら行
なうことを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１６】７）ｍＴは、ピット長ｎＴまたは３Ｔのレ
ーザーの発光時間の最後から縮められる発光時間を表わ
すことを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１７】８）ｆＴは、ピット長３Ｔのレーザーの発
光時間の直後に加えられるレーザーの発光時間を表わす
ことを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１８】９）上記記録層が、色素からなる層である
ことを特徴とする上記光情報記録方法。

【００１９】１０）上記記録層上に、金属からなる反射
層が設けられていることを特徴とする上記光情報記録方
法。

【００２０】１１）上記記録層上に、金属からなる反射
層および保護層がこの順で設けられていることを特徴と
する上記光情報記録方法。

【００２１】

【発明の効果】上記のように、情報記録媒体に情報を記
録するために、再生時の線速度より速い線速度で媒体を
回転させながら、レーザーを照射してＥＦＭ信号を記録
する際、該線速度の増加に比例して周波数を増加させる
と共に、上記条件を満足するようにパルス幅を修正する
ことにより、高速で記録した場合も、ジッター等の再生
特性に優れた再生信号を得ることができる。これによ
り、記録時間の短縮、すなわち記録時の線速度を速くす
ることができる。従って、数枚、数十枚程度の比較的少
量のＣＤソフト等を短時間で簡易に作成することができ
る。このようにＥＦＭ信号を光記録することにより、記
録層に形成されるピット間隔が適当となること、またピ
ット形状が均一化されること等により、得られる再生信
号のジッターが顕著に向上すると考えられる。さらに、
本発明の光記録は簡単な回路で実施できるため、安価な
記録装置を使用することができる。

【００２２】 ［発明の詳細な記述］本発明の光情報記録方法に用いら
れる情報記録媒体は、基板上に記録層が積層された基本
構造を有する。さらに、記録層が色素記録層であって、
その上に反射層が形成されていることが好ましい。

【００２３】添付図面を参照しながら、本発明の光情報
記録方法について説明する。図１には、プリグルーブを
有する円盤状基板１１、基板上に設けられた色素からな
る記録層１２、記録層上に設けられた金属からなる反射
層１３、そして反射層上に設けられた保護層１４からな
る情報記録媒体１０を回転させながら、基板側からレー
ザー１６を照射して基板のプリグルーブ底部１５上の記
録層にレーザーを集光して情報を記録している状態が示
されている。記録された情報を再生する場合も、レーザ
ーパワーを低くし、回転速度を遅くする以外は基本的に
は同じ様に行なわれる。

【００２４】本発明では、上記情報記録媒体１０を、情
報再生時の線速度より速い線速度で回転させながら、レ
ーザー１６を基板１１側から照射してＥＦＭ信号を記録
する際、その線速度の増加に対して記録すべきピット長
ｎＴのピット記録するためのレーザーのパルス幅Ｔ
_LD(n) を下記の条件(1) 〜(3) ： Ｔ_LD(n) ＝（ｎ−ｍ）Ｔ (1) ｍ ＝２×Ｖ₁ ／Ｖ−ａ (2) Ｔ ＝Ｔ₁ ×Ｖ₁ ／Ｖ (3) ［但し、Ｔ_LD(n) (ns）はピット長ｎＴのピット記録時
のレーザーのパルス幅を表わし、ｎは４〜１１の整数を
表わし、Ｔ（ns）は記録時のクロック周期（一般に単位
ピット長と同じ）を表わし、Ｔ₁ （ns）は再生時のクロ
ック周期（単位ピット長）を表わし、Ｖ₁ （ｍ／秒）は
再生時の定線速度を表わし、Ｖ（ｍ／秒）は記録時の定
線速度を表わし、そしてａは０．５〜１．５の範囲の定
数を表わす］を満足するように変調させ、且つピット長
３Ｔのピットを記録するためのレーザーのパルス幅Ｔ_LD
(3) を上記(2) と(3) および下記の(4) ： Ｔ_LD(3) ＝（ｎ−ｍ＋ｆ）Ｔ (4) ［但し、Ｔ_LD(3) (ns）はピット長３Ｔのピット記録時
のレーザーのパルス幅を表わし、Ｔ（ns）は記録時のク
ロック周期（単位ピット長）を表わし、ｆは、０．０３
〜０．６の範囲の定数を表わし、そしてｍは上記と同じ
意味を表わす］を満足するように変調させて記録が行な
われる。

【００２５】本発明の光情報記録方法では、記録信号と
してＥＦＭ信号が用いられ、ＥＦＭ信号は一般にピット
長３Ｔから１１Ｔまでのピットからなる。Ｔは、ＥＦＭ
信号の場合、再生時は一般に２３１．４ｎｓである。こ
のＥＦＭ信号を高速で記録する本発明の光情報記録方法
を、図２および図３を参照しながら具体的に説明する。

【００２６】図２は、（ａ）がピット長４Ｔ〜１１Ｔま
でのピットのうちの任意の記録すべきピットを示し、
（ｂ）が記録すべきピットと長さ（ns：ナノセカンド）
が同じレーザーのパルス幅(ns)を示し、（ｃ）および
（ｄ）が実際に記録する際のパルス幅（発光時間）を示
す。

【００２７】（ａ）には、記録すべきピットとして、ピ
ット長４Ｔと６Ｔの異なる二種のピットが示されてい
る。 （ｂ）には、４Ｔと６Ｔの異なる二種のピット長に対応
するレーザーのパルス幅（ns）が示されている。これら
は、それぞれ二種のピットのピット長４Ｔおよび６Ｔと
に対応し、ピット長とパルス幅とが同じものである。 （ｃ）には、（ａ）で示されたピットを形成するための
本発明のレーザーのパルス幅（ns）が示されている。す
なわち、ピット長４Ｔのピットを形成するためのレーザ
ーのパルス幅は（４−ｍ）Ｔ［すなわち４Ｔ−ｍＴ］で
あり、ピット長６Ｔのピットを形成するためのパルス幅
は（６−ｍ）Ｔ［すなわち６Ｔ−ｍＴ］である。ｍＴ
は、ピット長ｎＴのレーザーの発光時間の最後から縮め
られる発光時間である。ｍＴは記録時の線速度に対する
再生時の線速度の比（Ｖ₁ ／Ｖ）が大きい１／２前後で
は正の値となる場合が多いが、Ｖ₁ ／Ｖが小さい時（特
に１／３以下）ではほとんど負となり、従って、この場
合は（ｄ）で示されるように後に延びたパルス幅とな
る。上記ｍＴは、ピット長ｎＴのレーザーの発光時間の
最後から縮められる発光時間であることが好ましいが、
発光時間の前であっても良いし、前後に振り分けても良
い。

【００２８】次に、３Ｔピットの記録方法を図３を参照
しながら説明する。図３は、（ａ）が記録すべきピット
を示し、（ｂ）が記録すべきピットと長さ（ns：ナノセ
カンド）が同じレーザーのパルス幅(ns)を示し、（ｃ）
および（ｄ）が実際に記録する際のパルス幅（発光時
間）を示す。

【００２９】（ａ）には、記録すべきピットとして、ピ
ット長３Ｔのピットが示されている。 （ｂ）には、３Ｔのピット長に対応するレーザーのパル
ス幅（ns）が示されている。これは、ピット長３Ｔと対
応し、ピット長とパルス幅とが同じものである。 （ｃ）には、（ａ）で示されたピットを形成するための
本発明のレーザーのパルス幅（ns）が示されている。す
なわち、ピット長３Ｔのピットを形成するためのレーザ
ーのパルス幅は（３−ｍ＋ｆ）Ｔ［すなわち３Ｔ−ｍＴ
＋ｆＴ＝３Ｔ−（ｍＴ−ｆＴ）］である。（ｍＴ−ｆ
Ｔ）は、ピット長３Ｔのレーザーの発光時間の最後から
縮められる発光時間である。ｍは、記録時の線速度に対
する再生時の線速度の比（Ｖ₁ ／Ｖ）が大きい１／２前
後では正の値となる場合が多いが、Ｖ₁ ／Ｖが小さい時
（特に１／３以下）ではほとんど負となるため、（ｍＴ
−ｆＴ）もＶ₁ ／Ｖが大きいときは正の値となり、Ｖ₁
／Ｖが小さい時はほとんど負となる。従って、Ｖ₁ ／Ｖ
が大きいときは（ｃ）で示されるように後が縮められた
パルス幅となり、Ｖ₁ ／Ｖが小さい時は（ｄ）で示され
るように後に延びたパルス幅となる。上記（ｍＴ−ｆ
Ｔ）は、ピット長ｎＴのレーザーの発光時間の最後から
縮められる（または延ばされる）発光時間であることが
好ましいが、発光時間の前であっても良いし、前後に振
り分けても良い。

【００３０】上記のように、本発明では、情報記録媒体
１０は、記録した情報を再生する際の線速度より速い線
速度で回転されている。従って、上記情報を記録する際
のレーザー１６は、再生時と同じ速度で記録する時より
そのレーザーパワーが少し大きくされている。その速度
の増加分の百分率（％）の２〜５０％程度パワーを増加
させることが好ましい。特に５〜３０％の範囲が好まし
い。また、上記定数のうち、ａは、０．８〜１．２の範
囲にあることが好ましく、ｆは、０．１〜０．４の範囲
にあることが好ましい。再生時の線速度であるＶ₁ は、
特に限定されないが、１．２〜１．４ｍ／秒の範囲にあ
ることが好ましい。また、記録時の線速度に対する再生
時の線速度の比（Ｖ₁ ／Ｖ）は、一般に１／１５以上且
つ１未満であり、さらに１／１２以上且つ１／２未満で
あることが好ましく、さらに１／１２〜２／５の範囲が
好ましく、１／１２〜１／３の範囲にあることが最も好
ましい。上記のようにして、記録することにより情報の
記録が再生より遥かに速く行なえることから、数枚、数
十枚程度の比較的少量の同じ情報が記録された光ディス
ク（ＣＤソフト）を短時間で容易に作成することができ
る。

【００３１】このように本発明の情報の記録は、例え
ば、情報記録媒体を上記定線速度（ＣＤフォーマットの
場合は再生時の速度である１．２〜１．４ｍ／秒より高
速）にて回転させながら、基板側から半導体レーザー光
などの記録用の光を照射する。レーザーの発振波長は、
５００〜９００ｎｍ（好ましくは６５０〜８５０ｎｍ）
が一般的である。記録パワーは一般に５〜１０ｍＷであ
る。光の照射により、記録層に空洞が形成されることに
より、あるいは記録層に変色、会合状態の変化等により
屈折率が変化することによって情報が記録される。

【００３２】本発明の記録方法に用いられる情報記録媒
体は例えば下記のように製造することができる。円盤状
基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられてい
る各種の材料から任意に選択することができる。基板材
料として、例えばガラス；ポリカーボネート；ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹
脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルな
どを挙げることができ、所望により併用してもよい。な
お、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある
基板として使うことができる。上記材料の中で、耐湿
性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。

【００３３】情報記録媒体の記録層が設けられる側の基
板表面には、平面性の改善、接着力の向上、感度の向上
および記録層の変質の防止の目的で、中間層が設けられ
る。中間層の材料としてはたとえば、ポリメチルメタク
リレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレ
ン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトル
エン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロ
セルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、クシ型グラフ
ト重合体等の高分子物質；および色素、銀アセチリド化
合物、シランカップリング剤などの有機物質を挙げるこ
とができる。

【００３４】中間層は、たとえば上記物質を適当な溶剤
に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布
液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョ
ンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することに
より形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．
００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜
１０μｍの範囲である。

【００３５】上記円盤状基板上には、アドレス信号等の
情報あるいは音楽情報等を表わすトラッキング用のプリ
グルーブが形成されている。また、所望によりプリピッ
トが形成されていても良い。上記ポリカーボネートなど
の樹脂材料を使用する場合は、樹脂材料を射出成形ある
いは押出成形などにより直接基板上にピットおよびグル
ーブが設けられることが好ましい。

