JP2651052B2 - 密着露光装置 - Google Patents
密着露光装置Info
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- JP2651052B2 JP2651052B2 JP3007111A JP711191A JP2651052B2 JP 2651052 B2 JP2651052 B2 JP 2651052B2 JP 3007111 A JP3007111 A JP 3007111A JP 711191 A JP711191 A JP 711191A JP 2651052 B2 JP2651052 B2 JP 2651052B2
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- photomask
- wafer
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レジストが塗布され
たウエハ上にフォトマスクを密着させて焼き付け露光を
行う密着露光装置に関する。
たウエハ上にフォトマスクを密着させて焼き付け露光を
行う密着露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は従来のフォトマスクの平面図、図
8〜11は従来のフォトマスク密着工程を示した図であ
る。フォトマスク1の領域2内に焼き付けのパターン3
が印刷されている(図3参照)。このフォトマスク1は
マスクプレートホルダ6に端部を保持されている。
8〜11は従来のフォトマスク密着工程を示した図であ
る。フォトマスク1の領域2内に焼き付けのパターン3
が印刷されている(図3参照)。このフォトマスク1は
マスクプレートホルダ6に端部を保持されている。
【0003】そしてフォトマスク1のパターン3に対向
してウエハ8が配置される。ウエハ8はウエハチャック
9上に支持され、表面にはレジスト7が塗布されてい
る。なお図において10はバキュームゲージである。密
着処理工程を開始する前、ウエハ8とフォトマスク1と
の間はN2 ガス雰囲気に維持されている(図8)。そし
てこの後両者8,1間のN2 ガスは真空排気される(図
9,図10)。このとき、ウエハ8,フォトマスク1の
中心部付近が最初に気圧が下がるから、中心部から密着
が開始される。そして密着状態が徐々に周囲に広がって
ゆく。このようにしてフォトマスク1のほぼ全面がウエ
ハ8に密着されると次に、ウエハチャック9の表面から
N2 ガスがわずかに噴出されてウエハ8が押し上げられ
る。これによってウエハ8とフォトマスク1とがより密
着されるようになる。
してウエハ8が配置される。ウエハ8はウエハチャック
9上に支持され、表面にはレジスト7が塗布されてい
る。なお図において10はバキュームゲージである。密
着処理工程を開始する前、ウエハ8とフォトマスク1と
の間はN2 ガス雰囲気に維持されている(図8)。そし
てこの後両者8,1間のN2 ガスは真空排気される(図
9,図10)。このとき、ウエハ8,フォトマスク1の
中心部付近が最初に気圧が下がるから、中心部から密着
が開始される。そして密着状態が徐々に周囲に広がって
ゆく。このようにしてフォトマスク1のほぼ全面がウエ
ハ8に密着されると次に、ウエハチャック9の表面から
N2 ガスがわずかに噴出されてウエハ8が押し上げられ
る。これによってウエハ8とフォトマスク1とがより密
着されるようになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のフォト
マスク密着工程ではバキュームゲージを確認しながら徐
々に真空排気バルブを開けてゆき、フォトマスクがウエ
ハの中心から徐々に密着されてゆくようにしていた。し
かしながら従来は、バキュームゲージの値だけに基づい
て真空排気バルブを操作しており、ウエハ8とフォトマ
スク1との密着度を直接確認することがないので密着不
良が発生し易い問題があった。例えば両者8,1の密着
状態に対してバルブの開動作が若干早くなってしまうこ
とがあり、それによって図9〜11に示したようにウエ
ハ8の中心部でフォトマスク1が浮いた状態になってし
まうことがあった。このようにフォトマスクが浮いた状
態になっているとパターン焼き付け時に歪みが生じ易
く、不良品となってしまうことかある。
マスク密着工程ではバキュームゲージを確認しながら徐
々に真空排気バルブを開けてゆき、フォトマスクがウエ
ハの中心から徐々に密着されてゆくようにしていた。し
かしながら従来は、バキュームゲージの値だけに基づい
て真空排気バルブを操作しており、ウエハ8とフォトマ
スク1との密着度を直接確認することがないので密着不
良が発生し易い問題があった。例えば両者8,1の密着
状態に対してバルブの開動作が若干早くなってしまうこ
とがあり、それによって図9〜11に示したようにウエ
ハ8の中心部でフォトマスク1が浮いた状態になってし
まうことがあった。このようにフォトマスクが浮いた状
態になっているとパターン焼き付け時に歪みが生じ易
く、不良品となってしまうことかある。
【0005】この発明の目的は、フォトマスクをウエハ
に良好な状態で密着させることができる密着露光装置を
提供することにある。
