JP2661891B2 - N基が保護されたインドリンからのインドール化合物の調製方法 - Google Patents

N基が保護されたインドリンからのインドール化合物の調製方法

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JP2661891B2 JP7279476A JP27947695A JP2661891B2 JP 2661891 B2 JP2661891 B2 JP 2661891B2 JP 7279476 A JP7279476 A JP 7279476A JP 27947695 A JP27947695 A JP 27947695A JP 2661891 B2 JP2661891 B2 JP 2661891B2
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/08Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、N基が保護された
(N-protected)インドリンからインドール化合物を調
製するための新規の方法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】イン
ドールおよびその誘導体は、染料、化粧品、薬品および
食品産業で広範に用いられる出発物質である。特に、イ
ンドールは、必須アミノ酸であるトリプトファンの合成
に用いることのできる出発物質の一つである。
【0003】インドールは、一般的に、いくつかの長く
て費用のかかる工程を経て合成される。さらに、この合
成は、必然的に危険を伴う、140℃以上の高い反応温
度における強制的な酸化段階を必要とする。
【0004】しかして、カメタニ等、J.C.S. Perkin 1,
290-294, 1980による論文は、二段階のインドール誘導
体合成を記載しており、この方法はN基が保護されたイ
ンドリンから出発して、対応するインドールを得るのに
酸化に次いで保護を解除する。
【0005】さらに、キグチ等、Synthesis, 778-781,
1989による論文は、触媒の存在下で、塩基性媒体中にお
いて1−ベンジル−2,3−ジヒドロインドリンの脱ベ
ンジル化(debenzylation)と酸化とを同時に行うこと
による一段階のインドール化合物の調製を記載してい
る。この方法は、明らかに、一段階だけからなる利点を
備えているが、この論文は、得られたインドールの3〜
15%がベンジル基でN基が保護されていることに言及
しており、これは産業上不十分である。
【0006】上記課題を解決する努力の結果、本出願人
は本発明の主題をなす方法を見いだした。
【0007】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明の主題は、水素化触媒の存在下で、以下の式
(I):
【化3】 [式中、R1は、直鎖状または側鎖を有する置換もしく
は非置換のC2−C10アルケニル基、あるいは置換もし
くは非置換のベンジル基を示し、R2、R3およびR
4は、同一であっても相違するものであってもよく、水
素原子、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素等のハロゲン原
子、もしくはC1−C7アルキル、アリール、ヒドロキシ
ル、C1−C7アルコキシ、C3−C7アルケニルオキシ、
アリールオキシ、アシルオキシ、ホルミル、アロイル、
ヒドロキシメチル、アリールヒドロキシメチル、カルボ
キシル、アルコキシ(C1−C7)カルボニル、カルバモ
イル、アミノ、モノアルキル(C1−C7)アミノ、ジア
ルキル(C1−C7)アミノ、アルコキシ(C1−C7)カ
ルボニルアミノ、アシルアミノ、N−アルキル(C1
7)アシルアミノ、ジアルキル(C1−C7)ホルムア
ミジノまたはジアルコキシ(C1−C7)メチル基を示
す]のN基が保護されたインドリンと、水素または水素
供与体とを、pH7以下でかつ室温と反応媒体の還流温
度との間の温度の条件下で溶媒中で攪拌して混合し、こ
の方法により以下の式(II):
【化4】 [式中、R2、R3およびR4は、式(I)と同様の意味
を有する]のインドール化合物を得ることを特徴とする
一段階でインドール化合物を調製するための新規の方法
である。
【0008】この方法により、N基が保護されていない
インドール化合物が形成され、これは得られた最終生成
物の純度およびこの生成物に関する反応収率の両方の点
において利点を表す。
【0009】上記式(I)および(II)において、ア
リールという用語が、特にフェニル基、もしくはハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基、C1−C7アルキルまた
はC1−C7アルコキシ基およびニトロ、アミノ、アルキ
ル(C1−C7)アミノまたはジアルキル(C1−C7)ア
ミノ基からなる群から選択された一つ以上の置換基を備
えたフェニル基を示す。
【0010】アシル基は、好ましくは、例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル等の1〜7の炭素原子を有
する脂肪族カルボン酸から誘導されたアルカノイル基も
しくはベンゾイル基等の芳香族カルボン酸から誘導され
たアロイル基を示す。
【0011】好ましくは、アルケニルオキシ基がアリル
オキシ基を示す。
【0012】式(I)の出発物質であるインドリンは、
好ましくは仏国特許出願FR−A−2699532号記
載の方法によって調製することのできる既知の生成物で
ある。
【0013】式(I)のインドリンとしては、 − 5,6−ジヒドロキシ−1−N−ベンジルオキシカ
ルボニルインドリン、 − 5,6−ジヒドロキシ−1−N−アリルオキシカル
ボニルインドリン、 − 6−ヒドロキシ−1−N−ベンジルオキシカルボニ
ルインドリン、 − 4−ヒドロキシ−5−メトキシ−1−N−ベンジル
オキシカルボニルインドリン、 − 6−ヒドロキシ−7−メトキシ−1−N−ベンジル
オキシカルボニルインドリン、 − 5−メトキシ−6−ヒドロキシ−1−N−ベンジル
オキシカルボニルインドリン、 − 1−N−ベンジルオキシカルボニルインドリン を挙げることができる。
【0014】得られる式(II)のインドール化合物と
しては、 − 5,6−ジヒドロキシインドール、 − 6−ヒドロキシインドール、 − 4−ヒドロキシ−5−メトキシインドール、 − 6−ヒドロキシ−7−メトキシインドール、 − 5−メトキシ−6−ヒドロキシインドール、 − インドール を挙げることができる。
【0015】本発明に係る方法の好ましい実施態様によ
れば、溶媒のpHは5〜7の間、好ましくは6.5〜7
の間とされる。
【0016】本発明の方法に使用される水素は、低圧で
分子水素(molecular hydrogen)であることが好まし
い。
【0017】水素供与体として、例えばシクロヘキセ
ン、置換されたシクロヘキセン類、1,3−シクロヘキ
サジエンおよび1,4−シクロヘキサジエン等のオレフ
ィン水素供与体を挙げることができる。
【0018】本発明の方法ではあらゆる適切な水素化触
媒を用いることができ、例えば、クロム、モリブデン、
タングステン、白金、パラジウム、ロジウム、コバル
ト、ニッケルおよびルテニウムからなる群から選択され
た金属、これらの酸化物、または例えばコバルトモリブ
ダートを含む酸化コバルトと酸化モリブデンの混合物等
の前記物質の組み合わせが挙げられる。
【0019】好ましい水素化触媒は、パラジウムまたは
ラネーニッケル、および白金族の他の金属である。反応
溶媒のpHに影響を与えないような中性pHの不活性な
支持体上に、触媒を既知の方法で置くことができる。こ
のような不活性な支持体としては、例えば中性の木炭
(neutral wood charcoal)、中性の炭(neutral charc
oal)、中性のアルミナ、ゼオライトもしくは粘土等が
挙げられる。中性の炭を使用することが好ましい。
【0020】水素触媒は、反応する式(I)の化合物の
重量に対して等量の金属の0.2〜5重量%の量とする
のが一般的である。
【0021】用いられた溶媒は、例えばメタノールまた
はエタノール等のC1−C4アルコール、ベンゼンもしく
はトルエン等の炭化水素、酢酸エチル、ジメチルホルム
アミドまたはこれらの混合物等の不活性溶媒であると有
利である。用いられる溶媒が、エタノールまたは酢酸エ
チルであると好ましい。
【0022】必要であれば、反応完了後に、例えばイン
ドール等の予想される生成物を、結晶化、蒸留もしくは
蒸気飛沫同伴(vapour entrainment)等の当技術分野で
よく知られた方法で回収してもよい。
【0023】本発明の方法に基づいて得られた産物、す
なわちインドールを含む式(II)のインドール化合物
は、例えば、アミノ酸類、アルカロイド類、トリプタミ
ン類等の調製における中間体、あるいは化学、化粧品、
食品または薬品産業のあらゆる型の最終生成物等として
種々の目的に使用することができる。
【0024】以下の調製例は、本発明を例証するための
ものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
【0025】
【実施例】
実施例1:5,6−ジヒドロキシインドールの合成
【化5】
【0026】11.4gのベンジル=5,6−ジヒドロ
キシ−2,3−ジヒドロインドール−1−カルボキシラ
ート、60mlのエタノール、5.7gの10%パラジ
ウム−オン−木炭(palladium-on-charcoal)、5.7
mlの水および23mlのシクロヘキセンを混合し、こ
の混合物を1時間還流させた。
【0027】触媒を室温でろ過除去し、溶液を蒸発させ
て乾燥させた。木炭の存在下で、ベージュ色の残留物
を、熱したイソプロピルエーテルに取り込み、有機相を
蒸発させた。4.5gの明るいベージュ色の固体が得ら
れ(所望の産物)、この固体の融点は144℃であり、
87NO2に対するこの固体の元素分析は以下のよう
であった。 C H N O 計算値 64.42 4.73 9.39 21.45 実測値 64.20 4.91 9.41 21.44
【0028】実施例2:6−ヒドロキシインドールの合
【化6】
【0029】5.4gのベンジル=6−ヒドロキシ−
2,3−ジヒドロインドール−1−カルボキシラートを
出発物質として、上記実施例1に記載した方法を用い
た。
【0030】2gの白色の結晶が得られ(所望の産
物)、その融点は130℃であり、C87NOに対する
その元素分析は以下のようであった。 C H N O 計算値 72.17 5.30 10.52 12.02 実測値 72.18 5.31 10.49 11.99

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水素化触媒の存在下で、以下の式
    (I): 【化1】 [式中、 R1は、直鎖状または側鎖を有する置換もしくは非置換
    のC2−C10アルケニル基、あるいは置換もしくは非置
    換のベンジル基を示し、 R2、R3およびR4は、同一であっても相違するもので
    あってもよく、水素原子、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素
    等のハロゲン原子、もしくはC1−C7アルキル、アリー
    ル、ヒドロキシル、C1−C7アルコキシ、C3−C7アル
    ケニルオキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ホルミ
    ル、アロイル、ヒドロキシメチル、アリールヒドロキシ
    メチル、カルボキシル、アルコキシ(C1−C7)カルボ
    ニル、カルバモイル、アミノ、モノアルキル(C1
    7)アミノ、ジアルキル(C1−C7)アミノ、アルコ
    キシ(C1−C7)カルボニルアミノ、アシルアミノ、N
    −アルキル(C1−C7)アシルアミノ、ジアルキル(C
    1−C7)ホルムアミジノまたはジアルコキシ(C1
    7)メチル基を示す]のN基が保護されたインドリン
    と、水素または水素供与体とを、pH7以下でかつ室温
    と反応媒体の還流温度との間の温度の条件下で溶媒中で
    攪拌して混合し、以下の式(II): 【化2】 [式中、R2、R3およびR4は、式(I)と同様の意味
    を有する]のインドール化合物を得ることを特徴とする
    一段階のインドール化合物の調製方法。
  2. 【請求項2】 式(I)および(II)において、 アリ−ル基が、フェニル基、もしくはハロゲン原子、ト
    リフルオロメチル基、C1−C7アルキルまたはC1−C7
    アルコキシ基およびニトロ、アミノ、アルキル(C1
    7)アミノまたはジアルキル(C1−C7)アミノ基か
    らなる群から選択された一つ以上の置換基を備えたフェ
    ニル基を示し、 アシル基が、1〜7の炭素原子を有する脂肪族カルボン
    酸から誘導されたアルカノイル基もしくは芳香族カルボ
    ン酸から誘導されたアロイル基を示し、 かつアルケニルオキシ基が、アリルオキシ基を示すこと
    を特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 式(I)のインドリンが、5,6−ジヒ
    ドロキシ−1−N−ベンジルオキシカルボニルインドリ
    ン、5,6−ジヒドロキシ−1−N−アリルオキシカル
    ボニルインドリン、6−ヒドロキシ−1−N−ベンジル
    オキシカルボニルインドリン、4−ヒドロキシ−5−メ
    トキシ−1−N−ベンジルオキシカルボニルインドリ
    ン、6−ヒドロキシ−7−メトキシ−1−N−ベンジル
    オキシカルボニルインドリン、5−メトキシ−6−ヒド
    ロキシ−1−N−ベンジルオキシカルボニルインドリン
    および1−N−ベンジルオキシカルボニルインドリンか
    ら選択されたことを特徴とする請求項1または2に記載
    の方法。
  4. 【請求項4】 5,6−ジヒドロキシインドール、6−
    ヒドロキシインドール、4−ヒドロキシ−5−メトキシ
    インドール、6−ヒドロキシ−7−メトキシインドー
    ル、5−メトキシ−6−ヒドロキシインドールまたはイ
    ンドールを調製する請求項1ないし3のいずれか1項に
    記載の方法。
  5. 【請求項5】 溶媒のpHが5〜7の間とされたことを
    特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方
    法。
  6. 【請求項6】 水素が、低圧で分子水素であることを特
    徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方
    法。
  7. 【請求項7】 水素供与体が、シクロヘキセン、置換さ
    れたシクロヘキセン類、1,3−シクロヘキサジエンお
    よび1,4−シクロヘキサジエン等のオレフィン水素供
    与体から選択されたことを特徴とする請求項1ないし5
    のいずれか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 水素化触媒が、クロム、モリブデン、タ
    ングステン、白金、パラジウム、ロジウム、コバルト、
    ニッケルおよびルテニウムからなる群から選択された金
    属、これらの酸化物、またはコバルトモリブダートを含
    む酸化コバルトと酸化モリブデンの混合物等の前記物質
    の組み合わせであることを特徴とする請求項1ないし7
    のいずれか1項に記載の方法。
  9. 【請求項9】 水素化触媒が、パラジウムまたはラネー
    ニッケルもしくは白金族の他の金属であることを特徴と
    する請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 水素化触媒が、中性の木炭、中性の
    炭、中性のアルミナ、ゼオライトもしくは粘土上に置か
    れることを特徴とする請求項8または9に記載の方法。
  11. 【請求項11】 用いられた溶媒が、C1−C4アルコー
    ル類、炭化水素類、酢酸エチルおよびジメチルホルムア
    ミドからなる群から選択された不活性の溶媒であること
    を特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載
    の方法。
  12. 【請求項12】 溶媒が、エタノールまたは酢酸エチル
    から選択されたことを特徴とする請求項11記載の方
    法。
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