【００３６】またグルーブ等の形成を、プリグルーブ層
を設けることにより行なってもよい。プレグルーブ層の
材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステ
ル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少なく
とも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始
剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の
形成は、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に上
記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合
液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたの
ち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を
硬化させて基板と液相とを固着させる。次いで、基板を
母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられ
た基板が得られる。プリグルーブ層の層厚は一般に０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。プリグルーブの形状は、深さが２
０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、特に３０〜１７０ｎｍ
が好ましい。半値幅は、０．２〜１．２μｍが好まし
く、特に０．６〜１．０μｍが好ましい。

【００３７】円盤状基板の上には、記録層が設けられ
る。記録層の材料は、金属、金属化合物、色素あるいは
高分子化合物など従来の材料を用いることができる。中
でも色素が好ましい。

【００３８】色素としては、例えば、インドレニン系色
素、イミダゾキノキサリン系色素、インドリジン系色素
などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタ
ロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、ピリリウム系
・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワ
リリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナ
フトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノー
ル系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン
系色素、トリアリルメタン系色素、メロシアン系色素、
オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系
色素およびニトロソ化合物を挙げることができる。

【００３９】色素層の形成は、上記色素、さらに所望に
より結合剤、金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素（クエンチャー）を溶剤に溶解して塗
布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して
塗膜を形成したのち乾燥することにより行なうことがで
きる。

【００４０】上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエ
ステル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチ
ルイソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、テ
トラクロロエタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホ
ルムなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどのアルコール、ジメチルホルムアミドなどのア
ミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルなどのセロソル
ブ、２、２、３、３−テトラフロロプロパノール等フッ
素系溶剤などを挙げることができる。なお、これらの非
炭化水素系有機溶剤は、５０容量％以内である限り、脂
肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水
素溶剤などの炭化水素系溶媒を含んでいてもよい。

【００４１】塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収
剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添
加してもよい。

【００４２】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天
然有機高分子物質；およびニトロセルロース、酢酸セル
ロース等のセルロース誘導体、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素
系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩
化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、
ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフ
ィン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初
期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。

【００４３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。

【００４４】本発明の基板の外周側で色素記録層の層厚
を薄くする塗布方法としては、例えば、色素塗布液をス
ピンコート法により回転数１００〜２００rpm の速度で
５秒間塗布した後、１秒間に３０〜８０ｒｐｍづつ１８
００〜２５００ｒｐｍまで速度を上昇させ、１８００〜
２５００ｒｐｍで１０〜６０秒間保持することにより乾
燥させて色素記録層を形成する。すなわち、主として最
終回転数をある程度大きな値にまで上げることが必要と
される。

【００４５】色素層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９
％（重量比）の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％
（重量比）の範囲にある。

【００４６】上記記録層は単層でも重層でもよいが、そ
の層厚は一般に１０〜５５０ｎｍの範囲にあり、好まし
くは２０〜３００ｎｍの範囲にある。

【００４７】記録層上には反射層が設けられることが好
ましい。反射層の材料である光反射性物質はレーザー光
に対する反射率が高い物質であり、その例としてはＭ
ｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐ
ｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることが
できる。これらのうちで好ましいものはＡｌ、Ａｕ、Ｃ
ｒおよびＮｉである。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。

【００４８】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより基板の上に形成することができる。反射層の層
厚は一般には１０〜３００ｎｍの範囲にある。

【００４９】また、色素記録層と反射層との間にはエン
ハンス層を設けてもよい。その材料としては、クシ型グ
ラフト重合体（例、マクロマー（東亜合成化学工業
（株）製））、銀アセチリドなどを挙げることができ
る。金属記録層上にこのようなエンハンス層を設けても
よいのは勿論である。

【００５０】反射層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的で保護層が設けられることが好
ましい。この保護層は、基板の記録層が設けられていな
い側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよ
い。

【００５１】保護層に用いられる材料の例としてはＳｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の無
機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂
等の有機物質を挙げることができる。

【００５２】保護層は、たとえばプラスチックの押出加
工で得られたフィルムを接着層を介して記録層（反射
層）上および／または基板上にラミネートすることによ
り形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタ
リング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当
な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を
塗布し、乾燥することによっても形成することができ
る。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当
な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗
布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成
することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防
止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に
応じて添加してもよい。記録層上に直接保護層形成材料
を塗布する場合は、該記録層を保護層の塗布液の溶解作
用から守るため記録層上にポリブタジエンなどを塗布
（その際溶剤としては記録層を溶解しない溶剤を用い
る）することにより中間層を設けることが好ましい。中
間層は、金属等の薄膜を蒸着により設けてもよい。保護
層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。

【００５３】さらに、色素記録層上に保護層を形成する
の代わりに、記録層上にプラスチックのフィルムを基板
の内周及び外周にて融着して設けることにより記録層を
保護してもよい。

【００５４】本発明において、情報記録媒体は上述した
構成からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記
構成を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向
い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼合
せタイプの記録媒体を製造することもできる。あるいは
また、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記
構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介して接合することにより、エ
アーサンドイッチタイプの記録媒体を製造することもで
きる。

【００５５】本発明に用いられる情報記録媒体は上記の
ような方法で製造することができる。

【００５６】情報の記録方法は上記に述べた通りである
が、再生は、例えば次のように行なわれる。

【００５７】上記のように記録された情報の再生は、情
報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は再生
時の速度である１．２〜１．４ｍ／秒）で回転させなが
ら半導体レーザー光を基板側から照射して、その反射光
を検出することにより行なうことができる。レーザーの
発振波長は、５００〜９００ｎｍ（好ましくは６５０〜
８５０ｎｍ）が一般的であり、再生時のパワーは一般
に、０．０５〜１ｍＷである。

【００５８】

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を記載
する。ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。

【００５９】［サンプル１］円盤状のポリカーボネート
基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．
２ｍｍ、屈折率：１．５８、プリグルーブ：トラックピ
ッチが１．６μｍ、プリグルーブの半値幅が０．４５μ
ｍ、深さが４０ｎｍそして直径が４４〜１１７ｍｍ領
域）を光ディスクの基板として用意した。

【００６０】下記の色素Ａ： 色素Ａ

【００６１】

【化１】

【００６２】３．２５ｇと 下記の色素Ｂ：色素Ｂ

【００６３】

【化２】

【００６４】０．３２５ｇとを２，２，３，３−テトラ
フロロ−１−プロパノール７５ｍｌ、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル２０ｍｌおよびテトラクロロエ
タン５ｍｌからなる混合溶剤に、超音波１時間の付与に
より溶解して色素記録層塗布液を調製した。

【００６５】上記円盤状のポリカーボネート基板の内周
側から、上記塗布液をスピンコート法により回転数２０
０rpm の速度で５秒間塗布した後、１秒間に５０ｒｐｍ
づつ１０００ｒｐｍまで速度を上昇させて５秒間保持し
て乾燥させ、さらに１７００ｒｐｍで１５秒間保持する
ことにより、プリグルーブ底部の層厚が１２０ｎｍ、プ
リグルーブ間部（ランド部）の層厚が１２０ｎｍの色素
記録層を形成した。

【００６６】上記色素記録層上に、ＡｕをＤＣスパッタ
リング（Ａｒ圧力：２Ｐａ、電力：２００Ｗ）して膜厚
が１００ｎｍの反射層を基板の直径１１８ｍｍまで形成
した。

【００６７】さらに、反射層上に、紫外線硬化性樹脂
（商品名：３０７０、スリーボンド（株）製）をスピン
コート法により回転数２００rpm の速度で５秒間塗布し
た後、さらに回転数１５００ｒｐｍで３０秒間レベレン
グさせ、次いで紫外線（高圧水銀灯２００Ｗ／ｃｍ）を
１０秒照射することにより硬化させ、層厚２μｍ（外周
端面の層厚２〜１０μｍ）の保護層を形成した。

【００６８】このようにして、基板、色素記録層、反射
層および保護層からなる情報記録媒体を製造した。な
お、上記基板のプリグルーブの半値幅および深さ、色素
記録層の層厚は、その断面を超高解像度ＳＥＭ（走査型
電子顕微鏡）で測定して得られたものである。

【００６９】［実施例１］サンプル１で得られた情報記
録媒体に下記の条件にて情報を記録した。記録再生評価
装置として、光ディスク評価機ＤＤＵ１０００（パルス
テック（株）製）を用いて記録を行なった。すなわち、
発振波長が７８０ｎｍおよびＮＡが０．５の光ヘッドを
用いて、パワー５〜１０ｍＷ（０．５毎に変化させ
て）、線速度（Ｖ）２．８ｍ／秒で、ＣＤフォーマット
のＥＦＭ信号をクロック周期（Ｔ）１１５．７ｎｓ、前
記条件(2) のａを１．０および前記条件(4) のｆを０．
２２（すなわち、Ｔ_LD(n) ＝ｎＴ、Ｔ_LD(3) ＝２．７８
Ｔ）にして、上記情報記録媒体の直径７２ｍｍの位置に
記録した。

【００７０】［実施例２］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件にした以外は実
施例１と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：４．２ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：７
７．１３ｎｓおよび前記条件(2) のａ：１．１７（すな
わち、Ｔ_LD(n) ＝（ｎ＋０．５）Ｔ、Ｔ_LD(3)＝３．２
８Ｔ）。

【００７１】［実施例３］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件にした以外は実
施例１と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：５．６ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：５
７．８５ｎｓ、前記条件(4) のｆ：０．０６および前記
条件(2) のａ：１．０（すなわち、Ｔ_LD(n) ＝（ｎ＋
０．５）Ｔ、Ｔ_LD(3) ＝３．３９Ｔ）。

【００７２】［参考例１］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件にした以外は実
施例１と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：１．４ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：２
３１．４ｎｓ、前記条件(2) のａ：１（すなわち、Ｔ_LD
(n) ＝（ｎ−１）Ｔ、Ｔ_LD(3) ＝２．２８Ｔ）。この条
件は、本発明者がすでに出願した特願平３−８１４６０
号に記載された再生時と同じ線速度で記録する場合の低
いジッターが得られる良好な記録条件である。

【００７３】［比較例１］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件にした以外は実
施例１と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：４．２ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：７
７．１３ｎｓおよび前記条件(2) のａ：−０．３（すな
わち、Ｔ_LD(n) ＝（ｎ−１）Ｔ、Ｔ_LD(3) ＝２．２８
Ｔ）。

【００７４】［比較例２］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件にした以外は実
施例１と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：４．２ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：７
７．１３ｎｓおよび前記条件(2) のａ：１．６７（すな
わち、Ｔ_LD(n) ＝（ｎ＋１）Ｔ、Ｔ_LD(3) ＝３．２８
Ｔ）。

【００７５】［比較例３］実施例１において、サンプル
１で得られた情報記録媒体に下記の条件以外は実施例１
と同様にして情報を記録した。 線速度（Ｖ）：４．２ｍ／秒、クロック周期（Ｔ）：７
７．１３ｎｓ、前記条件(2) のａ：０．６７および前記
条件(4) のｆを０（すなわち、Ｔ_LD(n) ＝ｎＴ、Ｔ
_LD(3) ＝３Ｔ）。

【００７６】［記録済情報記録媒体の評価］ １）記録感度 上記各例で得られた記録済光ディスクを、発振波長が７
８０ｎｍおよびＮＡが０．５の光ヘッドを用いて、パワ
ー０．５ｍＷ、線速度（Ｖ₁ ）１．４ｍ／秒で、ＣＤフ
ォーマットのＥＦＭ信号をクロック周期（Ｔ）２３１．
４ｎｓにて記録された信号を再生した。上記記録パワー
は５〜１０ｍＷ間で０．５毎に変化させて記録している
ので、その中で再生信号のアシンメトリーが０±５％を
示す時の値を記録感度とした。一般に、ＥＦＭ信号を記
録した場合、最も長い信号である１１Ｔの再生信号と最
も短い３Ｔの再生信号の振幅の中心がずれる。その程度
をアシンメトリーといい、下記の式より求めることがで
きる。 アシンメトリー＝｛（Ｃ−Ｂ）／Ａ｝×１００（％） 但し、Ａは１１Ｔの振幅電圧、Ｂは１１Ｔの振幅の中心
電圧、そしてＣは３Ｔの振幅の中心電圧を表わす。一般
に、記録パワーを大きくするとアシンメトリーがマイナ
ス側にずれる。

【００７７】２）ジッター 各媒体の上記記録感度とした領域の記録信号を再生し、
得られた再生信号のＥＦＭエンコーダーが出力した２値
化された信号をパルスジッターカウンター（アドバンテ
スト社製、ＴＲ５８３５）に入力し、ウインドウ下側５
７５ｎｓ、上側８００ｎｓ、極性＋の条件にてσを測定
した。ジッターは一般に３０ｎｓ以下が好ましい。

【００７８】３）記録時間 上記記録感度で各媒体に、再生時間が６０分のＣＤを記
録するのに要した時間を測定した。

【００７９】上記測定結果を表１に示す。

【００８０】 表１ ────────────────────────────── 記録感度(mW) ジッター(ns) 記録時間（分） ────────────────────────────── 実施例１ ７．０ ２３ ３０ 実施例２ ８．０ ２４ ２０ 実施例３ ９．０ ２５ １５ ────────────────────────────── 参考例１ ６．５ ２２ ６０ 比較例１ ９．５ ３５ ２０ 比較例２ ７．５ ３５ ２０ 比較例３ ８．５ ３２ ２０ ──────────────────────────────

【００８１】上記結果より明らかなように、本発明の上
記条件にて速い線速度で記録を行なった（実施例１、２
および３）記録された情報は、ジッターが低く通常の線
速度での再生が可能であった。すなわち、記録時の線速
度が再生時と同じ線速度で記録を行なった参考例１にお
ける再生信号とジッターはほとんど差がなかった。参考
例１の条件で単に線速度に反比例してパルス幅を小さく
した比較例１の記録信号はジッターが高く、実用性に問
題がある。パルス幅が本発明の範囲外の比較例２および
従来の記録すべきピットと同じ長さのパルス幅を用いて
線速度に反比例してパルス幅を小さくしただけの比較例
３の記録方法では、やはり再生時のジッターが高いもの
であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録方法の一例を示す断面図で
ある。

【図２】本発明のピット（ｎＴ）記録時のパルス幅を説
明するための模式図である。

【図３】本発明のピット（３Ｔ）記録時のパルス幅を説
明するための模式図である。

【符号の説明】

１０ 情報記録媒体 １１ 円盤状基板 １２ 色素記録層 １３ 反射層 １４ 保護層 １５ プリグルーブ １６ レーザー

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面にプリグルーブが設けられた円盤状
   基板の上に、記録層が設けられた情報記録媒体を、予め
   定められた記録情報再生時の線速度より速い線速度で回
   転させながらレーザーを基板側から照射してＥＦＭ信号
   を記録する際、記録すべきピット長ｎＴのピットを記録
   するための該レーザーのパルス幅Ｔ_LD(n) を下記の条件
   (1) 〜(3) ： Ｔ_LD(n) ＝（ｎ−ｍ）Ｔ (1) ｍ ＝２×Ｖ₁ ／Ｖ−ａ (2) Ｔ ＝Ｔ₁ ×Ｖ₁ ／Ｖ (3) ［但し、Ｔ_LD(n) (ns）はピット長ｎＴのピット記録時
   のレーザーのパルス幅を表わし、ｎは４〜１１の範囲の
   整数を表わし、Ｔ（ns）は記録時のクロック周期を表わ
   し、Ｔ₁ （ns）は再生時のクロック周期を表わし、Ｖ₁
   （ｍ／秒）は再生時の定線速度を表わし、Ｖ（ｍ／秒）
   は記録時の定線速度を表わし、そしてａは０．５〜１．
   ５の範囲の数を表わす］を満足するように変調させ、且
   つピット長３Ｔのピットを記録するための該レーザーの
   パルス幅Ｔ_LD(3) を上記(2) と(3) および下記の(4) ： Ｔ_LD(3) ＝（ｎ−ｍ＋ｆ）Ｔ (4) ［但し、Ｔ_LD(3) (ns）はピット長３Ｔのピット記録時
   のレーザーのパルス幅を表わし、Ｔ（ns）は記録時のク
   ロック周期を表わし、ｆは、０．０３〜０．６の範囲の
   数を表わし、そしてｍは上記と同じ意味を表わす］を満
   足するように変調させて記録することからなる光情報記
   録方法。