JP2651052B2 - 密着露光装置 - Google Patents
密着露光装置Info
- Publication number
- JP2651052B2 JP2651052B2 JP3007111A JP711191A JP2651052B2 JP 2651052 B2 JP2651052 B2 JP 2651052B2 JP 3007111 A JP3007111 A JP 3007111A JP 711191 A JP711191 A JP 711191A JP 2651052 B2 JP2651052 B2 JP 2651052B2
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- wafer
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レジストが塗布され
たウエハ上にフォトマスクを密着させて焼き付け露光を
行う密着露光装置に関する。
たウエハ上にフォトマスクを密着させて焼き付け露光を
行う密着露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は従来のフォトマスクの平面図、図
８〜１１は従来のフォトマスク密着工程を示した図であ
る。フォトマスク１の領域２内に焼き付けのパターン３
が印刷されている（図３参照）。このフォトマスク１は
マスクプレートホルダ６に端部を保持されている。
８〜１１は従来のフォトマスク密着工程を示した図であ
る。フォトマスク１の領域２内に焼き付けのパターン３
が印刷されている（図３参照）。このフォトマスク１は
マスクプレートホルダ６に端部を保持されている。
【０００３】そしてフォトマスク１のパターン３に対向
してウエハ８が配置される。ウエハ８はウエハチャック
９上に支持され、表面にはレジスト７が塗布されてい
る。なお図において１０はバキュームゲージである。密
着処理工程を開始する前、ウエハ８とフォトマスク１と
の間はＮ2 ガス雰囲気に維持されている（図８）。そし
てこの後両者８，１間のＮ2 ガスは真空排気される（図
９，図１０）。このとき、ウエハ８，フォトマスク１の
中心部付近が最初に気圧が下がるから、中心部から密着
が開始される。そして密着状態が徐々に周囲に広がって
ゆく。このようにしてフォトマスク１のほぼ全面がウエ
ハ８に密着されると次に、ウエハチャック９の表面から
Ｎ2 ガスがわずかに噴出されてウエハ８が押し上げられ
る。これによってウエハ８とフォトマスク１とがより密
着されるようになる。
してウエハ８が配置される。ウエハ８はウエハチャック
９上に支持され、表面にはレジスト７が塗布されてい
る。なお図において１０はバキュームゲージである。密
着処理工程を開始する前、ウエハ８とフォトマスク１と
の間はＮ2 ガス雰囲気に維持されている（図８）。そし
てこの後両者８，１間のＮ2 ガスは真空排気される（図
９，図１０）。このとき、ウエハ８，フォトマスク１の
中心部付近が最初に気圧が下がるから、中心部から密着
が開始される。そして密着状態が徐々に周囲に広がって
ゆく。このようにしてフォトマスク１のほぼ全面がウエ
ハ８に密着されると次に、ウエハチャック９の表面から
Ｎ2 ガスがわずかに噴出されてウエハ８が押し上げられ
る。これによってウエハ８とフォトマスク１とがより密
着されるようになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のフォト
マスク密着工程ではバキュームゲージを確認しながら徐
々に真空排気バルブを開けてゆき、フォトマスクがウエ
ハの中心から徐々に密着されてゆくようにしていた。し
かしながら従来は、バキュームゲージの値だけに基づい
て真空排気バルブを操作しており、ウエハ８とフォトマ
スク１との密着度を直接確認することがないので密着不
良が発生し易い問題があった。例えば両者８，１の密着
状態に対してバルブの開動作が若干早くなってしまうこ
とがあり、それによって図９〜１１に示したようにウエ
ハ８の中心部でフォトマスク１が浮いた状態になってし
まうことがあった。このようにフォトマスクが浮いた状
態になっているとパターン焼き付け時に歪みが生じ易
く、不良品となってしまうことかある。
マスク密着工程ではバキュームゲージを確認しながら徐
々に真空排気バルブを開けてゆき、フォトマスクがウエ
ハの中心から徐々に密着されてゆくようにしていた。し
かしながら従来は、バキュームゲージの値だけに基づい
て真空排気バルブを操作しており、ウエハ８とフォトマ
スク１との密着度を直接確認することがないので密着不
良が発生し易い問題があった。例えば両者８，１の密着
状態に対してバルブの開動作が若干早くなってしまうこ
とがあり、それによって図９〜１１に示したようにウエ
ハ８の中心部でフォトマスク１が浮いた状態になってし
まうことがあった。このようにフォトマスクが浮いた状
態になっているとパターン焼き付け時に歪みが生じ易
く、不良品となってしまうことかある。
【０００５】この発明の目的は、フォトマスクをウエハ
に良好な状態で密着させることができる密着露光装置を
提供することにある。
に良好な状態で密着させることができる密着露光装置を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、レジストが
塗布されたウエハと、フォトマスクと、を対向配置し、
両者間のガスを真空排気することによって前記ウエハと
フォトマスクとを密着させて露光を行う密着露光装置に
おいて、前記フォトマスクに、透明フィルムからなりフ
ォトマスクの中心部付近を通過する、干渉パターンによ
る密着状態確認用の確認窓を形成したことを特徴とす
る。
塗布されたウエハと、フォトマスクと、を対向配置し、
両者間のガスを真空排気することによって前記ウエハと
フォトマスクとを密着させて露光を行う密着露光装置に
おいて、前記フォトマスクに、透明フィルムからなりフ
ォトマスクの中心部付近を通過する、干渉パターンによ
る密着状態確認用の確認窓を形成したことを特徴とす
る。
【０００７】
【作用】この発明においてはフォトマスクに、中心部付
近を通過する確認窓が形成されている。この確認窓は透
明フィルムからなるため、真空排気によってフォトマス
クがウエハに密着していったとき、ウエハがこの確認窓
から確認できるようになる。すなわち確認窓にウエハと
フォトマスクとの密着状態が干渉パターンとして現れ
る。したがって、この干渉パターンによってフォトマス
クが浮いているか、密着しているか、を直接認識するこ
とができ、その状態に応じて真空排気バルブの開操作を
調整することができ、それによってフォトマスクの浮き
を防止することができる。
近を通過する確認窓が形成されている。この確認窓は透
明フィルムからなるため、真空排気によってフォトマス
クがウエハに密着していったとき、ウエハがこの確認窓
から確認できるようになる。すなわち確認窓にウエハと
フォトマスクとの密着状態が干渉パターンとして現れ
る。したがって、この干渉パターンによってフォトマス
クが浮いているか、密着しているか、を直接認識するこ
とができ、その状態に応じて真空排気バルブの開操作を
調整することができ、それによってフォトマスクの浮き
を防止することができる。
【０００８】
【実施例】図１はこの発明に係るフォトマスクの平面図
である。フォトマスク４のパターン領域２内にはパター
ン３が形成されている。このパターン３と別に領域２の
ほぼ中央部を通過するように十字型の確認窓５が形成さ
れている。この確認窓５は透明なフィルムで構成されて
おり、ウエハ８とフォトマスクとが密着している場合に
はそのウエハ８を確認することができる。またこの確認
窓は焼き付け露光時の処理に影響を与えないように露光
光を透過または遮断するように構成されている。例えば
ネガ型の露光の場合には光を透過しないようにする必要
があり、ポジ型の露光の場合には光を透過するように構
成する必要がある。
である。フォトマスク４のパターン領域２内にはパター
ン３が形成されている。このパターン３と別に領域２の
ほぼ中央部を通過するように十字型の確認窓５が形成さ
れている。この確認窓５は透明なフィルムで構成されて
おり、ウエハ８とフォトマスクとが密着している場合に
はそのウエハ８を確認することができる。またこの確認
窓は焼き付け露光時の処理に影響を与えないように露光
光を透過または遮断するように構成されている。例えば
ネガ型の露光の場合には光を透過しないようにする必要
があり、ポジ型の露光の場合には光を透過するように構
成する必要がある。
【０００９】図２〜６はフォトマスクの密着工程を示し
た図である。フォトマスク４はマスクプレートホルダ６
に保持され、ウエハ８はこのフォトマスク４に対向配置
されている。そしてウエハ８，フォトマスク４間のＮ2
ガスが真空排気装置によって排気され始めると、まずフ
ォトマスク４の中心部がウエハ８に密着する（図３）。
このとき、確認窓５からは図示するように中心部に干渉
パターン１１が確認される。この干渉パターン１１は図
４，図５に示したように、ウエハ８はフォトマスク４と
の密着度が増すほどだんだんと広がってゆく。．この干
渉パターンはウエハ８とフォトマスク４との実際の密着
状態であるから、この干渉パターンを確認しながら真空
排気バルブを開いていった場合には、バルブを早く開き
過ぎてしまうということがなくなり、両者８，４の密着
不良が生じてしまうことがない。そしてある程度ウエハ
８とフォトマスク４とが密着されると（図５）次にウエ
ハチャック９からＮ2 ガスが僅かに噴出され、ウエハ８
が持ち上げられてフォトマスク４に確実に密着する。
た図である。フォトマスク４はマスクプレートホルダ６
に保持され、ウエハ８はこのフォトマスク４に対向配置
されている。そしてウエハ８，フォトマスク４間のＮ2
ガスが真空排気装置によって排気され始めると、まずフ
ォトマスク４の中心部がウエハ８に密着する（図３）。
このとき、確認窓５からは図示するように中心部に干渉
パターン１１が確認される。この干渉パターン１１は図
４，図５に示したように、ウエハ８はフォトマスク４と
の密着度が増すほどだんだんと広がってゆく。．この干
渉パターンはウエハ８とフォトマスク４との実際の密着
状態であるから、この干渉パターンを確認しながら真空
排気バルブを開いていった場合には、バルブを早く開き
過ぎてしまうということがなくなり、両者８，４の密着
不良が生じてしまうことがない。そしてある程度ウエハ
