JPH01217780A - デイスクカートリツジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は１例えば磁気ディスクカートリッジ、光デイス
クカートリッジ、光−磁気ディスクカートリッジなどの
ディスクカートリッジに係り。

特に合成樹脂の成形体からなるカートリッジケースを用
いたディスクカートリッジに関するものである。

〔従来の技術〕

第１３図は従来から用いられている磁気ディスクカート
リッジの下ケースを上にして示した一部分解斜視図、第
１４図はその磁気ディスクカートリッジに用いる上ケー
スの平面図、第１５図はその磁気ディスクカートリッジ
に用いる下ケースの底面図である。

磁気ディスクカートリッジは、例えばＡＢＳ−樹脂など
の硬質合成樹脂で成形された上ケース１ａならびに下ケ
ース１ｂよりなるカートリッジケースｌと、その中に回
転自在に収納された磁気ディスク体２と、前記カートリ
ッジケース１に摺動可能に支持された金属製または合成
樹脂製のシャッタ３とから主に構成されている。

前記上ケース１ａならびに下ケース１ｂの所定位置には
、長方形、楕円形または長円形のヘッド挿入口４が設け
られ、前記シャッタ３によって開閉されるようになって
いる。また下ケースＩｂのほぼ中央には１円形の開口５
が形成されている。

前記磁気ディスク体２は、ドーナツ状をしたフレキシブ
ルな磁気ディスク２Ｑと、その磁気ディスク２ａの内周
部においてそれを固着支持する例えば磁性ステンレス板
などからなるハブ２ｂどから構成されている。そしてこ
のハブ２ｂが同図に示すように、前記下ケース１ｂの開
口５内に配置されている。

また、上ケースＩａならびに下ケースｌｂの前面付近に
は、前記シャッタ３の摺動範囲を規制するために若干低
くなった凹部６が形成されており。

この凹部６の中間位置に前記ヘッド挿入口４が開設され
ている。シャッタ３は図示しないバネ部材により、ヘッ
ド挿入口４を閉塞する方向に常に弾性付勢されている。

一方、下ケースｌｂの前面近くには、シャッタ３の摺動
力向に延びたガイド溝７が形成されている。

なオン、第１４図ならびに第１５図において、８はラベ
ル貼着部で、上ケースｌａならびに下ケースｉｂの表面
より若干低くなっている。９はケースｌａ、１ｂを射出
成形した際に生じるゲート跡である。

〔発明が解決しようとする課題〕

前述のように上ケース１ａならびに下ケースｌｂは合成
樹脂を射出成形することによって形成される訳であるが
、第１４図ならびに第１５図に示すように、射出成形時
のゲートがケース１ａ（１ｂ）の前面側に相当する位置
付近に所定の間隔をおいて２ａ所、また後面側に相当す
る位！ｌ！付近゛に所定の間隔をむいて２個所の合計４
個所の位置から溶融状態の合成樹脂を成形金型内に射出
、充填し、その後保圧冷却することによって成形してい
た。

このように成形金型内において、ケース１ａ（１ｂ）の
前面側に相当する位置と後面側に相当する位置の両方か
ら溶融樹脂を射出して成形する。

そのため、第１４図ならびに第１５図に示すようにケー
ス１ａ（ｌｂ）のほぼ中間位置付近に、溶融樹脂が合流
して融合する際に形成される傷跡、所謂、ウェルドライ
ン１０が多々発生する。

ＡＢＳ樹脂成形品において、ウェルドラインが形成さ九
た部分の機械的性質をウェルドラインが形成されていな
い部分と比較すると、下記の通りである。

■、引張り強度は、約２〜ｌＯ％低下する。

■、クリープ破断時間は、約１／１０〜１／１００に短
縮される。

■、引張り衝撃強度は、約７０〜８０％低下する。

■、疲労強度（高い荷重を一定）は、約１／３〜１／２
低下する。

このようにケース１ａ（ｌｂ）のほぼ中央部にウェルド
ライン１０及び１０’が形成されると、その部分の機械
的強度が低下し９割れや変形の原因になる。

またウェルドラインｌＯが形成されると外１ＩＩＪ：も
好ましくなく、成形不良の対象となる。さらにこれらの
樹脂合流点（中央部）には、樹脂の流れを容易にするた
めのガス抜き構造をつけることが難しく、エアーポケッ
トやガス焼けによる外観。

強度に係る品質不良が多発する欠点も生じる。

本発明の目的は、従来技術の欠点を解消し１機械的強度
に優れ、また外観の美しい、高品質のディスクカートリ
ッジを提供することにある。

【課題を解決するための手段〕

前述の目的を達成するため１本発明は１面板部と、その
面板部の周端から立設された周壁を有する合成樹脂の成
形体からなるカートリッジケースと、そのカートリッジ
ケース内に回転可能に収納された記録ディスク体とを備
えたディスクカート【実施例〕 次に本発明の実施例を図面とともに説明する。

第１図は上ケースの平面図、第２図は上ケースの底面図
、第３図は下ケースの平面図、第４図は下ケースの底面
図、第５図ならびに第６図は上ケースならびに下ケース
の成形時の樹脂の流れ状態を示す説明図、第７図はゲー
ト跡付近の拡大断面図。

第８図は第２図Ａ−Ａ線上の拡大断面図である。

カートリッジケースｌを構成する上ケースｌａならびに
下ケースｌｂは、例えばＡＢＳ樹脂やスチレン樹脂など
の硬質合成樹脂で成形される。そして第１図に示すよう
に上ケースｌａの前面付近でほぼ中央の位置に長方形、
楕円形または長円形のヘッド挿入口４が設けられ、この
ヘッド挿入口４を含むようにしてシャッタ３（図示せず
）の摺動範囲を規制するための凹部６が形成され、この
部分はその周囲に比べて薄肉になっている。この四部６
と隣接するように上ケースｌａの中間部から後面にわた
って、表面より若干低くなった幅広のラベル貼着部８が
設けられ、この部分はその周囲に比べて薄肉に形成され
ている。

上ケース１ａの前面付近において、前記ヘッド挿入口４
を間にしてほぼ等間隔の位置にゲート跡９ａ、９ｂがそ
れぞれが形成され、従来のもの（第１４図参照）と違っ
て上ケース１ａの後面付近にはゲート跡９が形成されて
いない、従って上ケースｌａを成形する際には２個所の
ピンゲートから溶融樹脂が金型内に注入され、後面端部
１１が上ケース１ａの最終充填位置となる。

第２図に示すように、上ケースｌａの周端部には不連続
なリブ状の周壁１２ａ、１２ｂ、１２ｃが形成されてい
る。これら周壁１２の内側にはそれらと違った円孤状の
３本のリブ１３ａ、１３ｂが敗けられ、リブ１３の内側
がディスク（図示せず）の収納空間となる。

一方のゲート跡９ａと対応する位置には、上ケース１ａ
の内面に向けて突出した円錐台形のゲート落込み部１４
が形成されている。なお、他方のゲート跡９ｂと対応す
る位置は、その部分が厚内になっているためゲート落込
み部１４は形成されていないが、肉厚でなければ形成す
る必要がある。

ゲート跡９ａならびにゲート落込み部１４の形状は第８
図に示すように、ゲート跡９ａの周囲に環状凹部１５が
形成されており、ゲート跡９ａが上ケース１ａの表面か
ら突出しないように逃げている。ゲート落込み部１４は
ゲート跡９ａと対向する位置に設けられ、成形時の樹脂
の流れをスムースにするために、ゲート落込み部１４の
傾斜角θは３０〜６０度程度になっているとともに、ゲ
ート落込み部１４の最も薄い部分でもその厚さＬ２は上
ケースｌａの厚さＬｌととほぼ等しく設計されている。

第３ｒｌ！Ｉに示すように、下ケース１ｂの前面付近で
ほぼ中央の位置に長方形、楕円形または長円形のヘッド
挿入口４ならびにガイド溝７が設けられ。

このヘッド挿入口４とガイド溝７を含むようにして凹部
６が形成されている。下ケース１ｂのほぼ中央位置には
駆動軸が挿入される開口５が設けられ、さらに後面付近
には表面より若干低くなったラベル貼着部８が形成され
ている。

下ケース１ｂの前面付近において、ヘッド挿入口４を間
にしてほぼ等間隔の位置にゲート跡９ａ、９ｂがそれぞ
れ形成され、上ケース１ａと同様に溶融樹脂の注入が２
個所から行われ、後面端部１１が下ケースｉｂの最終充
填位置となる。

第４図に示すように、下ケース１ｂの周端部には不連続
なリブ状の周壁１２ａ、１２ｂ、１２ｃが形成されてい
る。これら周壁１２の内側にはそれと違った円孤状の３
本のリブ１３ａ、１３ｂが設けられ、リブ１３の内側が
ディスクの収納空間となる。

上ケース１ａと同様に、一方のゲート跡９ａと対向する
位置には、下ケース１ｂの内面に向けて突出した円錐台
形のゲート落込み部１４が形成されている。なお、他方
のゲート跡９ｂと対向する位置は、その部分が厚肉とな
っているのでゲート落込み部１４は形成されていない。

第５図ならびに第６図は、上ケース１ａならびに下ケー
スｌｂの成形時における金型内での溶融樹脂の流れ状態
を模式的に示す図である。これらの図に示すように、溶
融樹脂はゲート跡９ａ、９ｂの位！（ピンゲート位！り
から射出されるから、従来の流れ方と異なり、図中の曲
線で示すように他方の側端部に向けて一方向に流れ、後
面端部１１が最終充填位置となり、従来のようにケース
１の中央部にウェルドラインが形成されるようなことは
ない。

第２図らびに第４図に示すように、上ケース１ａ　（下
ケースｌｂ）の後面端部１１付近には、その後面端部１
１に沿って延びた１本のリブ状をした周壁１２ｃと１周
壁１２ｂならびに周壁１２ｃにわたって連結された２本
の弧状リブ１３ｂとが形成されるようになっている。し
かも、一方の弧状リブ１３ｂと他方の弧状リブ１３ｂと
の間に相当する上ケースｌａ（下ケースｌｂ）の表面に
はラベル貼着部８が設けられるようになっているため、
板厚がかなり薄く設計されている。さらにディスク収納
空間部を形成する弧状リブ１３ａ。

１３ｂで取り囲まれた部分のケースの面板部は。

その外周隅部の三角形状部２２に比べて薄肉に形成され
ている。

このようなことから、上ケースｌａ（下ケースｌｂ）を
成形するとき、溶融状態の合成樹脂は弧状リブ１３ｂ、
三角形隅部２２ならびに周壁１２Ｃが形成される部分の
方に速く樹脂が回り込み。

ディスク収納空間を形成するケースの面板部の樹脂充填
終了位置となる弧状リブ１３ｂと弧状リブ１３ｂとの間
の肉薄部は樹脂の流れ込みが悪い傾向にある。そのため
肉薄部の厚さが不十分となったり、甚しいときには穴が
開いたりする心配がある。　そこで本実施例では、次の
ような方策をとっている。すなわち、第８図に示すよう
に、（ａ）弧状リブ１３ｂより内側のディスク収納側の
板厚ｔｘを１としたとき１周壁１２ｂと周壁１２ｃと弧
状リブ１３ｂとで囲まれる略三角形部分２２の板厚ｔ２
が１以下、好ましくは１．０〜０．４の範囲に規制して
、両者の表面をほぼ面一にした。

（ｂ）弧状リブ１３ｂの厚さｔｌも前記略三角形部分２
２の板厚ｔ　ｘ　＝　１に対して１以下、好ましくは０
．８〜０．４の範囲で肉薄にした。

（ｃ）周１ｉ　１２　ｃの少なくとも中央部付近（一方
の弧状リブ１３ｂとの連結部と他方の弧状リブ１３ｂと
の連結部の間）の厚さｔ４を薄くした。

具体的には側１！１２ｂの厚さを１としたとき、前記中
央部付近の厚さｔ４を０．７〜０．４の範囲にするとよ
い。

このように周壁１２ｃ、略三角形部分２２ならびに弧状
リブ１３ｂを肉薄にすることにより、これら肉薄部が金
型内の樹脂の流れに対して抵抗部として作用することに
なる。また、略二角形部分２２の表面を弧状リブ１３ｂ
の内側部分（ディスク収納部側）の表面と面一にするこ
とによって、周囲からディスク収納部側への樹脂の流れ
を良くし、前述のような成形不良の発生を防止している
。

リッジを対象とするものである。

そして、前記面板部の一側端部付近のみに射出用ゲート
跡が設けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が樹脂充
填最終位置になっていることを特徴とするものである。

第９図ならびに第１０図は、本完明の他の実施例を説明
するための上ケース１ａの底面図である。

この実施例の場合、前記実施例の他に弧状リブ１３ｂが
断続的に分割して形成されている。このようにすれば、
成形時の弧状リブ１３ｂ付近における樹脂の抵抗効果が
顕著になる。

この実施例の場合第１Ｏ図に示すように、三角形隅部２
２．弧状リブ１３ｂおよび周壁１２ｃの厚みｔａ’　、
ｔｊ’　、ｔａ’は、ディスク収納空間部の樹脂充填終
了位置における厚さｔｚ’に対して下記のような関係に
ある。

ｔａ’：１．４ｔｘ’ ｔ１’＝１．４ｔｘ’ ｔａ’＝１．１を五′ 第１１図は１本発明のさらに他の実施例を説明するため
の上ケースｌａの平面図である。この実施例の場合、後
面端部１１側に所定の間隔をお１１て１つ以上（実施例
では２個）のゲート跡９が形成されている。なおこの実
施例の場合、シャッタ３の摺動範囲を規制する四部６が
肉薄部となっている。そのため１周壁１２ａを肉薄にし
たり、周壁１２ａと周壁１２ｂと弧状リブ１３ａとで囲
まれる略三角形部分２２の板厚を薄くして、弧状リブ１
３ａより内側のディスク収納部側の表面とほぼ面一にし
たりする方策をとる方が良い。

なお、第９図ならびに第１１図では上ケースｌａのみし
か示されていないが、下ケースｌｂも上ケース１ａと同
様な形状になっている。

なお１本発明の実施例は磁気ディスクカートリッジの場
合について説明したが、本発明は他に例えば光デイスク
カートリッジや光−磁気ディスクカートリッジなどのデ
ィスクカートリッジにも適用可能である。

〔発明の効果〕

第１２図は１本発明の実施例に係るものと比較例の特性
比較図である０図中の０印は良好と判断したもの、ｘ印
は悪いと判断したもの、Δ印はその中間と判断したもの
をそれぞれ示している。

この図から明゛らかなように、本発明の実施例に係るも
のは、カートリッジケースに生じるウェルドラインは最
少限１本となり、中央部でのガス溜りによるピンホール
やガス焼けによる外観品質不良もなくし、また２本以上
の複雑なウェルドラインによる機械的強度の低下もなく
、安定した製品寸法が得られ、高品質のディスクカート
リッジを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第１１図は本発明の実施例に係る磁気ディ
スクカートリッジを説明するためのもので、第１図は上
ケースの平面図、第２図は上ケースの底面図、第３図は
下ケースの平面図、第４図は下ケースの底面図、第５図
ならびに第６図は上ケースならびに下ケースの成形時の
樹脂の流れ状態を示す説明図、第７図はゲート跡付近の
拡大断面図、第８図は第２図Ａ−Ａ線上の拡大断面図。 第９図ならびに第１Ｏ図は他の実施例を説明するための
上ケースの底面図ならびに第９図Ｂ−Ｂ線上の拡大断面
図、第１１図はさらに他の実施例を説明するための上ケ
ースの平面図である。 ツジの下ケースを上にして示した一部分解斜視図、第１
４図ならびに第１５図は従来の磁気ディスクカートリッ
ジに用いる上ケースの平面図ならびに下ケースの底面図
である。 １・・・・・・カートリッジケース、ｌａ・・・・・・
上ケース。 ｌｂ・・・・・・下ケース、２・・・・・・磁気ディス
ク体、４・・・・・・ヘッド挿入口、８・・・・・・ラ
ベル貼着部、９．９ａ。 ９ｂ・・・・・・ゲート跡、１１・・・・・・後面端部
、１２ａ。 １２ｂ、１２ｃ・・・・・・周壁、１３ａ、１３ｂ・・
・・・・弧状リブ、２２・・・・・・略三角形部分。 第１図 第２図 第３図 ８　　　　　　　　　　　　Ｉｌ 第４図 ２ど　　　　　　　　　　ＩＩ　　　　　　　　　　　
　　　　　ｔｔ第５図 第６図 第７図 第８図 第１０図 第９図 第１１図 ８　　　　　　　　　　　　　ｌＩ 第１４図 ’ｔ　！１Ｊｔｏ・　　　　　ｂ 第１５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、面板部とその面板部の周端部から立設された周壁を
   有する合成樹脂の成形体からなるカートリッジケースと
   、そのカートリッジケース内に回転可能に収納された記
   録ディスク体とを備えたディスクカートリッジにおいて
   、 前記面板部の一側端付近にのみ射出成形用ゲート跡が設
   けられ、そのゲート跡と反対側の側端部が樹脂充填終了
   位置になつていることを特徴とするディスクカートリッ
   ジ。 ２、請求項１記載のゲート跡と反対側の側端部にケース
   成形時に樹脂の流れに対して抵抗となる抵抗部が設けら
   れていることを特徴とするディスクカートリッジ。 ３、請求項２記載の抵抗部がゲート跡と反対側の側端隅
   部における面板部に形成されており、前記面板部がディ
   スク収納空間を形成する面板部の樹脂充填終了位置にお
   ける厚さとほぼ等厚以下に形成することによつて、前記
   抵抗部が形成されていることを特徴とするディスクカー
   トリッジ。 ４、請求項２記載の抵抗部がディスク収納空間を区画形
   成するためのリブに形成され、そのリブをディスク収納
   空間の樹脂充填終了位置における厚さのほぼ等厚以下に
   することによつて、前記抵抗部が形成されていることを
   特徴とするディスクカートリッジ。 ５、請求項２記載の抵抗部がディスク収納空間を区画形
   成するためのリブに形成されており、そのリブを断続的
   に分割することによつて前記抵抗部が形成されているこ
   とを特徴とするディスクカートリッジ。 ６、請求項２または３項記載の抵抗部が前記周壁に形成
   されており、その周壁を肉薄にすることによつて前記抵
   抗部が形成されていることを特徴とするディスクカート
   リッジ。 ７、請求項１記載のゲート跡が、ヘッド挿入口の近傍に
   形成れていることを特徴とするデイスクカートリツジ。 ８、請求項１記載のゲート跡の裏側にゲート落込み部が
   形成されていることを特徴とするディスクカートリッジ
   。