に良好な状態で密着させることができる密着露光装置を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は、レジストが
塗布されたウエハと、フォトマスクと、を対向配置し、
両者間のガスを真空排気することによって前記ウエハと
フォトマスクとを密着させて露光を行う密着露光装置に
おいて、前記フォトマスクに、透明フィルムからなりフ
ォトマスクの中心部付近を通過する、干渉パターンによ
る密着状態確認用の確認窓を形成したことを特徴とす
る。
塗布されたウエハと、フォトマスクと、を対向配置し、
両者間のガスを真空排気することによって前記ウエハと
フォトマスクとを密着させて露光を行う密着露光装置に
おいて、前記フォトマスクに、透明フィルムからなりフ
ォトマスクの中心部付近を通過する、干渉パターンによ
る密着状態確認用の確認窓を形成したことを特徴とす
る。
【0007】
【作用】この発明においてはフォトマスクに、中心部付
近を通過する確認窓が形成されている。この確認窓は透
明フィルムからなるため、真空排気によってフォトマス
クがウエハに密着していったとき、ウエハがこの確認窓
から確認できるようになる。すなわち確認窓にウエハと
フォトマスクとの密着状態が干渉パターンとして現れ
る。したがって、この干渉パターンによってフォトマス
クが浮いているか、密着しているか、を直接認識するこ
とができ、その状態に応じて真空排気バルブの開操作を
調整することができ、それによってフォトマスクの浮き
を防止することができる。
近を通過する確認窓が形成されている。この確認窓は透
明フィルムからなるため、真空排気によってフォトマス
クがウエハに密着していったとき、ウエハがこの確認窓
から確認できるようになる。すなわち確認窓にウエハと
フォトマスクとの密着状態が干渉パターンとして現れ
る。したがって、この干渉パターンによってフォトマス
クが浮いているか、密着しているか、を直接認識するこ
とができ、その状態に応じて真空排気バルブの開操作を
調整することができ、それによってフォトマスクの浮き
を防止することができる。
【0008】
【実施例】図1はこの発明に係るフォトマスクの平面図
である。フォトマスク4のパターン領域2内にはパター
ン3が形成されている。このパターン3と別に領域2の
ほぼ中央部を通過するように十字型の確認窓5が形成さ
れている。この確認窓5は透明なフィルムで構成されて
おり、ウエハ8とフォトマスクとが密着している場合に
はそのウエハ8を確認することができる。またこの確認
窓は焼き付け露光時の処理に影響を与えないように露光
光を透過または遮断するように構成されている。例えば
ネガ型の露光の場合には光を透過しないようにする必要
があり、ポジ型の露光の場合には光を透過するように構
成する必要がある。
である。フォトマスク4のパターン領域2内にはパター
ン3が形成されている。このパターン3と別に領域2の
ほぼ中央部を通過するように十字型の確認窓5が形成さ
れている。この確認窓5は透明なフィルムで構成されて
おり、ウエハ8とフォトマスクとが密着している場合に
はそのウエハ8を確認することができる。またこの確認
窓は焼き付け露光時の処理に影響を与えないように露光
光を透過または遮断するように構成されている。例えば
ネガ型の露光の場合には光を透過しないようにする必要
があり、ポジ型の露光の場合には光を透過するように構
成する必要がある。
【0009】図2〜6はフォトマスクの密着工程を示し
た図である。フォトマスク4はマスクプレートホルダ6
に保持され、ウエハ8はこのフォトマスク4に対向配置
されている。そしてウエハ8,フォトマスク4間のN2
ガスが真空排気装置によって排気され始めると、まずフ
ォトマスク4の中心部がウエハ8に密着する(図3)。
このとき、確認窓5からは図示するように中心部に干渉
パターン11が確認される。この干渉パターン11は図
4,図5に示したように、ウエハ8はフォトマスク4と
の密着度が増すほどだんだんと広がってゆく。.この干
渉パターンはウエハ8とフォトマスク4との実際の密着
状態であるから、この干渉パターンを確認しながら真空
排気バルブを開いていった場合には、バルブを早く開き
過ぎてしまうということがなくなり、両者8,4の密着
不良が生じてしまうことがない。そしてある程度ウエハ
8とフォトマスク4とが密着されると(図5)次にウエ
ハチャック9からN2 ガスが僅かに噴出され、ウエハ8
が持ち上げられてフォトマスク4に確実に密着する。
た図である。フォトマスク4はマスクプレートホルダ6
に保持され、ウエハ8はこのフォトマスク4に対向配置
されている。そしてウエハ8,フォトマスク4間のN2
ガスが真空排気装置によって排気され始めると、まずフ
ォトマスク4の中心部がウエハ8に密着する(図3)。
このとき、確認窓5からは図示するように中心部に干渉
パターン11が確認される。この干渉パターン11は図
4,図5に示したように、ウエハ8はフォトマスク4と
の密着度が増すほどだんだんと広がってゆく。.この干
渉パターンはウエハ8とフォトマスク4との実際の密着
状態であるから、この干渉パターンを確認しながら真空
排気バルブを開いていった場合には、バルブを早く開き
過ぎてしまうということがなくなり、両者8,4の密着
