JP2650763B2 - 蛋白質含有物質に対する親和性の低い流体処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は蛋白質吸着性の低い流体処理装置を提供す
る。より詳しくは、蛋白質含有液体を過などの処理す
る方法および、ペプチド含有物質や蛋白質含有物質など
アミド基含有物質に対してすべての接触面が親和性の低
い過装置に関する。

過は、蛋白質含有物質の精製および製造でますます
重要になりつつある技法である。これらの物質の多くは
医薬の製造に用いることを意図しておりそして高い経済
的価値を有する。過はこれら物質を製造する多くの工
程で用いられる。その方法は分析および診断でも用いら
れる。こうして、多くの場合に過を用いて細胞、細胞
片、動植物組織の残りをも含む生物学的液体から蛋白質
を分離する。過、特に限外過を用いて他の生物学的
物質から所望の蛋白質を分離したりあるいは、溶液を有
用な蛋白質濃縮液に調整したりすることができる。この
技法は、医薬製剤や生物学的製剤からバクテリヤや他の
生物学的組織を除去することにより生成物の殺菌を行う
これら製剤の最終製造工程での用途もある。

蛋白質含有製剤の製造あるいは精製中に何回も過を
行うかもしれないので、過で処理される流体から所望
の蛋白質の損失をできる限り少なくすることが重要であ
る。これは特に、求められている蛋白質を作るのが困難
であつたりあるいは非常に高価であるときに重要であ
る。過が医薬の製造および包装においてびん詰工程で
行われる最終操作であるときも重要であり、ここで各々
のびんは指定された量の所望の蛋白質を含んでいなけれ
ばならず、そして過中での蛋白質の損失がほとんどあ
るいはまつたくないことが容認される。

種々の表面への蛋白質の吸着に関する幾つかの研究が
行われているが、蛋白質を吸着する傾向の低い過装置
の構造にはほとんど注意が向けられていない。ほとんど
の研究は蛋白質に対する親和性の低い過媒体に向けら
れている。このような媒体を用いると過工程での所望
の蛋白質の吸着を低下できるが、使用中に蛋白質含有流
体に接触する過装置の他の部材による蛋白質の吸着に
より蛋白質が損失する問題は今まで考慮されなかつた。

生物学的流体の過や試験に用いる過装置や診断装
置を作るのに現在用いられている材料の多くは、蛋白質
含有物質を吸着する傾向に悩まされている。蛋白質含有
物質に対して低い親和性を示す物質は存在するけれど
も、それらの物質は代表的に蛋白質含有物質の吸着以外
の欠点を有する。こうして、幾つかの物質は成形や機械
加工が困難であるために、所望の部材へ作ることが困難
かもしれない。他の物質は、加工は容易であつても、非
常に高価であるかもしれない。これらの問題を招かない
さらに他の物質は薬剤の製造に関する用途に不向きかも
しれない。例えば、このような物質は殺菌条件やオート
クレーブ条件に耐えられないかもしれず、または医薬製
剤の他の成分と不適合であるかもしれない。

本発明はアミド基含有物質に対する親和性の低い過
装置であつて、多孔質構造体と；この多孔質構造体を保
持する手段を含む、流体接触部材と；その場で形成され
そしてこれらの多孔質構造体および流体接触部材の表面
に直接結合した、アミド基含有物質に対する親和性の低
い表面変性用高分子物質；とからなる過装置を提供す
る。表面変性用高分子物質は水酸基に富むものであるこ
とができ、前記の多孔質構造体および流体接触部材のう
ちの少なくとも一方は電離線の影響下でラジカルを形成
することのできる物質から形成することができる。前記
多孔質構造体および流体接触部材のうちの少なくとも一
方はさらにポリアミド、例えばナイロン66からなること
ができる。表面変性用高分子物質は少なくとも１つのヒ
ドロキシル基を有する一官能性モノマーから誘導でき、
そしてこのモノマーはヒドロキシアルキルアクリレート
またはメタクリレートなどのエチレン性不飽和化合物で
あることができる。モノマーの例は２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロプ−１−イルアクリレート、１
−ヒドロキシプロプ−２−イルアクリレート、３−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロプ−
１−イルメタクリレート、１−ヒドロキシプロプ−２−
イルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、またはこれら２種類以上の混合物、または２−
ヒドロキシプロプ−１−イルアクリレート、１−ヒドロ
キシプロプ−２−イルアクリレートまたはこれらの混合
物である。さらに、アミド基含有物質はペプチド基含有
物質などの蛋白質含有物質であることができる。

本発明はまた、アミド基含有物質に対する親和性の低
い過装置であつて、多孔質構造体；この多孔質構造体
を保持する手段を含む、流体接触部材；およびその場で
形成されそして前記の多孔質構造体および流体接触部材
の表面に直接結合した、アミノ基含有物質に対する親和
性の低い表面変性用高分子物質；からなり、流体接触部
材は多孔質構造の支持体、多孔質構造の排水材料、エン
ドキヤツプ、外側保持器、中心コア、アダプター、配管
およびハウジングの少なくとも１つを含むものである
過装置を提供する。多孔質構造体はフイルター部材であ
ることができる。

本発明はまた、 （ａ） ポリスルホン、ポリエステル、ポリオレフイ
ン、ポリ二フツ化ビニリデン、またはポリアミドから形
成されたハウジング； （ｂ） 使い捨てフイルターカートリツジ； （ｃ） 流体接触部材；および （ｄ） その場で形成されそして部材（ａ）、（ｂ）お
よび（ｃ）の表面に直接結合した、アミド基含有物質に
対する親和性の低い表面変性用高分子物質； からなる、アミド基含有物質に対する親和性の低いフイ
ルターアツセンブリーを提供する。

本発明はまた、アミド基含有物質に対する親和性の低
い過装置を製造する方法であつて、 多孔質構造体とこれを保持する手段を含む流体接触部
材とからなる過装置の部材を、少なくとも１つのヒド
ロキシル基を有する一官能性モノマーであつて、アミド
基含有物質に対する親和性の低いポリマーを形成するこ
とのできるモノマーの溶液と接触させ；そして これらの部材とこのモノマーとに電離線をあてて、こ
れらの部材の表面で前記モノマーの重合とこれら部材の
表面への結合を行わせる； 上記各工程からなる方法をも提供する。

前記多孔質構造体および流体接触部材のうちの少なく
とも一方は、電離線の影響下でラジカルを形成すること
のできる物質、例えばナイロン66などのポリアミドから
なることができる。前記モノマーから形成できるポリマ
ーはヒドロキシル基に富むものであることができる。前
記過装置の部材を別々に前記モノマー溶液と接触させ
ても、あるいは集成状態で接触させてもよい。

本発明はまた、蛋白質含有物質を含む流体を、蛋白質
含有物質の損失を最小にして過する方法であつて、 （ａ） 多孔質構造体； （ｂ） この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接
触部材；および （ｃ） その場で形成されそして前記多孔質構造体およ
び前記流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含
有物質に対する親和性の低い表面変性用高分子物質； からなる、蛋白質含有物質に対する親和性の低い過装
置に蛋白質含有物質を含む流体を導入し；そして この流体を前記多孔質構造体に通すことからなる方法
をを提供する。

本発明はまた、 （ａ） 多孔質構造体； （ｂ） この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接
触部材；および （ｃ） その場で形成されそしそ前記多孔質構造体と前
記流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有物
質に対する親和性の低い表面変性用高分子物質； とからなる、アミド基含有物質に対する親和性の低い流
体処理装置をも提供する。

本発明はアミド基含有物質、特にペプチド基含有物質
または蛋白質含有物質に対する親和性の低い、過装置
などの流体処理装置を提供する。本発明はまた、このよ
うな過装置を用いて、所望のアミド基含有物質または
蛋白質含有物質の最小の損失でもつて蛋白質含有物質を
含む流体を過することも提供する。単数形でも複数形
でも用いられている用語“流体処理装置”はフイルター
部材と特に流体接触部材を含む関連するハードウエアと
を含むすべての装置のことである。“フイルター部材”
は、流体に不溶性の他の物質、例えば固体または半固体
の物質から過される流体、代表的にはガスまたはより
一般的には液体を分離するために流体を通す多孔質構造
体または過媒体を意味する。“関連するハードウエ
ア”はフイルター部材以外の装置のすべての部材であつ
て、過または試験される流体、最も一般には液体、と
接触（または接触するのに適合した）するものを含む。
最少の場合は、これは多孔質構造体（フイルター部材）
を保持する部材を含み、そして液体を（例えば配管で）
多孔質構造体の上流面へおよび／または下流面から離れ
て導く要素または部材を含んでもよい。これは代表的に
は、しかし制限されるものではないが、付属部品、保持
部材（フイルター部材を保持するものなど）、アダプタ
ー、支持体および排水材料、エンドキヤツプ、外側保持
器、フイルターコア、流体源または受器と外部流体連通
を図るのに装置内で用いる配管、およびハウジングを含
む。本明細書で用いられている用語“フイルターエレメ
ント”または“フイルターカートリツジ”は、あるなら
ば、フイルター部材、支持体および排水材料（もしあれ
ば）、エンドキヤツプ、外側保持器、コア、および何れ
の必要なアダプターを含む装置、特に過装置をいう。
用語“フイルターアツセンブリー”はハウジング内に収
納されたフイルターエレメントを含む、自給式で通常は
シールされた過装置をいう。

過装置において、フイルター部材の主たる目的およ
び機能は比較的大量の流体および／または固体成分の混
合物を分離あるいは精製することである。

本発明はすべての部材が、アミド基含有物質、特にペ
プチド基含有物質または蛋白質含有物質に対する親和性
の低い過される液体と接触するまたは接触するよう適
合された流体処理装置を提供する。本発明の流体処理装
置は、従来の材料から作つた部品を含む相当する装置よ
りも、そして蛋白質含有物質に対する親和性の低い過
部材を含むけれども残りの部材は従来の材料から作られ
た流体処理装置よりも、蛋白質の吸着性が低い。加え
て、本発明は、あまり高価でなく、オートクレーブする
ことができ、そして容易に作ることのできる材料から作
られる。

特に、本発明は、使用中に液体と接触するすべての表
面が蛋白質含有物質に対する親和性が低くなるように変
性されている使い捨て型フイルターカートリツジまたは
カプセルフイルターを提供する。カプセルフイルター
は、一体的装置としてハウジング内に密封されたフイル
ターエレメントを含みそして過装置が一部となつてい
る流体取扱装置にアツセンブリーを接続するのに必要な
ホース結線または備品を含む使い捨て型フイルターアツ
センブリーである。加えて、本発明はフイルターアツセ
ンブリーへおよびここからの液体をつなぐのに用いるプ
ラスチツクの配管を含んでもよい。

本発明の流体処理装置は好ましくは（ａ）フイルター
部材、すなわち多孔質構造体、および（ｂ）過される
流体と接触するまたは接触するよう適合したフイルター
部材以外の流体処理装置のすべての流体接触部材を含
む、関連するハードウエア；を含む。（ａ）および
（ｂ）の両者は好ましくは、モノマー物質でグラフト重
合を受けて表面にアミド基含有物質に対する低い親和性
を付与する特に高分子物質などの物質から成形される。
このグラフト重合の結果として、部材はこれらの表面で
アミド基含有物質、特にペプチド基含有物質または蛋白
質含有物質に対して親和性の低い表面変性用高分子物質
に直接結合し、この表面変性用高分子物質は水酸基に富
む。表面変性用高分子物質を誘導するモノマーは少なく
とも１つのヒドロキシル基を有する１種類またはそれ以
上の一官能性モノマー、好ましくはビニル系またはエチ
レン系の不飽和ヒドロキシル含有モノマーである。表面
変性用物質は好ましくはヒドロキシル基に富む。表面変
性用高分子物質のヒドロキシル基はアミド基含有物質に
対して低い親和性を与える。加えて、ヒドロキシルに富
む表面は疎水性基体に塗布すると親水性を付与する。

部材の各成分を別々にまたは集成流体処理装置を１種
類以上の適当なヒドロキシル含有モノマーと接触させそ
の後基体を短波長紫外線、または好ましくはガンマ線な
どの電離線にあてることにより、装置の使用中に処理流
体と接触するまたは接触することが期待されるすべての
部材、例えば部材（ａ）および（ｂ）、の表面上に表面
変性用高分子物質が形成されそしてグラフトされる。こ
れは、モノマーの重合と過装置の部材を形成する基体
へのグラフト化となる。

本発明は、過および／または試験される流体、特に
蛋白質含有物質を含む液体などの液体と接触するまたは
接触するよう適合したすべての部材の表面が、ペプチド
基含有物質または蛋白質含有物質などのアミド基含有物
質に対してし親和性の低い流体処理装置および最も特定
的には過装置を提供する。好ましくは、過装置は
（ａ）フイルター部材、および（ｂ）フイルター部材以
外の集成装置内で液体と接触するまたは接触するように
適合した流体処理装置のすべての部材；を含む。本発明
の過装置の最も簡単な態様においては、平行な側壁を
有する管、あるいはフイルター漏斗などでみられる円錐
管などのテーパー管の形態をとることができる。この装
置はフイルター部材を保持する手段を有し、装置の壁は
フイルター部材の上流面へおよびたぶんフイルター部材
の下流面から離れて流体を導くように配置される。他の
態様においては、過装置は使い捨て型フイルターエレ
メント、ハウジング内に設けたフイルターエレメント、
またはカプセルフイルターの形であつてもよい。これら
の態様において、部材は適当なハードウエア例えば保持
部材、エンドキヤツプ、中心コア、および外側保持器、
および何れの支持体および排水材料、並びにハウジン
グ、適当なシール、付属部品、および流体処理装置の一
部である残りの装置に過装置を接続する配管を含んで
もよい。

各々の部材は、アミド基含有物質、特にペプチド基を
含む蛋白質含有物質に対し低い親和性の表面を与えるヒ
ドロキシル基に富む高分子物質で表面が変性されている
適当な材料、好ましくは高分子物質から形成できる。
過部材（多孔質構造体）としてまたは他の流体接触部材
としてのどちらでも本発明の部材としての使用に適した
物質は好ましくは、表面でラジカル種を形成することが
できかつ、電離線にあてたときに悪影響を及ぼさない高
分子物質である。加えて、このような物質は、部材の表
面を変性するのに用いるモノマー溶液中で用いられる溶
媒とも、モノマー自身とも、そして表面変性剤とも意図
しない反応をすべきでない。このような物質および表面
変性剤はまたオートクレーブ条件や殺菌条件に耐えるべ
きである。ハードウエア部材、すなわちフイルターエレ
メント以外の部材として用いるとき、この物質は代表的
には使い捨てフイルターおよびフイルターアツセンブリ
ーの製造で通常用いられるタイプの成形可能な熱可塑性
プラスチツクまたは機械加工性高分子物質である。本発
明のすべての部材に使用するのに適した物質は、電離線
の影響下でラジカル種を形成できる高分子物質である。
このような物質の例はポリアミド（例えばナイロン）、
ポリスルホン、ポリオレフイン（例えばポリエチレンお
よびポリプロピレン）、フツ素化ポリマー（例えばポリ
二フツ化ビニリデン、パーフルオロアルコキシ樹脂（PF
A）、およびエチレンクロロトリフルオロエチレンコポ
リマー）、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタ
レートおよびポリブチレンテレフタレート）およびアセ
タールベースポリマーを含む。フイルター部材としての
使用に好ましい物質はポリアミド、ポリスルホン、ポリ
オレフイン、ポリエステル、セルロースエステル、およ
びポリ二フツ化ビニリデンである。多孔質構造体以外の
流体処理装置の部材としての使用に好ましい物質はポリ
スルホン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ二フツ化ビ
ニリデン、およびポリオレフイン、特にポリエチレンお
よびポリプロピレンである。

本発明においてフイルター部材としての使用に特に好
ましいものはナイロンなどのポリアミドであり、これら
のうち好ましいナイロンはポリヘキサメチレンアジパミ
ド、ポリ−ε−カプロラクタム、ポリメチレンセバカミ
ド、ポリ−７−アミノヘプタノアミド、またはポリヘキ
サメチレンアゼレアミドを含み、ポリヘキサメチレンア
ジパミド（ナイロン66）が最も好ましい。

本発明の多孔質構造体またはフイルター以外の部材と
しての使用に最も好ましい物質は、ポリプロピレン、ポ
リエステル、および直前で述べたタイプのポリアミドで
ある。

多孔質構造体をフイルターとして、特に過装置で用
いるとき、この部材は代表的には、絶対細孔等級（細孔
直径）が0.01ないし100ミクロンの範囲、好ましくは0.0
5ないし30ミクロンのものとして特性づけられる。

蛋白質含有物質に対し親和性の低い表面変性用高分子
物質は、特に表面変性用高分子物質の形成後または形成
時に反応してヒドロキシル基を形成することのできるヒ
ドロキシ基に富む一官能性不飽和モノマーから部材の表
面にその場で形成できるものであつて、そして電離線の
影響下で重合を受けそして基体に結合することのできる
何れの高分子物質であつてもよい。本発明での使用に適
したモノマーの反応基を記述するのに用いる用語“一官
能性”、“官能基”、および“官能性”は重合の原因と
なりそして高分子基体または部材の表面に結合すると思
われる官能基をいう。

ペプチド基含有または蛋白質含有物質に対する表面変
性された高分子基体の親和性は、媒体を形成する高分子
基体よりもかなり低い。

本明細書で用いる用語“蛋白質含有物質”は蛋白質、
ペプチド、およびアミノ酸を含み、そしてアミド基と他
の基との割合が高い立体的に接近可能なアミドの基また
は物質をもつ物質を含んでもよい。“表面”、“基体表
面”、“部材表面”、など単数形および複数形で用いら
れるこれらの用語は、使用時に流体と接触する本発明の
流体処理装置のすべての表面を含むことを意図する。こ
れらは集成状態でまたは非集成状態で視野にさらされる
面などの粗面、すなわち外面のみならず、フイルターコ
アの中空部、部材内または部材間の間隙、あるいはフイ
ルター部材を形成する媒体の細孔など視野にあらわれな
い内面を規定する内面をも含む。

