JP2661531B2 - 電圧電流変換回路 - Google Patents

電圧電流変換回路

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JP2661531B2 JP5323601A JP32360193A JP2661531B2 JP 2661531 B2 JP2661531 B2 JP 2661531B2 JP 5323601 A JP5323601 A JP 5323601A JP 32360193 A JP32360193 A JP 32360193A JP 2661531 B2 JP2661531 B2 JP 2661531B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電圧電流変換回路に関
し、特に半導体集積回路チップ上に形成された電界効果
MOSトランジスタ(MOSFET)を用いばらつき要
因を少なくし、直線性を向上させた電圧電流変換回路に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来のMOS型差動電圧電流変換回路に
ついて図面を用いて説明する。なお、本明細書中に用い
る各記号の意味は、I,ΔIが電流、V,ΔVが電圧、
Rが抵抗、rsがMOSトランジスタの内部ソース抵
抗、βがMOSFETの利得係数、gmが差動電圧電流
変換回路の相互コンダクタンスを示す。
【0003】図6は従来の回路構成図の一例を示す。図
中、N1 ,N2 はそれぞれ第1,第2の差動NMOSF
ETを、V1 ,V2 はそれぞれ第1,第2の入力端子お
よび入力電圧を表し、I0 は定電流源、I1 ,I2 はそ
れぞれ第1,第2の出力電流を表している。更に、差動
出力電流ΔIを次の式(1)で定義する。
【0004】この回路構成における入出力特性を図7
(a)および式(2)に示し、図7(a)上で差動入力
電圧が0となり電流増幅率gmが最大値gnmaxをと
る(式(3)参照)点での接線bを求め、上記接線と入
出力特性曲線との差より求められる非直線性Eを式
(1),(2)を用い式(4)で定義し、図7(b)に
示す。
【0005】
【0006】ここで図7(a),(b)上に示す数値は
0 =1mA、β=1×10-3A/V2 とした場合のも
のである。この図から、差動入力電圧ΔVが増加し差動
出力電圧ΔIが増加するにつれて、非直線性Eの絶対値
も増加していることがわかる。これはMOSFETのI
D −VGS特性において、MOSFETのゲート、ソース
間電圧VGSに対しドレイン電流ID の変化が比例しない
ために生じる現象である。
【0007】また、この回路のgmはMOSトランジス
タのソース内部抵抗rsで決まり、連続的なgmの設定
は困難である。定電流I0 を可変にしてgmを変えるこ
ともできるが、差動トランジスタのゲート・ソース間電
圧の変化による定電流源の両端子間の電圧の変化に伴う
特性の変化や、gmは定電流のルートに比例し制御しに
くい等の問題がある。
【0008】この特性は、第1,第2のMOSFETを
PMOSFETに置き換えた場合も同様に考えることが
できる。
【0009】図8は他の従来例の回路図を示す。図中、
第1,第2の差動NMOSFETN1 ,N2 のソース
に、ソース抵抗2R0 を設けた場合を表している。ま
た、I01,I02はそれぞれ第1,第2の定電流源、
1 ,I2 はそれぞれ第1,第2の出力電流を表してい
る。ここで定電流I00,差動出力電流ΔIを次の式
(5)で定義する。この回路構成における入出力特性
を、図9(a)および式(6)に示し、図9(a)上で
差動入力電圧が0となり電流増幅率gmが最大値gnm
axをとる(式(7)参照)点での接線bを求め、この
接線と入出力特性曲線との差により求められる非直線性
Eを式(5),(6)を用い式(8)で定義し、図9
(b)に示す。
【0010】
【0011】ここで図9(a),(b)上に示す数値は
00=1mA、β=1×10-3A/V2 、R0 =1kΩ
とした場合のものである。この図9(a),(b)から
差動入力電圧ΔVが増加し、差動出力電流ΔIが増加す
るにつれて、非直線性Eの絶対値も増加していることが
わかる。これはMOSのID −VGS特性においてMOS
FETのゲート、ソース間電圧VGSに対しドレインID
の変化が比例しないため、つまり、式(6)のように差
動入力電圧ΔVとソース抵抗の両端の電圧ΔVR (差動
出力電流ΔI)とが比例しないために生じる現象であ
る。
【0012】また、このときのgmはソース抵抗Rおよ
びMOSトランジスタのrsとの直列抵抗で決まり、特
にソース抵抗Rとrsが同程度の場合には、gmのばら
つき要因は上記2種類となり差動回路を複数用いる場
合、回路相互のgmの比を一定に保つことが困難にな
る。
【0013】つまり、例えばR,rsが増加する方向に
30%ばらつき、設計値R、rsに対し実際の値が
R′、rs′とすれば R′=1.3R ………(9) rs′=1.3rs ……(10) R′+rs′=1.3(R+rs)……(11) となる。ここで、もしR>>rsならば、式(11)は
次式(12)となり R′+rs′=1.3R ……(12) ばらつき要因はほとんどRのみであると考えてよい。
【0014】従って、Rがいくらかの違いを持つ複数の
差動回路が同一チップ上にあったとしても、そのgmは
Rのみに反比例するのでgmの比を一定に保つことがで
きる。
【0015】しかし、Rとrsが同程度であったとする
と、R=rsで、(11)は(13)となり、 R′+rs′=2.6R ……(13) Rまたはrsのみでは決まらず両者のばらつきを考慮し
て設計する必要がある。よって、差動回路相互のgmの
比は一定に保つことはできない。
【0016】また、この回路のgmはrsで決まり、
(I0 を一定とすると)連続的なgmの設定は困難であ
る。更に、Rが大きい場合には半導体集積回路チップ面
積の増大を招く。この特性は、第1,第2のNMOSF
ETをPMOSFETに置き換えた場合も同様に考える
ことができる。
【0017】図10(a),(b)は従来例のさらに別
の回路図を示す。これは、特開昭60−7211号公
報、特開昭60−66510号公報で報告されているも
のであるが、差動出力端子間に設けたMOSトランジス
タのゲートに電圧を加えることにより差動利得を可変と
している。しかし、MOSトランジスタが出力端子間に
設けられており、明らかに本発明とは回路構成が異な
る。また、差動出力の直線性に関しては特に改善される
ものではない。
【0018】図11は従来例のまた別の回路図を示す。
これは、特開平2−81505号公報で報告されている
ものであるが、差動バイポーラトランジスタのエミッタ
端子間に設けたMOSトラジスタのゲートに電圧を加え
ることにより差動利得を可変としている。
【0019】この回路は、MOSトランジスタとバイポ
ーラトランジスタの複合した回路構成であり、MOSト
ランジスタの利得係数が大きい領域ではgmのばらつき
要因が2種類となり回路相互のgmの比を一定に保つこ
とはやや困難になる。また、差動出力の直線性に関して
はバイポーラトランジスタ本来のベース・エミッタ間電
圧のエミッタ電流依存性が少ないことと、バイポーラト
ランジスタに対し直列に素子が接続されてないことによ
るもので特にMOSトランジスタを用いることで改善さ
れるものではない。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来例
の回路において、電流増幅率gmはソース抵抗RとMO
Sトランジスタのrsで決まってしまい、連続設定が困
難である。また、電流増幅率gmはソース抵抗RとMO
Sトランジスタのrsで決まり、特にRとrsが同程度
の場合には、gmのばらつき要因は上記2種類となり差
動回路を複数用いる場合、回路相互のgmの比を一定に
保つことが困難になる。また、ソース抵抗Rが大きい場
合は半導体集積回路のチップ面積の増大を招く。
【0021】本発明の目的は、これらの問題を解決し、
電流増幅率gmを連続して設定できると共に、その特性
ばらつきを少なくした電流電圧変換回路を提供すること
にある。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、それぞ
れのゲートを第1,第2の入力端子とし差動入力部を構
成する第1,第2のMOSFETと、これら第1,第2
のMOSFETの各ソースまたはドレインにソース(ま
たはドレイン)およびドレイン(またはソース)をそれ
ぞれ接続した第3のMOSFETと、前記第1,第2の
MOSFETのソースまたはドレインと前記第3のMO
SFETのソースおよびドレインとの各接続点と接地間
にそれぞれ接続した第1,第2の定電流源と、前記第
1,第2のMOSFETのゲート電圧をそれぞれ入力し
これら入力電圧により定まる制御電圧を前記第3のMO
SFETのゲート端子に供給するゲート電圧制御回路
と、前記各接続点の電圧をそれぞれ入力しこれら接続点
電圧により定まる制御電圧を前記第3のMOSFETの
バックゲートに供給するバックゲート電圧制御回路とを
有することを特徴とする。
【0023】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例の差動電流電圧
変換回路の基本構成を示す回路図を示す。また、全ての
実施例について素子を表す記号、構成は共通で第1,第
2のMOSFET(N1 ,N2 またはP1 ,P2 )の各
ソース端子に第1,第2の定電流源I01,I02をそれぞ
れ接続し、第1,第2のMOSFETのソース端子間に
更に別の第3のMOSFETN0 のソース(またはドレ
イン)、ドレイン(またはソース)を接続した差動電圧
電流変換回路となっている。さらに、MOSFETN0
のゲート電圧制御回路11と、バックゲート電圧制御回
路12とを設けている。
【0024】図2は本発明の第2の実施例の回路図、図
3(a),(b)はその入出力特性図である。この回路
は、入力端子V1 ,V2 に直列に接続した抵抗1 ,R
2 の接続点を第3のMOSFET0 のゲート端子電圧
の制御回路として接続している。つまり次式で与えられ
るVG のバックゲート電圧を加えている。
【0025】 VG =(V1 +V2 )/2……(20)ここで、I 1 ,I 2 ,I 3 は第1,第2のMOSFET
1 ,N 2 ,N 0 の電流とし、回路の各ノード電圧が、
図2のように、V 3,4 とすると 、この回路の各回路素子
を流れる電流を求めると、(21)(22)となり、ま
た定義から(23)(24)となる。また、βsを第3
のMOSFET0 の利得係数として式(2が得ら
る。
【0026】
【0027】続いて(21),(22),(24)より
(26)が求まり、(25)から(27)が求まる。
【0028】
【0029】続いて、(26),(27)より両者は等
しいので第1番目の{}を約して、V3 −V4 とV1
2 の関係を求めると、次式が得られる。
【0030】
【0031】続いて、V3 ,V4 を求める。(28)を
(21)、(22)に代入すると次のようになる。
【0032】
【0033】更に(31),(32),(21),(2
2)より出力電流I1 ,I2 を求めると、
【0034】
【0035】よって、(35),(36)より差動出力
電流ΔIは次式(37)となる。
【0036】 ΔI=I1 −I2 =(β/2)(1−α)ΔVX)……(37) さらに、従来例と同様に、図3(b)上でも差動電圧電
流変換回路の相互コンダクタンスgm、非直線性Eおよ
びその成立する範囲を式(38),(39)に定義す
る。
【0037】
【0038】この式(39)により、この回路が、第
の従来例に比べて直線性も改善され、またばらつき要因
も抵抗Rに関するものがないため、複数の差動回路のg
mの比を調整し易くなる。
【0039】本実施例は、NMOSFETをPMOSF
ETに、PMOSFETをNMOSFETに、定電流源
を逆方向に置き換えた場合も全く同様に考えることがで
きる。
【0040】図4(a)は本発明の第3の実施例の回路
図で、入力端子V1 ,V2 それぞれにアノードを接続し
た2つのダイオードD1 ,D2 をカソード共通接続しN
0 のゲート端子電圧の制御回路11として接続してい
る。つまり次式で与えられるVG を加えている。
【0041】VG =V1 (V1 >V2 )……(40) VG =V2 (V2 >V1 )……(41) ゲート電圧制御回路11の変形としては、図4(b)〜
(f)があり、それぞれほぼ同様の特性が得られるが、
基本的にV1 −V2 間に小量のリーク電流しか流れない
ので、入力端子に対し負荷が重いということはない。ま
た、従来例において差動入力ΔVが大きい領域で出力電
流ΔIの増加の割合が減少し直線性が減少するが、(4
0),(41)よりV1 ,V2 のうち高い方の電圧を出
力するのでN0 の伝導率は増加し、より直線性を向上す
る事ができる。
【0042】本実施例も、NMOSFETをPMOSF
ETに、PMOSFETをNMOSFETに、定電流源
を逆方向に置き換えた場合も全く同様に考えることがで
きる。
【0043】図5(a)は本発明の第4の実施例の回路
図で、ノードV3 ,V4 をそれぞれカソードに接続した
2つのダイオードD1 ,D2 をアノード共通接続し、N
0 のバックゲート端子電圧の制御回路12として接続し
ている。つまり次式で与えられるVB を加えている。
【0044】VB =V4 (V1 >V2 )……(42) VB =V3 (V2 >V1 )……(43) このバックゲート電圧制御回路12の変形としては、図
5(c),(d)があり、それぞれほぼ同様の特性が得
られる。高速で使用しなければ、図5(b)の様な構成
でも許容でき、回路の簡略化が図れる。基本的にV3
4 間に小量のリーク電流しか流れないので出力電流に
対し負荷が重いという事はない。この回路も第1または
第2の実施例の任意の回路と組み合わせて使用できる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように本発明の電流電圧変
換回路は、第1,第2のMOSFETのソース間に第3
のMOSFETのソース(またはドレイン)、ドレイン
(またはソース)を接続し、この第3のMOSトランジ
スタのゲートおよびバックゲート端子の電圧の制御回路
を設けることにより、電圧電流変換回路の相互コンダク
タンスgmをMOSFETの利得係数βのみで決めるこ
とができ、差動MOSFETと抵抗による回路に比べ、
ばらつき要因が少なく、また差動MOSFETの利得係
数βとそのソース間に接続されたMOSFETの利得係
数βの比で本回路の相互コンダクタンスgmが決まるの
で、利得係数βの形状に起因するばらつき要因の影響し
か受けないという特徴を持つ。さらに、ゲート電圧を印
加するゲート電圧制御回路によって、入力特性の直線性
も向上できる。
【0046】また、第3のMOSFETのゲート端子へ
出力する信号を変化させることにより、第3のMOSF
ETの相互コンダクタンスを変化させることができるの
で、電圧電流変換回路の相互コンダクタンスを必要に応
じて変化させることができる。
【0047】さらに、本発明の回路構成は、バイポーラ
プロセス単体では構成不可能かまたはかなり困難であっ
たが、MOSプロセスの回路での回路設計が容易になっ
ており、高抵抗(低ゲイン)の領域で素子サイズの小型
化も可能となる。さらに、全回路をMOSプロセスで構
成できることから、プロセスの簡略化によりコストダウ
ンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の基本構成を示す回路
図。
【図2】本発明の第2の実施例の回路構成図。
【図3】第2の実施例の入出力特性および非直線性特性
を示す図。
【図4】(a)〜(f)は本発明の第3の実施例の回路
構成図。
【図5】(a)〜(d)は本発明の第4の実施例の回路
構成図。
【図6】従来例の差動電圧電源変換回路の回路図。
【図7】(a),(b)は図6の従来例の入出力特性お
よび非直線性特性を示す図。
【図8】従来例の他の回路図。
【図9】(a),(b)は図8の入出力特性および非直
線性特性を示す図。
【図10】(a),(b)は従来例の別の回路構成図。
【図11】従来例のさらに別の回路構成図。
【符号の説明】
0 〜N4 NチャネルMOSトランジスタ P1 〜P2 PチャネルMOSトランジスタ 2R0 ソース抵抗および抵抗値 I0 定電流源 I1 ,I2 出力電流 V1 ,V2 入力端子および電圧 VB 0 のバックゲート電圧 VG 0 のゲート電圧 11 N0 のバックゲート電圧制御回路 12 N0 のゲート電圧制御回路

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 それぞれのゲートを第1,第2の入力端
    子とし差動入力部を構成する第1,第2のMOSFET
    と、これら第1,第2のMOSFETの各ソースまたは
    ドレインにソース(またはドレイン)およびドレイン
    (またはソース)をそれぞれ接続した第3のMOSFE
    Tと、前記第1,第2のMOSFETのソースまたはド
    レインと前記第3のMOSFETのソースおよびドレイ
    ンとの各接続点と接地間にそれぞれ接続した第1,第2
    の定電流源と、前記第1,第2のMOSFETのゲート
    電圧をそれぞれ入力しこれら入力電圧により定まる制御
    電圧を前記第3のMOSFETのゲート端子に供給する
    ゲート電圧制御回路と、前記各接続点の電圧をそれぞれ
    入力しこれら接続点電圧により定まる制御電圧を前記第
    3のMOSFETのバックゲートに供給するバックゲー
    ト電圧制御回路とを有することを特徴とする電流電圧変
    換回路。
  2. 【請求項2】 差動入力部が第1,第2のMOSFET
    へ出力電流を流し込む構造または流し出す構造とした請
    求項1記載の電圧電流変換回路。
  3. 【請求項3】 ゲート電圧制御回路が、第1の入力端子
    および第2の入力端子と第3のMOSFETのゲートと
    の間にそれぞれ第1,第2の抵抗を接続したものである
    請求項1記載の電圧電流変換回路。
  4. 【請求項4】 ゲート電圧制御回路が、第1の入力端子
    および第2の入力端子と第3のMOSFETのゲートと
    の間にそれぞれ第1,第2のダイオードを接続したもの
    である請求項1記載の電圧電流変換回路。
  5. 【請求項5】 バックゲート電圧制御回路が、第1の入
    力端子および第2の入力端子と第3のMOSFETのゲ
    ートとの間にそれぞれ第1,第2のダイオードを接続し
    たものである請求項1記載の電圧電流変換回路。
  6. 【請求項6】 第1,第2の抵抗の抵抗値を等しくした
    請求項3記載の電圧電流変換回路。
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