不良が生じてしまうことがない。そしてある程度ウエハ
8とフォトマスク4とが密着されると(図5)次にウエ
ハチャック9からN2 ガスが僅かに噴出され、ウエハ8
が持ち上げられてフォトマスク4に確実に密着する。
【0010】以上のようにしてフォトマスク4とウエハ
8とが密着され、この後パターン焼き付けの露光処理が
行われる。
8とが密着され、この後パターン焼き付けの露光処理が
行われる。
【0011】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウエハ
とフォトマスクとの実際の密着状態を示す干渉パターン
に基づいて真空排気バルブ操作を行うことができ、実際
の密着状態を認識することができるため、バルブ開動作
を安定させることができ、ウエハにフォトマスクを正確
に密着させることができる。したがって密着工程の歩留
まりが向上する利点がある。
とフォトマスクとの実際の密着状態を示す干渉パターン
に基づいて真空排気バルブ操作を行うことができ、実際
の密着状態を認識することができるため、バルブ開動作
を安定させることができ、ウエハにフォトマスクを正確
に密着させることができる。したがって密着工程の歩留
まりが向上する利点がある。
【図1】この発明の実施例に係るフォトマスクの平面図
である。
である。
【図2】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図3】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図4】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図5】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図6】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図7】従来のフォトマスクの平面図である。
【図8】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工程
を示した図である。
を示した図である。
【図9】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工程
を示した図である。
を示した図である。
【図10】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工
程を示した図である。
程を示した図である。
【図11】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工
程を示した図である。
程を示した図である。
【符号の説明】 2 パターン領域 3 焼き付けパターン 4 フォトマスク 5 確認窓 6 マスクプレートホルダ 7 レジスト膜 8 ウエハ 11 干渉パターン
Claims (1)
- 【請求項1】レジストが塗布されたウエハと、フォトマ
スクと、を対向配置し、両者間のガスを真空排気するこ
とによって前記ウエハとフォトマスクとを密着させて露
光を行う密着露光装置において、前記フォトマスクに、
透明フィルムからなりフォトマスクの中心部付近を通過
する、干渉パターンによる密着状態確認用の確認窓を形
成したことを特徴とする密着露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3007111A JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3007111A JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04240715A JPH04240715A (ja) | 1992-08-28 |
JP2651052B2 true JP2651052B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=11656980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3007111A Expired - Fee Related JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2651052B2 (ja) |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3007111A patent/JP2651052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04240715A (ja) | 1992-08-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080516 Year of fee payment: 11 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516 Year of fee payment: 12 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |