JP2616117B2 - 修飾電極用平板金属電極 - Google Patents

修飾電極用平板金属電極

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、絶縁基板上に形成した修飾電極用の平板金
属電極に関する。
[従来の技術] 金属電極表面に機能性物質を含んだ膜を被覆した修飾
電極は、電気化学的センサやリアクターとして用いるこ
とができる。金属電極は電流の検出に用いられる。用い
られる機能性物質としては、イオノフォア、電気化学的
接触、酵素、微生物、抗原・抗体などがあり、各種イオ
ンセンサや酵素センサ、免疫センサなどが作製されてい
る。例えば、白金電極にグルコースオキシダーゼを含有
したコラーゲン膜を被覆することによって、グルコース
電極が作製されている(鈴木周一編「イオン電極と酵素
電極」p.79,講談社サイエンティフィック,1981)。ま
た、アルコールデヒドロゲナーゼと補酵素NADを含有し
た牛血清アルブミン(以下、BSAと表す。)を、グルタ
ルアルデヒド(以下、GAと表す。)で架橋された膜を用
い、IC製造プロセスによって作製した平板金電極上にこ
れを被覆することによって、アルコールセンサを作製し
ている(特願平1−259988号、特開平3−122560公
報)。
[発明が解決しようとする課題] 電流検出型の金属電極の場合、金属電極の面積が電流
に比例する。これに基づいた修飾電極の感度や性能は、
修飾電極の基板となる金属電極の面積に依存する。
一方、機能性膜を持つ修飾電極の寿命は、ベースとな
る平板金属電極と機能性膜との接着性に大きく依存す
る。すなわち、機能性膜が平板金属電極から剥がれ易い
場合、良好な修飾電極とは言えない。しかし、平板金属
電極の金属部分は、絶縁基板部分に比べて機能性膜との
接着性が悪く、金属部分と膜との間に隙間が生じるた
め、従来の形状の平板金属電極では優れた修飾電極を作
製することができなかった。
本発明の目的は、十分な電極面積が確保され、かつ機
能性膜との密着性に優れた長寿命の修飾電極を作製でき
る修飾電極用平板金属電極を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明は、絶縁基板上に修飾電極用の金属層が形成さ
れ、該金属層上に機能性膜が被覆された平板金属電極に
おいて、金属層の縦及び/または横方向の幅を機能性膜
の幅の10分の1以下にしたことを特徴とするか、あるい
は金属層上面の一部分に金属層と機能性膜の双方と接着
性が良い接着性膜を設けたことを特徴とする修飾電極用
平板金属電極である。
[作用] 金属層の縦及び/または横方向の幅を、機能性膜の幅
の10分の1以下にすることにより、機能性膜と金属層と
の間に隙間が生じなくなり、機能性膜の電極への密着性
が一層向上する。
さらに、金属層と機能性膜との間に、これらの双方と
接着性のよい接着性膜を設けることによっても、膜と金
属層との間に生じる隙間がなくなり、膜と基板との密着
性が向上する。これらの効果により、作製した修飾電極
の寿命が向上する。
[実施例] 次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に
説明する。
比較例1 第5図は従来の修飾電極用平板金属電極の平面図、第
6図、第5図のA−A′線による断面図である。図中1
は金属電極、2は機能性膜、3は基板である。基板とし
てはサファイアを、金属としては金を用いた。金はIC製
造プロセス(レジストによるパターン形成、真空蒸着、
スパッタなど)によって作製した。機能性膜としては、
グルタルアルデヒド(以下、GAと表す。)で架橋した牛
血清アルブミン(以下、BSAと表す。)を用い、スピン
塗布によって被覆した。機能性膜の幅は100μm、厚は
2μm、金属電極の幅は80μm、厚は1μmであった。
作製した電極を水に浸漬すると、第6図に示すように、
金属電極1と機能性膜2の間に隙間が生じた後、機能性
膜2の剥がれが観察された。
実施例1〜11 第1図は、本発明の一実施例による平板金属電極を示
したもので、(a)はその平面図、(b)は(a)にお
けるC−C′線による断面図である。図中1は金属電
極、2は機能性膜、3は基板である。材料、作製条件等
は比較例1と同様である。機能性膜の幅は100μm、厚
は2μmであり、金属電極は幅7μm、厚1μmのもの
を間隔7μmで7つ設けた。
この電極では、水に浸漬したときの金属電極と機能性
膜の間の隙間は観察されなかった。このようにして、く
し形の電極にし、その幅を機能性膜の幅の10分の1以下
にすることにより、電極間の基板部分に機能性膜が密着
し、結果として膜の剥がれが生じなくなる。
第2図(a)〜(j)は、本発明の他の実施例を示し
たものである(実施例2〜11)。金属電極の形状をこの
ようなパターンにすることによって、上記と同様の効果
が得られた。
金属電極のパターンを細かくするほど、電極と機能性
膜の密着性は向上する。しかし、作製した修飾電極に十
分な性能を確保するためには、金属電極の面積は、広く
なければならないので、パターンを細かくするのには限
度がある。金属電極のパターンの細かさは、金属、基
板、機能性膜の材料によっても異なる。すなわち、機能
性膜と金属との密着性が悪ければ、パターンをより微小
にしなければならない。一般的な材料を用いた場合、本
発明の効果は、金属膜の幅が機能性膜の幅の10分の1以
下で現われる。
実施例12〜18 第3図は、本発明のさらに別の一実施例による平板金
属電極を示したもので、(a)はその平面図、(b)は
(a)におけるD−D′線による断面図である。図中1
は金属電極、2は機能性膜、3は基板、4は金属層と機
能性膜の双方と接着性がよい接着性膜である。接着性膜
としては、CVDによって形成し、プラグマエッチングに
よってパターニングした酸化タンタル膜を用いた。その
他の材料、作製条件等は比較例1と同様である。機能性
膜の幅は100μm、厚2μmであり、金属電極の幅は80
μm、厚1μmであった。接着性膜は幅7μm、厚0.1
μmのものを間隔7μmで6つ設けた。
この電極のように、金属層と機能性膜との間に、これ
らの双方の接着性がよい接着性膜を設けた場合、実施例
1〜11と同様に、水に浸漬したときの金属電極と機能性
膜の間は隙間はなく、良好な修飾電極が作製できた。
第4図(a)〜(f)は、本発明の他の実施例を示し
たものである(実施例13〜18)。接着性膜は金属電極上
の一部を被覆するように設ければよいが、第3図や第4
図(a)〜(b)よりも、第6図(c)〜(f)のよう
に、金属電極の外周に接着性膜を被覆した電極の方が機
能性膜の剥がれがより少なかった。接着性膜としては、
酸化タンタルの他に、酸化シリコン、窒化シリコン、酸
化アルミニウムも使用できる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の修飾電極用平板金属電
極によれば、十分な電極面積が確保され、かつ機能性膜
と基板との密着性が向上した長寿命の修飾電極が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
第1〜4図はそれぞれ本発明による修飾電極用平板金属
電極の一実施例の平面図または断面図、 第5図及び第6図は従来技術による修飾電極用平板金属
電極の平面図及び断面図である。 1……金属電極 2……機能性膜 3……基板 4……接着性膜

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板上に修飾電極用の金属層が形成さ
    れ、該金属層上に機能性膜が被覆された平板金属電極に
    おいて、金属層の縦及び/または横方向の幅を機能性膜
    の幅の10分の1以下にしたことを特徴とする修飾電極用
    平板金属電極。
  2. 【請求項2】絶縁基板上に修飾電極用の金属層が形成さ
    れ、該金属層上に機能性膜が被覆された平板金属電極に
    おいて、金属層上面の一部分に金属層と機能性膜の双方
    と接着性が良い接着性膜を設けたことを特徴とする修飾
    電極用平板金属電極。
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