本発明の流体処理装置は、アミド基含有物質に対する
親和性の低い高分子物質を表面にグラフトすることによ
り別々に変性されている個々の部材から組み立てること
ができる。これは、重合できそして部材の表面にグラフ
トできてそれによりアミド基含有物質に対して低い親和
性を部材に与える適当なモノマーの溶液に各部材を浸す
ことにより成し遂げてもよい。

同様に、そして特に過装置では、使用時に処理され
る流体、特に過すべき流体と接触するまたは接触する
よう適合した集成装置のすべての内面とモノマー溶液と
が接触するように、集成フイルターエレメントまたはフ
イルターアツセンブリーをモノマー溶液に浸してもよ
い。次いで部材または集成フイルター装置を適当に照射
して重合およびグラフトを行う。ガンマ線照射が好まし
いが、ある場合には部材の表面と接触するすべての液体
が照射を受けるときは、個々の部材の照射には紫外線を
用いる。

接触、重合およびグラフトを行つて表面変性を与える
すべての既知手段を本発明で使用できる。しかしなが
ら、この目的を達成する特に好ましい手段はEPO特許出
願公開第0272841号に記載されている。

これらの文献は、保持されているモノマー溶液をも含
む多孔質または微孔質高分子基体の表面を照射する好ま
しい方法は、表面処理された高分子膜がさらされる電離
線の種類にある程度依存すると述べている。例えばもし
ガンマ線を用いるならば、膜全体を処理すること、すな
わちモノマー処理した高分子基体の一巻を通常照射する
ことがしばしば好ましい。この手法では照射の前に好ま
しくは膜の形の基体を代表的には巻きほどき、モノマー
含有溶液に送り、次いで巻きもどすか、あるいは別法と
して膜物質のロール全体を巻くことなくモノマー含有溶
液に浸してもよい。重合および架橋を紫外線照射により
行うとき、連続手法が好ましい。代表的手法は微孔質膜
材料をモノマー含有溶液に通し次いでモノマー処理され
た多孔質膜を照射帯域へ送ることを含む。

重合を行うエネルギー源がガンマ線であるとき、モノ
マー溶液で満たした高分子基体のロールを“脱ガス”す
る。すなわち、モノマー溶液に存在する空気を除去する
ために何らかの方法でモノマー溶液含有ロールを処理す
る。これは、空気をヘリウム、アルゴン、クリプトンな
どの不活性ガスと置換することにより、あるいはモノマ
ー溶液含有ロールを減圧にかけることを含む手法により
成し遂げてもよい。その後、照射の用意ができるまでロ
ールを空気のない包装容器に適当に密封してもよい。モ
ノマー溶液含有高分子多孔質膜を包装容器内で直接照射
するので、ガンマ線の浸透をあまりさまたげないが耐分
解性のある包装材料を選ぶ。適当な包装材料は多くのプ
ラスチツク、金属（鉛以外）薄シート、および硼珪酸塩
ガラスである。

ガンマ線の適当な照射量は、高分子基体とヒドロキシ
ル含有表面変性用ポリマーとの間で重合と共有結合の形
成とを行うのに十分であるが、ヒドロキシル含有表面変
性物質が媒体の細孔を閉塞させて膜材料の流れ特性に悪
影響を及ぼすには不十分な量であろう。換言すれば、処
理された変性膜前後の圧力降下は未処理基体よりあまり
大きくてはいけない。適当には、0.2ないし10メガラド
の照射量が用いられそして好ましくは0.5ないし３メガ
ラドを用いる。代表的には４ないし60時間の代表的照射
時間で１時間当り5,000ないし/50,000ラドの照射を用い
る。

基体の表面で第２の高分子物質を形成するために用い
る電離線のエネルギー源が紫外線であるとき、含浸媒体
を、代表的にはモノマー化合物の重合と基体への架橋ポ
リマーのグラフト化を行うための適当な周波数と強度の
紫外線にかける。これは、用いるモノマー、基体および
条件にある程度依存するであろう。代表的には、条件は
180ないし420ナノメートルの範囲の放射を含む。ランプ
強度は代表的には100ないし200ワツト/cm²である。

本発明に適した波長の光を放射するが、同時に過度の
熱を出さない何れのUV源も使用できる。好ましいUV照射
源は中圧無オゾン水銀ランプ、例えばアメリカンウルト
ラバイオレツト社により製造されているモデルC10012A
などである。多くの照射源および装置を使用できるが、
効果的であることがわかつている装置は、断面が楕円の
一体型反射器を有するアルミニウムハウジングを用いる
ものである。この水銀ランプは楕円の焦点に位置しそし
てモノマー含浸基体の表面はもう１つの焦点の周辺また
はその近くに位置する。用いる照射法に関係なく、表面
変性された多孔質高分子媒体を完全にすすいで、高分子
基体に共有結合しないほぼすべての残存モノマーおよび
ポリマーを取り除かなければならない。

アミド基含有物質に対し親和性の低い過装置の製造
を本発明の好ましい態様として記載する。この製法は一
般に流体処理装置の製造方法の代表例である。本発明の
過装置を作るため、部材を未集成または集成した状態
で表面変性用モノマー物質の溶液と接触させてもよい。
こうして、フイルター部材、適当なハードウエア、例え
ばエンドキヤツプ、中心コア、フイルター部材保持手
段、および外側保持器、および任意には支持体と排水材
料を、過装置の部材の表面へ重合およびグラフトされ
る表面変性用モノマー、好ましくはヒドロキシル基含有
モノマーを含む溶液に別々に浸漬させてもよい。過で
用いているときにフイルターエレメントがなかにあるフ
イルターハウジングを表面変性用溶液で満たしそして同
様にガンマ線にかけることができる。任意には、フイル
ターエレメントをハウジング内に密封してそれにより表
面変性用溶液で満たしそしてガンマ線にかけるフイルタ
ーアツセンブリーを一体的に成形してもよい。別法とし
て、フイルターエレメントをそのハウジング内に設ける
か、またはフイルターエレメントをハウジング内に一体
的に密封したフイルターアツセンブリーを表面変性用溶
液で満たしそしてガンマ線にかけてもよい。このような
過装置を満たす方法は、装置構造に依存するが、代表
的にはフイルターエレメントまたはアツセンブリーをモ
ノマー溶液に単に浸し、溶液を装置へまたは両方法の組
み合せへと流すことにより成し遂げることができる。
過装置を表面変性用溶液と接触させる方法にかかわら
ず、過中に流体と接触する装置の全表面を重合工程お
よびグラフト工程で表面変性用溶液と接触することが絶
体に必要である。