８とフォトマスク４とが密着されると（図５）次にウエ
ハチャック９からＮ2 ガスが僅かに噴出され、ウエハ８
が持ち上げられてフォトマスク４に確実に密着する。
【００１０】以上のようにしてフォトマスク４とウエハ
８とが密着され、この後パターン焼き付けの露光処理が
行われる。
８とが密着され、この後パターン焼き付けの露光処理が
行われる。
【００１１】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウエハ
とフォトマスクとの実際の密着状態を示す干渉パターン
に基づいて真空排気バルブ操作を行うことができ、実際
の密着状態を認識することができるため、バルブ開動作
を安定させることができ、ウエハにフォトマスクを正確
に密着させることができる。したがって密着工程の歩留
まりが向上する利点がある。
とフォトマスクとの実際の密着状態を示す干渉パターン
に基づいて真空排気バルブ操作を行うことができ、実際
の密着状態を認識することができるため、バルブ開動作
を安定させることができ、ウエハにフォトマスクを正確
に密着させることができる。したがって密着工程の歩留
まりが向上する利点がある。
【図１】この発明の実施例に係るフォトマスクの平面図
である。
である。
【図２】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図３】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図４】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図５】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図６】本実施例に係るフォトマスクとウエハとの密着
処理工程を示した図である。
処理工程を示した図である。
【図７】従来のフォトマスクの平面図である。
【図８】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工程
を示した図である。
を示した図である。
【図９】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工程
を示した図である。
を示した図である。
【図１０】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工
程を示した図である。
程を示した図である。
【図１１】従来のフォトマスクとウエハとの密着処理工
程を示した図である。
程を示した図である。
【符号の説明】 ２ パターン領域 ３ 焼き付けパターン ４ フォトマスク ５ 確認窓 ６ マスクプレートホルダ ７ レジスト膜 ８ ウエハ １１ 干渉パターン
Claims (1)
- 【請求項１】レジストが塗布されたウエハと、フォトマ
スクと、を対向配置し、両者間のガスを真空排気するこ
とによって前記ウエハとフォトマスクとを密着させて露
光を行う密着露光装置において、前記フォトマスクに、
透明フィルムからなりフォトマスクの中心部付近を通過
する、干渉パターンによる密着状態確認用の確認窓を形
成したことを特徴とする密着露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3007111A JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3007111A JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04240715A JPH04240715A (ja) | 1992-08-28 |
| JP2651052B2 true JP2651052B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=11656980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3007111A Expired - Fee Related JP2651052B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 密着露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2651052B2 (ja) |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3007111A patent/JP2651052B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04240715A (ja) | 1992-08-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080516 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516 Year of fee payment: 12 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |