JP2659385B2 - デイスクカートリツジ - Google Patents

デイスクカートリツジ

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JP2659385B2
JP2659385B2 JP63040614A JP4061488A JP2659385B2 JP 2659385 B2 JP2659385 B2 JP 2659385B2 JP 63040614 A JP63040614 A JP 63040614A JP 4061488 A JP4061488 A JP 4061488A JP 2659385 B2 JP2659385 B2 JP 2659385B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば磁気デイスクカートリツジ、光デイ
スクカートリツジ、光−磁気デイスクカートリツジなど
のデイスクカートリツジに係り、特に合成樹脂の成形体
からなるカートリツジケースを用いたデイスクカートリ
ツジに関するものである。
〔従来の技術〕
第11図は従来から用いられている磁気デイスクカート
リツジの下ケースを上にして示した一部分解斜視図、第
12図はその磁気デイスクカートリツジに用いる上ケース
の平面図、第13図はその磁気デイスクカートリツジに用
いる下ケースの底面図である。
磁気デイスクカートリツジは、例えばABS樹脂などの
硬質合成樹脂で成形された上ケース1aならびに下ケース
1bよりなるカートリツジケース1と、その中に回転自在
に収納された磁気デイスク体2と、前記カートリツジケ
ース1に摺動可能に支持された金属製または合成樹脂製
のシヤツタ3とから主に構成されている。
前記上ケース1aならびに下ケース1bの所定位置には、
長方形、楕円形または長円形のヘツド挿入口4が設けら
れ、前記シヤツタ3によつて開閉されるようになつてい
る。また下ケース1bのほぼ中央には、円形の開口5が形
成されている。
前記磁気デイスク体2は、ドーナツ状をしたフレキシ
ブルな磁気デイスク2aと、その磁気デイスク2aの内周部
においてそれを固着支持する例えば磁性ステンレス板な
どからなるハブ2bとから構成されている。そしてこのハ
ブ2bが同図に示すように、前記ケース1bの開口5内に配
置されている。
また、上ケース1aならびに下ケース1bの前面付近に
は、前記シヤツタ3の摺動範囲を規制するために若干低
くなつた凹部6が形成されており、この凹部6の中間位
置に前記ヘツド挿入口4が開設されている。シヤツタ3
は図示しないバネ部材により、ヘッド挿入口4を閉塞す
る方向に常に弾性付勢されている。一方、下ケース1bの
前面近くには、シヤツタ3の摺動方向に延びたガイド溝
7が形成されている。
なお、第12図ならびに第13図において、8はラベル貼
着部で、上ケース1aならびに下ケース1bの表面より若干
低くなつている。9はケース1a,1bを射出成形した際に
生じるゲート跡である。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述のように上ケース1aならびに下ケース1bは合成樹
脂を射出成形することによつて形成される訳であるが、
第12図ならびに第13図に示すように、射出成形時のゲー
トがケース1a(1b)の前面側に相当する位置付近に所定
の間隔をおいて2個所、また後面側に相当する位置付近
に所定の間隔をおいて2個所の合計4個所の位置から溶
融状態の合成樹脂を成形金型内に射出、充填し、その後
保圧冷却することによつて成形していた。
このように成形金型内において、ケース1a(1b)の前
面側に相当する位置と後面側に相当する位置の両方から
溶融樹脂を射出して成形する。そのため、第12図ならび
に第13図に示すようにケース1a(1b)のほぼ中間位置付
近に、溶融樹脂が合流して融合する際に形成される傷
跡、所謂、ウエルドライン10が多々発生する。
ABS樹脂成形品において、ウエルドラインが形成され
た部分の機械的性質をウエルドラインが形成されていな
い部分と比較すると、下記の通りである。
.引張り強度は、約2〜10%低下する。
.クリープ破断時間は、約1/10〜1/100短縮される。
.引張り衝撃強度は、約70〜80%低下する。
.疲労強度(高い荷重を一定)は、約1/3〜1/2低下す
る。
このようにケース1a(1b)のほぼ中央部にウエルドラ
イン10及び10′が形成されると、その部分の機械的強度
が低下し、割れや変形の原因になる。
またウエルドライン10が形成されると外観上も好まし
くなく、成形不良の対象となる。さらにこれらの樹脂合
流点(中央部)には、樹脂の流れを容易にするためのガ
ス抜き構造をつけることが難しく、エアーポケツトやガ
ス焼けによる外観、強度に係る品質不良が多発する欠点
も生じる。
本発明の目的は、従来技術の欠点を解消し、機械的強
度に優れ、また外観の美しい、高品質のデイスクカート
リツジを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
前述の目的を達成するため、第1の本発明は、 面板部と、その面板部の周端部から立設された周壁
と、前記面板部に連設されてデイスク収納空間を区画形
成するためのリブとを有する合成樹脂の成形体からなる
カートリッジケースと、 そのカートリッジケース内に回転可能に収納された記
録ディスク体とを備えたディスクカートリッジを対象と
するものである。
そして前記面板部の一側端付近にのみ射出形成による
ゲート跡が設けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が
樹脂充填終了位置になり、 前記リブの厚さを面板部のデイスク収納空間に対応す
る部分の厚さよりも薄くすることにより、そのリブによ
りカートリッジケースの成形時における樹脂の流れの抵
抗部が形成されることを特徴とするものである。
前述の目的を達成するため、第2の本発明は、 面板部と、その面板部の周端部から立設された周壁と
を有する合成樹脂の成形体からなるカートリッジケース
と、 そのカートリッジケース内に回転可能に収納された記
録ディスク体とを備えたディスクカートリッジを対象と
するものである。
そして面板部の一側端付近にのみ射出形成によるゲー
ト跡が設けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が樹脂
充填終了位置になり、 前記周壁の厚さを面板部のデイスク収納空間に対応す
る部分の厚さよりも薄くすることにより、その周壁によ
りカートリッジケースの成形時における樹脂の流れの抵
抗部が形成されることを特徴とするものである。
〔実施例〕
次に本発明の実施例を図面とともに説明する。第1図
は上ケースの平面図、第2図は上ケースの底面図、第3
図は下ケースの平面図、第4図は下ケースの底面図、第
5図ならびに第6図は上ケースならびに下ケースの成形
時の樹脂の流れ状態を示す説明図、第7図はゲート跡付
近の拡大断面図、第8図は第2図A−A線上の拡大断面
図である。
カートリツジケース1を構成する上ケース1aならびに
下ケース1bは、例えばABS樹脂やスチレン樹脂などの硬
質合成樹脂で成形される。そして第1図に示すように上
ケース1aの前面付近でほぼ中央の位置に長方形、楕円形
または長円形のヘツド挿入口4が設けられ、このヘツド
挿入口4を含むようにしてシヤツタ3(図示せず)の摺
動範囲を規制するための凹部6が形成され、この部分は
その周囲に比べて薄肉になつている。この凹部6と隣接
するように上ケース1aの中間部から後面にわたつて、表
面より若干低くなつた幅広のラベル貼着部8が設けら
れ、この部分はその周囲に比べて薄肉に形成されてい
る。
上ケース1aの前面付近において、前記ヘツド挿入口4
を間にしてほぼ等間隔の位置にゲート跡9a,9bがそれぞ
れが形成され、従来のもの(第14図参照)と違つて上ケ
ース1aの後面付近にはゲート跡9が形成されていない。
従つて上ケース1aを成形する際には2個所のピンゲート
から溶融樹脂が金型内に注入され、後面端部11が上ケー
ス1aの最終充填位置となる。
第2図に示すように、上ケース1aの周端部には不連続
なリブ状の周壁12a、12b、12cが形成されている。これ
ら周壁12の内側にはそれらと連つた円弧状の3本のリブ
13a、13bが設けられ、リブ13の内側がデイスク(図示せ
ず)の収納空間となる。
一方のゲート跡9aと対応する位置には、上ケース1aの
内面に向けて突出した円錐台形のゲート落込み部14が形
成されている。なお、他方のゲート跡9bと対応する位置
は、その部分が厚肉になつているためゲート落込み部14
は形成されていないが、肉厚でなければ形成する必要が
ある。ゲート跡9aならびにゲート落込み部14の形状は第
7図に示すように、ゲート跡9aの周囲に環状凹部15が形
成されており、ゲート跡9aが上ケース1aの表面から突出
しないように逃げている。ゲート落込み部14はゲート跡
9aと対向する位置に設けられ、成形時の樹脂の流れをス
ムースにするために、ゲート落込み部14の傾斜角θは30
〜60度程度になつているとともに、ゲート落込み部14の
最も薄い部分でもその厚さL2は上ケース1aの厚さL1とと
ほぼ等しく設計されている。
第3図に示すように、下ケース1bの前面付近でほぼ中
央の位置に長方形、楕円形または長円形のヘツド挿入口
4ならびにガイド溝7が設けられ、このヘツド挿入口4
とガイド溝7を含むようにして凹部6が形成されてい
る。下ケース1bのほぼ中央位置には駆動軸が挿入される
開口5が設けられ、さらに後面付近には表面より若干低
くなつたラベル貼着部8が形成されている。
下ケース1bの前面付近において、ヘツド挿入口4を間
にしてほぼ等間隔の位置にゲート跡9a、9bがそれぞれ形
成され、上ケース1aと同様に溶融樹脂の注入が2個所か
ら行われ、後面端部11が下ケース1bの最終充填位置とな
る。
第4図に示すように、下ケース1bの周端部には不連続
なリブ状の周壁12a、12b、12cが形成されている。これ
ら周壁12の内側にはそれと連つた円弧状の3本のリブ13
a、13bが設けられ、リブ13の内側がデイスクの収納空間
となる。
上ケース1aと同様に、一方のゲート跡9aと対向する位
置には、下ケース1bの内面に向けて突出した円錐台形の
ゲート落込み部14が形成されている。なお、他方のゲー
ト跡9bと対向する位置は、その部分が厚肉となつている
のでゲート落込み部14は形成されていない。
第5図ならびに第6図は、上ケース1aならびに下ケー
ス1bの成形時における金型内での溶融樹脂の流れ状態を
模式的に示す図である。これらの図に示すように、溶融
樹脂はゲート跡9a、9bの位置(ピンゲート位置)から射
出されるから、従来の流れ方と異なり、図中の曲線で示
すように他方の側端部に向けて一方向に流れ、後面端部
11が最終充填位置となり、従来のようにケース1の中央
部にウエルドラインが形成されるようなことはない。
第2図らびに第4図に示すように、上ケース1a(下ケ
ース1b)の後面端部11付近には、その後面端部11に沿つ
て延びた1本のリブ状をした周壁12cと、周壁12bならび
に周壁12cにわたつて連結された2本の孤状リブ13bとが
形成されるようになつている。しかも、一方の孤状リブ
13bと他方の孤状リブ13bとの間に相当する上ケース1a
(下ケース1b)の表面にはラベル貼着部8が設けられる
ようになつているため、板厚がかなり薄く設計されてい
る。さらにデイスク収納空間部を形成する孤状リブ13
a、13bで取り囲まれた部分のケースの面板部は、その外
周隅部の三角形状部22に比べて薄肉に形成されている。
このようなことから、上ケース1a(下ケース1b)を成
形するとき、溶融状態の合成樹脂は孤状リブ13b、三角
形隅部22ならびに周壁12cが形成される部分の方に速く
樹脂が回り込み、デイスク収納空間を形成するケースの
面板部の樹脂充填終了位置となる込状リブ13bと孤状リ
ブ13bとの間の肉薄部は樹脂の流れ込みが悪い傾向にあ
る。そのため肉薄部の厚さが不十分となつたり、甚しい
ときには穴が開いたりする心配がある。そこで本実施例
では、次のような方策をとつている。すなわち、第8図
に示すように、 (a)込状リブ13bより内側のデイスク収納側の板厚t1
を1としたとき、周壁12bと周壁12cと孤状リブ13bとで
囲まれる略三角形部分22の板厚t2が1以下、好ましくは
1.0〜0.4の範囲に規制して、両者の表面をほぼ面一にし
た。
(b)孤状リブ13bの厚さt3も前記略三角形部分22の板
厚t1=1に対して1以下、好ましくは0.8〜0.4の範囲で
肉薄にした。
(c)周壁12cの少なくとも中央部付近(一方の孤状リ
ブ13bとの連結部と他方の孤状リブ13bとの連結部の間)
の厚さt4を薄くした。具体的には側壁12bの厚さを1と
したとき、前記中央部付近の厚さt4を0.7〜0.4の範囲に
するとよい。
このように周壁12c、略三角形部分22ならびに孤状リ
ブ13bを肉薄にすることにより、これら肉薄部が金型内
の樹脂の流れに対して抵抗部として作用することにな
る。また、略三角形部分22の表面を孤状リブ13bの内側
部分(デイスク収納部側)の表面の面一にすることによ
つて、周囲からデイスク収納部側への樹脂の流れを良く
し、前述のような成形不良の発生を防止している。
第9図は、本発明の他の実施例を説明するための上ケ
ース1aの平面図である。この実施例の場合、後面端部11
側に所定の間隔をおいて1つ以上(実施例では2個)の
ゲート跡9が形成されている。なおこの実施例の場合、
シヤツタ3の摺動範囲を規制する凹部6が肉薄部となつ
ている。そのため、周壁12aを肉薄にしたり、周壁12aと
周壁12bと孤状リブ13aとで囲まれる略三角形部分22の板
厚を薄くして、孤状リブ13aより内側のデイスク収納部
側の表面とほぼ面一にしたりする方策をとる方が良い。
なお、第9図では上ケース1aのみしか示されていない
が、下ケース1bも上ケース1aと同様な形状になつてい
る。
なお、本発明の実施例は磁気デイスクカートリツジの
場合について説明したが、本発明は他に例えば光デイス
クカートリツジや光−磁気デイスクカートリツジなどの
デイスクカートリツジにも適用可能である。
〔発明の効果〕 第10図は、本発明の実施例に係るものと比較例の特性
比較図である。図中の○印は良好と判断したもの、×印
は悪いと判断したもの、△印はその中間と判断したもの
をそれぞれ示している。
この図から明らかなように、本発明の実施例に係るも
のは、カートリツジケースに生じるウエルドラインは最
少限1本となり、中央部でのガス溜りによるピンホール
やガス焼けによる外観品質不良もなくし、また2本以上
の複雑なウエルドラインによる機械的強度の低下がな
い。
また、リブの厚さを面板部のデイスク収納空間に対応
する部分の厚さよりも薄くしたり、あるいは周壁の厚さ
を面板部のデイスク収納空間に対応する部分の厚さより
も薄くすることにより、そのリブあるいは周壁によりカ
ートリッジケースの成形時における樹脂の流れの抵抗部
が形成される。そのため面板部側への樹脂の流れが良く
なり、成形不良の発生が有効に防止できる。
このようなことから安定した製品寸法が得られ、高品
質のデイスクカートリツジを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第9図は本発明の実施例に係る磁気デイス
クカートリツジを説明するためのもので、第1図は上ケ
ースの平面図、第2図は上ケースの底面図、第3図は下
ケースの平面図、第4図は下ケースの底面図、第5図な
らびに第6図は上ケースならびに下ケースの成形時の樹
脂の流れ状態を示す説明図、第7図はゲート跡付近の拡
大断面図、第8図は第2図A−A線上の拡大断面図、第
9図は他の実施例を説明するための上ケースの平面図で
ある。 第10図は特性比較図、第11図は磁気デイスクカートリツ
ジの下ケースを上にして示した一部分解斜視図、第12図
ならびに第13図は従来の磁気デイスクカートリツジに用
いる上ケースの平面図ならびに下ケースの底面図であ
る。 1……カートリツジケース、1a……上ケース、1b……下
ケース、2……磁気デイスク体、4……ヘツド挿入口、
8……ラベル貼着部、9、9a、9b……ゲート跡、11……
後面端部、12a、12b、12c……周壁、13a、13b……孤状
リブ、22……略三角形部分。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−119730(JP,A) 実開 昭62−69884(JP,U) 実開 昭63−161485(JP,U)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】面板部と、その面板部の周端部から立設さ
    れた周壁と、前記面板部に連設されてデイスク収納空間
    を区画形成するためのリブとを有する合成樹脂の成形体
    からなるカートリッジケースと、 そのカートリッジケース内に回転可能に収納された記録
    ディスク体とを備えたディスクカートリッジにおいて、 前記面板部の一側端付近にのみ射出形成によるゲート跡
    が設けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が樹脂充填
    終了位置になり、 前記リブの厚さを面板部のデイスク収納空間に対応する
    部分の厚さよりも薄くすることにより、そのリブにより
    カートリッジケースの成形時における樹脂の流れの抵抗
    部が形成されることを特徴とするディスクカートリッ
    ジ。
  2. 【請求項2】面板部と、その面板部の周端部から立設さ
    れた周壁とを有する合成樹脂の成形体からなるカートリ
    ッジケースと、 そのカートリッジケース内に回転可能に収納された記録
    ディスク体とを備えたディスクカートリッジにおいて、 前記面板部の一側端付近にのみ射出形成によるゲート跡
    が設けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が樹脂充填
    終了位置になり、 前記周壁の厚さを面板部のデイスク収納空間に対応する
    部分の厚さよりも薄くすることにより、その周壁により
    カートリッジケースの成形時における樹脂の流れの抵抗
    部が形成されることを特徴とするディスクカートリッ
    ジ。
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