使用時に流体、特に液体と接触するまたは接触するよ
う適合した部材の表面で形成される表面変性用ポリマー
は、“うし血清アルブミン試験”で測定して蛋白質物質
に対する親和性の低い物質である。このような表面変性
用物質は、グラフト重合により基体の表面上に形成され
かつ直接結合することのできる高分子物質である。これ
らの表面変性用高分子物質は、蛋白質物質などのアミド
基含有物質に対する親和性の低いこと、およびヒドロキ
シル基に富む表面を有することにより特徴づけられる。

媒体の変性表面を形成する好ましい高分子物質は、エ
チレン性またはビニル性不飽和基とヒドロキシル基とに
より特徴づけられる基を有するモノマーから誘導され
る。しかしながら、好ましい化合物はさらに一例として
他の基、例えばカルボキシル基（すなわちエステル結合
中などにおける−CO₂−）、ヒドロキシルまたはヒドロ
キシル形成性置換アクリレートエステルを含むことがで
きる。また、ポリエチレングリコールおよびポリプロピ
レングリコールのモノ−アクリレートエステルおよびモ
ノ−メタアクリレートエステルも好ましい。モノマーと
して特に好ましいものは、ヒドロキシアルキル基が炭素
数２ないし５、好ましくは炭素数２ないし３のヒドロキ
シ置換低級アルキル基を構成するヒドロキシアルキルア
クリレートおよびメタクリレートである。好ましい置換
基はヒドロキシル基であるが、反応してヒドロキシル基
を形成する能力のある置換基が存在してもよい。

好ましいモノマーの例は２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、２−
ヒドロキシプロプ−１−イルアクリレート、１−ヒドロ
キシプロプ−２−イルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロプ−１−イルメタアクリレート、１−ヒドロキシプロ
プ−２−イルメタアクリレート、３−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、および３−ヒドロキシプロピルメタア
クリレートなどの化合物である。２−ヒドロキシエチル
アクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートの
化合物はそれぞれロムアンドハースケミカル社からROCR
YL（登録商標）でROCRYL410およびROCRYL400として市販
されている。２−ヒドロキシプロプ−１−イルアクリレ
ートと１−ヒドロキシプロプ−２−イルアクリレートと
の混合物はロムアンドハースケミカル社からのROCRYL43
0およびロムテク社からの製品番号AM438で市販されてい
る。２−ヒドロキシプロプ−１−イルメタアクリレート
と１−ヒドロキシプロプ−２−イルメタアクリレートと
の混合物はROCRYL420として市販されている。

上記した構造的特徴のほかに、適当なモノマーは電離
線との相互作用によりフリーラジカルを形成するなどの
性質によつても特徴づけることができる。適当なモノマ
ー化合物はまた用いる溶媒系に、まつたくとは言わない
までも、ほぼ完全に可溶性でなければならない。溶媒溶
解度を最大にし、用いる高分子基体やモノマーに悪影響
を与えず、同時に好都合な重合を許容するものでなけれ
ばならない。好ましい溶媒は極性溶媒、特に水、エメタ
ノールなどの低級脂肪族アルコールおよびこれらの混合
物などのヒドロキシル含有溶媒を含む。

ペプチド基含有物質に対する親和性を低くするのに十
分な量で、しかし多孔質構造体を処理するときは媒体の
細孔を閉塞しない量で、モノマー化合物の溶液を用い
る。代表的には、本発明で用いる量は溶液全重量に基づ
き、0.1ないし５重量％、好ましくは0.2ないし3.0重量
％のモノマー濃度の範囲である。表面変性用高分子物質
の濃度、そしてそれ故に、表面変性用高分子物質を形成
するのに用いるモノマーの濃度は、蛋白質含有物質に対
するかなり低い親和性を部材に与えるように選ばれる。
しかしながら、構造体の目づまりを生じてその流れ特性
に悪影響を与えるほど十分に高い濃度は望ましくない。

モノマーの重合とグラフト化はUV光やコバルト60源
（好ましく後者である）などで電離線を用いて行うこと
ができる。用いる特定の方法はEPO特許出願公開第02728
41号に述べられている。

前記した通り、蛋白質含有物質に対する低い親和性を
部材に与えるために、部材の表面を適当なモノマーの溶
液と最初に接触させる。これは、表面との接触を通し
て、特に無孔表面の飽和およびフイルター部材などの多
孔質構造体の含浸を通して達成する何れの既知の方法に
よつても成し遂げることができる。代表的には、これ
は、モノマー溶液への個々の部材の浸漬により、あるい
は流体処理集成装置の場合には、例えばモノマー溶液を
この装置に送給することによりこの溶液を装置に流すこ
とにより行われる。流体処理装置のすべての部材がモノ
マー溶液により容易に湿潤するとき、前処理を必要とし
ない。しかしながら、疎液性の、特に疎水性の物質を用
いるとき、モノマー溶液での飽和または含浸を行う前に
部材を完全にぬらすことが好ましい。これを行わない
と、モノマー溶液は多孔質構造体のすべての細孔に完全
には浸透せず、または空気層がモノマー溶液と他の部材
の無孔面との間に介在して表面変性を妨げるかもしれな
い。疎水面の湿潤は、すべての部材を湿潤させるのに十
分低い表面張力を有する水混和性液体に部材の表面を最
初に接触させることにより行うことができる。このよう
な液体は、水より表面張力の低い湿潤剤または水混和性
液体、例えば低級脂肪族アルコール、特にエタノールま
たはエタノールと水との混合物を含む水であることがで
きる。疎水性基体を湿潤させるのに用いる液体または溶
液が何らかの方法でグラフト化工程を妨害するとき、水
などのなかで重合を行う溶媒に部材を接触させそして洗
浄することにより湿潤剤を基体から除去してもよい（た
だし、両液体は実質的に不混和性であるものとする）。
その後、溶媒で飽和した、好ましくは水で飽和した疎水
性部材を親水性基体と同様にしてモノマー溶液と接触さ
せてもよい。別法として、すべての部材を湿潤させるの
に十分低い表面張力を有する溶媒系でモノマー溶液を作
つてもよい。溶媒がグラフト化工程に悪影響を与えない
ときは、このような溶媒系は水混和性低表面張力の溶
媒、例えばアルコールを含む水性系であることができ
る。

表面が変性されるべきフイルター部材、ハードウエア
およびハウジングのすべての表面が紫外線に適当にさら
されるときには、本発明においてグラフト化を行うのに
用いる電離線の形態は紫外線を含めることができるが、
ガンマ線が好ましい。適度の重合とグラフト化を確保す
るために、すべての部材の表面がモノマー溶液と接触す
る条件下で好ましくは照射を行う。これは、照射の初め
から終りまで部材表面とモノマー溶液との適した接触を
確保するのに十分なモノマー溶液と接触して部材を置く
ことにより達成できる。実際には、これは代表的には、
各部材が溶液中に全体に浸漬できるように適当な容積の
容器に部材を置くことを含む。フイルターアツセンブリ
ーなどの流体処理装置では、これは一般には、モノマー
溶液をフイルターアツセンブリーに循環し次いでモノマ
ー溶液をアツセンブリー内に止めるために一時的に入口
通路と出口通路を閉じることを含む。フイルター部材が
目視できるタイプなどであるが、しかし中心コアなどの
内通路を含むタイプなどのフイルターエレメントでは、
浸漬または、浸漬と液循環と閉鎖の組み合せを用いるこ
とができる。

ガンマ線照射量は、部材の表面、好ましくは高分子の
表面とヒドロキシル含有表面変性用ポリマーとの間での
重合と結合の形成とを行わせるには十分であるが、ヒド
ロキシル含有表面変性剤が多孔質構造体の流れの性質に
悪影響を与えるほどではない量が適当であろう。

十分な線量は、重合とグラフト化を成し遂げる量であ
るが、処理された変性多孔質構造体を横切る圧力降下を
未処理のものよりも顕著に大きくするものではない量で
ある。適当には、0.2ないし10メガラドの線量を用い、
好ましくは0.5ないし３メガラドを用いる。代表的に
は、１時間当り5,000ないし150,000ラドの照射を、４な
いし60時間の代表的照射時間で用いる。

所望の変性を行うのに十分な時間の照射の後に、処理
された部分を排水して、可溶性物質と部材の表面に結合
していない物質とを取り除く。残存モノマー溶液を除去
した後に、脱イオン水を用いて別々の部材を洗浄しても
よく、またはハウジング内に設けたフイルターエレメン
トにあるいはフイルターアツセンブリーに脱イオン水を
通水してもよい。フイルターハウジングのみを変性する
ならば、残留モノマー溶液をそこから排液してその後、
ハウジングを脱イオン水中で撹拌しそしてすすいでもよ
い。洗浄後、部材を、集成状態でも未集成状態でも、10
0℃と高い温度で空気中で炉などのこの種の目的に慣用
的に用いる何れの手段により乾燥してもよい。

本発明の流体処理装置、特に本発明の過装置は従来
の装置と同様に使用できる。例えば、本発明により過
装置を用いるとき、蛋白質含有物質などのアミド基含有
物質を含む（または含むと思われる）流体、最も一般に
は液体を通常の方法で過装置に導入する。どんな固体
物質もフイルター部材に保持されそしてフイルター部
材、関連するハードウエアまたはハウジングを含む装置
の何れの部材により吸着される蛋白質含有物質は最小で
ある。

うし血清アルブミン（BSA）蛋白質吸着試験 BSA蛋白質吸着試験は、特定の物質により吸着される
蛋白質含有物質の量を測定するのに有用である。この試
験は、実施例１で詳細に記載されている標準手法に従つ
て行われる。この方法では、試験すべき試料を、放射線
標識を付したうし血清アルブミン、実験室試験で通常用
いられる蛋白質、を緩衝塩溶液に含む溶液にさらす。こ
の材料をこの蛋白質溶液にさらしたのち、緩衝塩溶液の
みを用いて過剰の蛋白質溶液を試験材料からすすぎ流
す。次いで試料に吸着された蛋白質の量を、試験材料の
放射能残量を測定することにより求める。

蛋白質含有物質に対する親和性の低い過装置の製造
は以下の実施例１に記載されている。この装置の蛋白質
含有物質に対する低い親和性を、うし血清アルブミン
（BSA）蛋白質吸着試験を用いて示した。この過装置
により保持されたほんのわずかの量の蛋白質は、未変性
過装置の大きい蛋白質吸着量、およびフイルター部材
のみを変性させた装置の大きい蛋白質吸着量と対比され
る。

実施例１ フイルターエレメントをなかに密封したポリエステル
製ハウジングと、円筒状ひだ付フイルターパツクから形
成されたフイルターエレメントであつて、支持体および
排水層として機能する二層のポリエステル製不織布の間
に配置した二層のナイロン66製微孔質膜からなるフイル
ターエレメントと、ポリエステル製エンドキヤツプと、
ポリプロピレン製外側保持器と、ポリプロピレン製コア
とから構成される0.2ミクロン等級のフイルターアツセ
ンブリー（ポールコーポレーシヨン社から入手できる部
品番号DFA4001NRPの製品）（一体的装置である）を、約
１リツトル／分の速度で約10分間溶液をフイルターアツ
センブリーに循環させることによりモノマー溶液で満た
した。

モノマー溶液はヒドロキシプロピルアクリレートエス
テルの市販水性混合物（ロームテク社から製品番号AM43
8として市販されている）1.1重量％を含んでいた。フイ
ルターアツセンブリーの接続を断ち、アツセンブリーの
入口と出口をキヤツプしてモノマー溶液の損失を防い
だ。次いで液充填フイルターアツセンブリーをガンマ線
で50キロラド／時で20時間照射した。照射後、脱イオン
水を約２リツトル／分の流量でフイルターアツセンブリ
ーに30分間通水してフイルターアツセンブリーを洗つ
た。次いでフイルターアツセンブリーの流体を排水しそ
して空気循環炉内で65.5℃（150゜F）で約16時間乾燥し
た。

フイルターに保持された蛋白質含有物質の量の低下に
関するこの処理の有効性を、ひだ付フイルターパツク
（フイルター媒体と上流排水口と下流支持体とから構成
されている）から13mm直径のデイスク片を切つて試験す
ることにより示した。試験用ディスクをフィルターホル
ダーに置き、タイゴン管付ぜんどうポンプを用いて、約
0.5ml/分の流量で、ディスクに、5mlのPBS緩衝液（ホス
フェート緩衝塩水（phosphate buffered saline）溶
液）を３回通した。PBS緩衝液は0.15MのNaClと0.01MのN
aHPO₄をpH＝７に調整した溶液である。次いで試験デイ
スクのはいつているフイルターホルダーを配管からはず
した。次いでPBS緩衝液中の100マイクログラム/mlのI
¹²⁵標識うし血清アルブミン（BSA）の溶液を再循環させ
ることにより配管を蛋白質に対し不活性化させた。次い
で試験用デイスク付のフイルターホルダーを配管に再び
付けそしてPBS緩衝液中の標識BSAの溶液2.5mlを0.5ml/
分の流量でデイスクに通しその後2.5mlのPBS緩衝液を約
0.5ml/分の流量でデイスクに送つた。次いでデイスクを
フイルターホルダーからはずし、紙タオルで吸い取りそ
して保持された放射性蛋白質量の分析をした。これは保
持された蛋白質の全量の度合いである。これは、試験デ
イスクをプラスチツクチユーブ内に置きそしてLKB−ミ
ニガンマ1275（Wallac Oy,フインランド）ガンマ線カウ
ンターを用いて残留放射能を測定することにより行つ
た。デイスク上に残つている放射能の量を測定すること
により、デイスクは３マイクログラムBSA/cm²を保持し
たことが求められた。

比較例１ 実施例１で処理したタイプの未処理DFA4001NRPフイル
ターアツセンブリーを切り離し、そして未処理のフイル
ター物質、支持体および排水材料からなる13mm直径のデ
イスクを取りそして実施例１に記載されている方法でBS
Aを吸着する能力の試験をした。未変性材料は158マイク
ログラムBSA/cm²吸着した。

比較例２ 比較例１で用いたフイルターアツセンブリーを作るの
に用いたフイルター媒体を変性して、ヒドロキシプロピ
ルアクリレートエステルの市販混合物（ロムアンドハス
社から市販されているRocryl430で、ロムテク社からAM4
38として入手できるものと実質的に同じである）の1.1
重量％水溶液を用いて材料を飽和させることにより、ア
ミド基含有物質に対する低い親和性を付与した。

ロール状のフイルター媒体をスチール製容器に置き、
次いで密封しそして排出させた。その後、空気を追い出
すようにしてモノマー溶液を容器に導入した。容器を再
密封しそして飽和した媒体にコバルト−60源で50キロラ
ド／時で20時間照射した。フイルター媒体のロールを容
器から取り出し、脱イオン水をロールのまわりに約70℃
の温度で約16時間循環させることにより洗浄して残留モ
ノマーと未グラフトポリマーを除去し、そして連続的に
加熱ドラムへ媒体を押しつけることにより乾燥させた。

比較例１のフイルターで用いた同じ支持体と排水用材
料との間の二層のこのフイルター媒体からなる複合体の
蛋白質保持能力試験を行つた。複合体の構造および13mm
直径の複合体を試験した方法は実施例１及び比較例１と
同じであつた。通常の支持体と排水用材料を含むが、ア
ミド基含有物質に対し親和性の低いフイルター材料を用
いた複合体は14マイクログラムBSA/cm²を保持した。

実施例１と比較例１とを比較すると、未処理装置と比
較して、液体と接触する装置のすべての表面を変性して
アミド基含有物質に対し低い親和性を有する過装置に
より蛋白質吸着量が58倍低下することを示している。対
照的に、フイルター材料のみがアミド基含有物質に対し
低い親和性を有するときは、わずかに11倍の吸着量の低
下が達成されたにすぎなかつた。

実施例１、比較例１及び比較例２で得られた結果は、
使用時に流体と接触するまたは接触するよう適合したす
べての表面がアミド基含有物質に対し低い親和性を示す
ように変性されている流体処理装置を用いる利点を明瞭
に示している。

本発明の他の態様は以下の通りである。

1.多孔質構造体； 前記多孔質構造体を保持する手段を含む、流体接触部
材；および その場で形成されそして前記の多孔質構造体および流
体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有物質に
対する親和性の低い表面変性用高分子物質； からなる、アミド基含有物質に対する親和性の低い濾過
装置。

2.前記表面変性用高分子物質は水酸基に富む物質であ
る、上記第１項記載の濾過装置。

3.前記多孔質構造体及び前記流体接触部材の少なくとも
１つは、電離線の影響下でラジカルを形成することので
きる物質から形成される、上記第１項記載の濾過装置。

4.前記多孔質構造体および流体接触部材の少なくとも１
つはポリアミドからなる、上記第１項記載の濾過装置。

5.前記ポリアミドはナイロン66である、上記第４項記載
の濾過装置。

6.前記表面変性用高分子物質は、少なくとも１つのヒド
ロキシル基を有する一官能性モノマーから誘導される、
上記第１項記載の濾過装置。

7.前記モノマーはエチレン性不飽和化合物からなる、上
記第６項記載の濾過装置。

8.前記アミド基含有物質は蛋白質含有物質である、上記
第１項記載の濾過装置。

9.前記アミド基含有物質はペプチド含有物質である、上
記第６項記載の濾過装置。

10.前記モノマーはヒドロキシルアルキルアクリレート
またはメタクリレートである、上記第６項記載の濾過装
置。

11.前記モノマーは２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロプ−１−イルアクリレート、１−ヒドロキシプ
ロプ−２−イルアクリレート、３−ヒドロキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロプ−１−イルメタク
リレート、１−ヒドロキシプロプ−２−イルメタクリレ
ート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、または
これら２種類以上の混合物である、上記第６項記載の濾
過装置。

12.前記モノマーは２−ヒドロシキプロプ−１−イルア
クリレート、１−ヒドロキシプロプ−２−イルアクリレ
ート、またはこれらの混合物である、上記第６項記載の
濾過装置。

13.前記流体接触部材は多孔質構造の支持体、多孔質構
造の排水材料、エンドキャップ、外側保持器、中心コ
ア、アダプター、配管、附属部品、およびハウジングの
うちの少なくとも１つを含む、上記第１項記載の濾過装
置。

14.前記多孔質構造体はフィルター部材である、上記第
１項記載の濾過装置。

15.（ａ） ポリスルホン、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリ二フッ化ビニリデン、またはポリアミドから
形成されたハウジング； （ｂ） 使い捨てフィルターカートリッジ； （ｃ） 流体接触部材；および （ｄ） その場で形成されそして部材（ａ）、（ｂ）お
よび（ｃ）の表面に直接結合した、アミド基含有物質に
対する親和性の低い表面変性用高分子物質； からなる、アミド基含有物質に対する親和性の低いフィ
ルターアッセンブリー。

16.アミド基含有物質に対する親和性の低い濾過装置を
製造する方法であって、 多孔質構造体とこれを保持する手段を含む流体接触部
材とからなる濾過装置の部材を、少なくとも１つのヒド
ロキシル基を有する−官能性モノマーであって、アミド
基含有物質に対する親和性の低いポリマーを形成するこ
とのできるモノマーの溶液と接触させ；そして これらの部材とこのモノマーとに電離線をあてて、こ
れらの部材の表面で前記モノマーの重合とこれら部材の
表面への結合を行なわせる； 上記各工程からなる方法。

17.前記多孔質構造体と前記流体接触部材のうちの少な
くとも１つは電離線の影響下でラジカルを形成すること
のできる物質からなる、上記第16項に記載の方法。

18.前記多孔質構造体と前記流体接触部材のうちの少な
くとも１つはポリアミドである、上記第16項記載の方
法。

19.前記多孔質構造体と前記流体接触部材のうちの少な
くとも１つはナイロン66である、上記第16項記載の方
法。

20.前記モノマーから形成することのできる前記ポリマ
ーはヒドロキシル基に富む、上記第16項記載の方法。

21.前記濾過装置の部材を前記モノマー溶液と別々に接
触させる、上記第16項記載の方法。

22.前記濾過装置の部材を集成状態で前記モノマー溶液
と接触させる、上記第16項記載の方法。

23.蛋白質含有物質を含む流体を、蛋白質含有物質の損
失を最小にして濾過する方法であって、 （ａ） 多孔質構造体； （ｂ） この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接
触部材；および （ｃ） その場で形成されそして前記多孔質構造体およ
び前記流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含
有物質に対する親和性の低い表面変性用高分子物質； とからなる、蛋白質含有物質に対する親和性の低い濾過
装置に蛋白質含有物質を含む流体を導入し；そして この流体を前記多孔質構造体に通すことからなる方
法。

24.（ａ） 多孔質構造体； （ｂ） この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接
触部材；および （ｃ） その場で形成されそして前記多孔質構造体と前
記流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有物
質に対する親和性の低い表面変性用高分子物資； とからなる、アミド基含有物質に対する親和性の低い流
体処理装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 71/82 Ｂ０１Ｄ 71/82

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】多孔質構造体； 前記多孔質構造体を保持する手段を含む、流体接触部
   材；および その場で形成されそして前記の多孔質構造体および流体
   接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有物質に対
   する親和性の低い表面変性用高分子物質； を含む、アミド基含有物質に対する親和性の低い濾過装
   置。
2. 【請求項２】前記表面変性用高分子物質は水酸基に富む
   物質である請求項１記載の濾過装置。
3. 【請求項３】前記表面変性用高分子物質は、少なくとも
   一つのヒドロキシル基を有する一官能性モノマーから誘
   導される請求項１記載の濾過装置。
4. 【請求項４】前記モノマーはエチレン性不飽和化合物を
   含む請求項３記載の濾過装置。
5. 【請求項５】（ａ）ポリスルホン、ポリエステル、ポリ
   オレフィン、ポリ二フッ化ビニリデン、またはポリアミ
   ドから形成されたハウジング； （ｂ）使い捨てフィルターカートリッジ； （ｃ）流体接触部材；および （ｄ）その場で形成されそして部材（ａ）、（ｂ）およ
   び（ｃ）の表面に直接結合した、アミド基含有物質に対
   する親和性の低い表面変性用高分子物質； を含む、アミド基含有物質に対する親和性の低いフィル
   ターアッセンブリー。
6. 【請求項６】アミド基含有物質に対する親和性の低い濾
   過装置を製造する方法であって、 多孔質構造体とこれを保持する手段を含む流体接触部材
   とを含む濾過装置の部材を、少なくとも一つのヒドロキ
   シル基を有する一官能性モノマーであって、アミド基含
   有物質に対する親和性の低いポリマーを形成することの
   できるモノマーの溶液と接触させ；そして これらの部材とこのモノマーとに電離線をあてて、これ
   らの部材の表面で前記モノマーの重合とこれら部材の表
   面への結合を行わせる； 上記各工程を含む方法。
7. 【請求項７】前記多孔質構造体と前記流体接触部材のう
   ちの少なくとも一つはポリアミドである請求項６記載の
   方法。
8. 【請求項８】蛋白質含有物質を含む流体を、蛋白質含有
   物質の損失を最小にして濾過する方法であって、 （ａ）多孔質構造体； （ｂ）この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接触
   部材；および （ｃ）その場で形成されそして前記多孔質構造体および
   前記流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有
   物質に対する親和性の低い表面変性用高分子物質； を含む、蛋白質含有物質に対する親和性の低い濾過装置
   に、蛋白質含有物質を含む流体を導入し；そして この流体を前記多孔質構造体に通すことを含む方法。
9. 【請求項９】（ａ）多孔質構造体； （ｂ）この多孔質構造体を保持する手段を含む流体接触
   部材；および （ｃ）その場で形成されそして前記多孔質構造体と前記
   流体接触部材の表面に直接結合した、アミド基含有物質
   に対する親和性の低い表面変性用高分子物質； を含む、アミド基含有物質に対する親和性の低い流体処
   理装置。