JP2610159B2 - 安定剤組成物及び安定化されたポリエチレン組成物 - Google Patents
安定剤組成物及び安定化されたポリエチレン組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン誘導体
と特定の金属化合物の混合物を用いる、ポリエチレンの
光酸化分解を抑制するための新規安定剤組成物、該安定
剤組成物を含む安定化されたポリエチレン組成物、及び
該ポリエチレン組成物から製造されたフィルムに関する
ものである。
と特定の金属化合物の混合物を用いる、ポリエチレンの
光酸化分解を抑制するための新規安定剤組成物、該安定
剤組成物を含む安定化されたポリエチレン組成物、及び
該ポリエチレン組成物から製造されたフィルムに関する
ものである。
＜従来の技術、発明が解決しようとする課題＞ ここでいうポリエチレンとは、低、中及び高密度ポリ
エチレンの線状又は分枝状ポリマー、どのようにも配合
されたそれらの混合物、及びまた20％までのジ−α−オ
レフィンを含む脂肪族炭素原子数３ないし12のα−オレ
フィンとエチレンのコポリマーを意味すると解されるべ
きである。
エチレンの線状又は分枝状ポリマー、どのようにも配合
されたそれらの混合物、及びまた20％までのジ−α−オ
レフィンを含む脂肪族炭素原子数３ないし12のα−オレ
フィンとエチレンのコポリマーを意味すると解されるべ
きである。
特に重要なのは、一般的にLDPEとして知られている分
枝状低密度ポリエチレン、及び一般的にLLDPEと表わさ
れる線状低密度ポリエチレン、及びどのようにも配合さ
れたそれらの混合物である。
枝状低密度ポリエチレン、及び一般的にLLDPEと表わさ
れる線状低密度ポリエチレン、及びどのようにも配合さ
れたそれらの混合物である。
ポリエチレンを日光に曝すと、紫外線照射に起因する
光酸化分解が生じることによって、脆化するまで機械的
強度が漸減することが知られている。
光酸化分解が生じることによって、脆化するまで機械的
強度が漸減することが知られている。
この欠点を克服するため、ポリマーに適当な光安定
剤、例えばある種のベンゾフェン誘導体及びベンゾトリ
アゾール誘導体、ニッケル錯体、置換安息香酸エステル
又は立体障害アミンを加える必要がある。
剤、例えばある種のベンゾフェン誘導体及びベンゾトリ
アゾール誘導体、ニッケル錯体、置換安息香酸エステル
又は立体障害アミンを加える必要がある。
ある種の相対的に高分子量の2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン誘導体は最近目覚ましい有効性を示している
が、これら化合物により得られる結果は完全に満足のい
くものではないため、より以上の改良が望まれている。
ピペリジン誘導体は最近目覚ましい有効性を示している
が、これら化合物により得られる結果は完全に満足のい
くものではないため、より以上の改良が望まれている。
＜課題を解決するための手段＞ 驚くべきことに今となって、１種又はそれより多くの
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン誘導体と、１種又は
それより多くの金属化合物と、１種又はそれより多くの
カルボン酸金属塩との特定の混合物（組成物）を使用す
ると、ピペリジン化合物単独使用による場合もりも有意
に高い光安定性値が得られることが発見された。
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン誘導体と、１種又は
それより多くの金属化合物と、１種又はそれより多くの
カルボン酸金属塩との特定の混合物（組成物）を使用す
ると、ピペリジン化合物単独使用による場合もりも有意
に高い光安定性値が得られることが発見された。
本発明のポリエチレン用安定剤組成物は、 （Ａ）次式Ｉ又はI a: 〔式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基、アクリロイ
ル基、２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプロ
ピル基を表わす〕 で表わされるピペリジン基を有する化合物１種又はそれ
より多くと、 （Ｂ）Al、Mg及びZnの酸化物及び水酸化物よりなる群か
ら選択される１種又はそれより多くの金属化合物と、 （Ｃ）炭素原子数１ないし22のカルボン酸のAl、Ba、C
a、Mg、Sr及びZn塩１種又はそれより多くと、 からなる。
ル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基、アクリロイ
ル基、２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプロ
ピル基を表わす〕 で表わされるピペリジン基を有する化合物１種又はそれ
より多くと、 （Ｂ）Al、Mg及びZnの酸化物及び水酸化物よりなる群か
ら選択される１種又はそれより多くの金属化合物と、 （Ｃ）炭素原子数１ないし22のカルボン酸のAl、Ba、C
a、Mg、Sr及びZn塩１種又はそれより多くと、 からなる。
ポリマー用安定剤としてMgやZnの酸化物又は水酸化物
を混合したある種の2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
誘導体を使用することは既に知られているが、ポリウレ
タンの安定化に限られていた。
を混合したある種の2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
誘導体を使用することは既に知られているが、ポリウレ
タンの安定化に限られていた。
特に1982年２月24日発行の特公昭57−34155号は、2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール、Mg又はZn
の酸化物又は水酸化物及び有機亜リン酸塩からなる混合
物でポリウレタンを安定化することがクレームされてい
る。該混合物はポリエチレンを安定化させるために用い
た時は満足な結果を与えない。
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール、Mg又はZn
の酸化物又は水酸化物及び有機亜リン酸塩からなる混合
物でポリウレタンを安定化することがクレームされてい
る。該混合物はポリエチレンを安定化させるために用い
た時は満足な結果を与えない。
他方、英国特許第2132621号には、ポリオレフィン
用、特にポリエチレン及びポリプロピレン用の光分解剤
として亜鉛酸化物と2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジノールのエステルとの混合物を使用することが記載
されている。
用、特にポリエチレン及びポリプロピレン用の光分解剤
として亜鉛酸化物と2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジノールのエステルとの混合物を使用することが記載
されている。
それ故、本発明混合物によって得られるポリエチレン
に対する相乗作用的な安定化効果は驚ろくべきものであ
る。
に対する相乗作用的な安定化効果は驚ろくべきものであ
る。
上記式Ｉ又はI aで表わされる基を含む、本発明に従
って使用することのできる化合物（Ａ）として以下のも
のが挙げられる： （A1） 米国特許第4,086,204号にクレームされてお
り、好ましくは次式II: 〔式II中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキ
シル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル基又
は1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表わ
し、 R2は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わし、 R3は水素原子又はメチル基を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A2） 米国特許第4,104,248号にクレームされ、好ま
しくは次式III: 〔式III中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 R3は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、２−ヒド
ロキシトリメチレン基又はキシリレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A3） 米国特許第4,108,829号及び同4,263,434号にク
レームされ、好ましくは次式IV: 〔式IV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル基又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル基を表わし、 ｎは2,3又は４を表わし、 R3はｎ価のポリアミンの基を表わす〕、 で表わされる化合物 （A4） 米国特許第4,233,412号にクレームされ、好ま
しくは次式V: 〔式Ｖ中、 Ｒは炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし30の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A5） ヨーロッパ特許第22,080号にクレームされ、好
ましくは次式VI: 〔式VI中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｎ＝１のとき、Ｘは炭素原子数１ないし12のアルキル
基、ベンジル基又は−CH2CH2OHを、そしてＹは水素原子
又は基 を表わし、 ｎ＝２のとき、Ｘは炭素原子数２ないし６のアルキレ
ン基、キシリレン基又は基 （ｍは１又は２を表わし、Ｚは次式： で表わされる基を表わす）を、そしてＹは水素原子又は
基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A6） ヨーロッパ特許第29,522号にクレームされ、好
ましくは次式VII: 〔式VII中、 l,m,nは２又は３を表わし、 ｐ及びｑはゼロ又は１を表わし、 Ｘは基 （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数
２ないし３のアルキレン基を表わし、ＹはOH基、炭素原
子数１ないし８のアルコキシ基、ジチルアミノ基又はジ
エチルアミノ基を表わす）を表わす〕 で表される化合物 （A7） 米国特許第4,288,593号にクレームされ、好ま
しくは次式VIII: 〔式VIII中、 Ｑは次式： 又は次式： （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数
１ないし８のアルキル基を表わす）で表わされる基を表
わす〕 で表わされる化合物 （A8） 米国特許第4,315,859号にクレームされ、好ま
しくは次式IX: 〔式IX中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｘは炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 Ａは−Ｏ−、−NH−又は を表わし、 ｍは１又は２を表わし、 R2はモルホリノ基、ヘキサメチレンイミノ基、−OR3
（R3は炭素原子数１ないし８のアルキル基、アリル基、
シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表わ
す）又は （R4及びR5は同一又は異なって、酸素原子によって中断
されていてもよい炭素原子数１ないし８のアルキル基、
アリル基、シクロヘキシル基、２−ヒドロキシエチル
基、ベンジル基又は基 を表わし、またR6は水素原子を表わすこともできる）を
表わす〕 で表わされる化合物 （A9） 米国特許第4,331,586号にクレームされ、好ま
しくは次式X: 〔式Ｘ中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A10） ヨーロッパ特許第24,338号にクレームされ、
好ましくは次式XI: 〔式XI中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表わし、 Ｘは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジメチル
アミノ基又はジエチルアミノ基を表わし、 R3は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A11） ヨーロッパ特許第42,554号にクレームされ、
好ましくは次式XII: 〔式XII中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数
５ないし９のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４
のアルコキシプロピル基、ジメチルアミノプロピル基又
はジエチルアミノプロピル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A12） ヨーロッパ特許第44499号にクレームされ、好
ましくは次式XIII: 〔式XIII中、 ｎは２又は３を表わし、 Ｘは次式 （Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基；
炭素原子数１ないし４のアルキル基で又はジ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）アミノ基で置換された炭素原
子数２ないし４のアルキル基、又はシクロヘキシル基を
表わす）で表わされる基を表わす〕 で表わされる化合物 （A13） ヨーロッパ特許第70,386号にクレームされ、
好ましくは次式XIV: 〔式XIV中、 R1はアリルオキシ基、アリルアミノ基又はジアリルア
ミノ基を表わし、 R2は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、アリルオ
キシ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、炭素原子
数１ないし８のアルキルアミノ基、炭素原子数２ないし
８のジアルキルアミノ基、モルホリノ基又は基 （R3は水素原子又はメチル基を表わし、R5は水素原子、
炭素原子数１ないし８のアルキル基又は基 を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わす〕 で表わされる化合物 （A14） 米国特許4,413,093号及び同4,435,555号にク
レームされた、上記式XIVで表わされる化合物から得ら
れるポリマー （A15） ヨーロッパ特許72,009号にクレームされ、好
ましくは次式XV: 〔式XV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
炭素原子数１ないし４のアルコキシプロピル基、ジメチ
ルアミノプロピル基、ジエチルアミノプロピル基、シク
ロヘキシル基又は基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A16） ヨーロッパ特許第75,849号にクレームされ、
好ましくは次式XVI及びXVII: 〔式XVI及びXVII中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、OHで置換された炭素原子数２ないし
４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基を表わし、 ｎは２ないし６の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A17） ヨーロッパ特許第82,244号にクレームされ、
好ましくは次式XVIII: 〔式XVIII中、 R1はアリルオキシ基、アリルアミノ基又はジアリルア
ミノ基を表わし、 R2はR1と同じ意味を表わすか炭素原子数１ないし８の
アルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）アミノ基、モルホリノ基又は基 を表わし、 R3は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又
は基 を表わし、 R4は水素原子又はメチル基を表わす〕 で表わされる化合物 （A18） ヨーロッパ特許第94,048号にクレームされ、
好ましくは次式XIX及びXX: 〔式XIX及びXX中、 ｎは１ないし10の数を表わし、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2及びR3は同一又は異なって炭素原子数１ないし８の
アルキル基又は基 を表わし、 A1及びA1′は水素原子又は基 を表わし、 A2及びA2′は基 を表わすか、或はA2が基 を、そしてA2′が基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A19） ヨーロッパ特許第107,615号にクレームされ、
好ましくは次式XXI: 〔式XXI中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基を表わすか又は炭素原子数１ないし
４のアルキコキシ基で又はジメチルアミノもしくはジエ
チルアミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアル
キル基を表わし、 R2は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｘはモルホリノ基、 （R3及びR4は同一もしくは異なって炭素原子数１ないし
８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基を表わ
すか、或はOH基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基で置換され
た炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、またR4
は水素原子も表わすことができる）、基−OR5（R5は炭
素原子数１ないし８のアルキル基、アリル基、シクロヘ
キシル基又はベンジル基を表わす）又は基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A20） 米国特許第4,477,615号にクレームされ、好ま
しくは次式XXII: 〔式XXII中、 ｍ及びｎは同一又は異なって２ないし６の数を表わ
し、 ｐは２ないし20の数を表わし、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基又はベンジル基を表わし、 R3は水素原子又は次式： で表わされる基を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、キシリレ
ン基、２−ヒドロキシトリメチレン基又は次式： （R5は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フェノキ
シ基、炭素原子数１ないし８のアルキルアミノ基、ジ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、シクロ
ヘキシルアミノ基、モルホルノ基又は基 を表わす） で表わされる基を表わす〕 で表わされる化合物 （A21） 米国特許第4,533,688号にクレームされ、好ま
しくは次式XXIII: 〔式XXIII中、 Ｘは次式： （R1は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
炭素原子数３ないし８のアルコキシアルキル基、ベンジ
ル基又は基 を表わし、R2は水素原子又はメチル基を表わす）で表わ
される基を表わし、 Ｙは水素原子又は基 を表わす〕 で表わされる化合物、 （A22） 米国特許第4,540,728号にクレームされ、好ま
しくは次式XXIV: 〔式XXIV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わす〕 で表わされる化合物、及びまた分子量が800ないし5,000
の相当するポリマー （A23） ヨーロッパ特許第176,106号にクレームされ、
好ましくは次式XXV: 〔式XXV中、Ｘは基 （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は水素原子又
は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わす）を表わ
す〕 で表わされる化合物。
って使用することのできる化合物（Ａ）として以下のも
のが挙げられる： （A1） 米国特許第4,086,204号にクレームされてお
り、好ましくは次式II: 〔式II中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキ
シル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル基又
は1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表わ
し、 R2は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わし、 R3は水素原子又はメチル基を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A2） 米国特許第4,104,248号にクレームされ、好ま
しくは次式III: 〔式III中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 R3は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、２−ヒド
ロキシトリメチレン基又はキシリレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A3） 米国特許第4,108,829号及び同4,263,434号にク
レームされ、好ましくは次式IV: 〔式IV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル基又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル基を表わし、 ｎは2,3又は４を表わし、 R3はｎ価のポリアミンの基を表わす〕、 で表わされる化合物 （A4） 米国特許第4,233,412号にクレームされ、好ま
しくは次式V: 〔式Ｖ中、 Ｒは炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし30の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A5） ヨーロッパ特許第22,080号にクレームされ、好
ましくは次式VI: 〔式VI中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｎ＝１のとき、Ｘは炭素原子数１ないし12のアルキル
基、ベンジル基又は−CH2CH2OHを、そしてＹは水素原子
又は基 を表わし、 ｎ＝２のとき、Ｘは炭素原子数２ないし６のアルキレ
ン基、キシリレン基又は基 （ｍは１又は２を表わし、Ｚは次式： で表わされる基を表わす）を、そしてＹは水素原子又は
基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A6） ヨーロッパ特許第29,522号にクレームされ、好
ましくは次式VII: 〔式VII中、 l,m,nは２又は３を表わし、 ｐ及びｑはゼロ又は１を表わし、 Ｘは基 （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数
２ないし３のアルキレン基を表わし、ＹはOH基、炭素原
子数１ないし８のアルコキシ基、ジチルアミノ基又はジ
エチルアミノ基を表わす）を表わす〕 で表される化合物 （A7） 米国特許第4,288,593号にクレームされ、好ま
しくは次式VIII: 〔式VIII中、 Ｑは次式： 又は次式： （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数
１ないし８のアルキル基を表わす）で表わされる基を表
わす〕 で表わされる化合物 （A8） 米国特許第4,315,859号にクレームされ、好ま
しくは次式IX: 〔式IX中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｘは炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 Ａは−Ｏ−、−NH−又は を表わし、 ｍは１又は２を表わし、 R2はモルホリノ基、ヘキサメチレンイミノ基、−OR3
（R3は炭素原子数１ないし８のアルキル基、アリル基、
シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表わ
す）又は （R4及びR5は同一又は異なって、酸素原子によって中断
されていてもよい炭素原子数１ないし８のアルキル基、
アリル基、シクロヘキシル基、２−ヒドロキシエチル
基、ベンジル基又は基 を表わし、またR6は水素原子を表わすこともできる）を
表わす〕 で表わされる化合物 （A9） 米国特許第4,331,586号にクレームされ、好ま
しくは次式X: 〔式Ｘ中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A10） ヨーロッパ特許第24,338号にクレームされ、
好ましくは次式XI: 〔式XI中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表わし、 Ｘは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジメチル
アミノ基又はジエチルアミノ基を表わし、 R3は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A11） ヨーロッパ特許第42,554号にクレームされ、
好ましくは次式XII: 〔式XII中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数
５ないし９のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４
のアルコキシプロピル基、ジメチルアミノプロピル基又
はジエチルアミノプロピル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 ｎは２ないし20の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A12） ヨーロッパ特許第44499号にクレームされ、好
ましくは次式XIII: 〔式XIII中、 ｎは２又は３を表わし、 Ｘは次式 （Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基；
炭素原子数１ないし４のアルキル基で又はジ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）アミノ基で置換された炭素原
子数２ないし４のアルキル基、又はシクロヘキシル基を
表わす）で表わされる基を表わす〕 で表わされる化合物 （A13） ヨーロッパ特許第70,386号にクレームされ、
好ましくは次式XIV: 〔式XIV中、 R1はアリルオキシ基、アリルアミノ基又はジアリルア
ミノ基を表わし、 R2は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、アリルオ
キシ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、炭素原子
数１ないし８のアルキルアミノ基、炭素原子数２ないし
８のジアルキルアミノ基、モルホリノ基又は基 （R3は水素原子又はメチル基を表わし、R5は水素原子、
炭素原子数１ないし８のアルキル基又は基 を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わす〕 で表わされる化合物 （A14） 米国特許4,413,093号及び同4,435,555号にク
レームされた、上記式XIVで表わされる化合物から得ら
れるポリマー （A15） ヨーロッパ特許72,009号にクレームされ、好
ましくは次式XV: 〔式XV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
炭素原子数１ないし４のアルコキシプロピル基、ジメチ
ルアミノプロピル基、ジエチルアミノプロピル基、シク
ロヘキシル基又は基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A16） ヨーロッパ特許第75,849号にクレームされ、
好ましくは次式XVI及びXVII: 〔式XVI及びXVII中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、OHで置換された炭素原子数２ないし
４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基を表わし、 ｎは２ないし６の数を表わす〕 で表わされる化合物 （A17） ヨーロッパ特許第82,244号にクレームされ、
好ましくは次式XVIII: 〔式XVIII中、 R1はアリルオキシ基、アリルアミノ基又はジアリルア
ミノ基を表わし、 R2はR1と同じ意味を表わすか炭素原子数１ないし８の
アルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）アミノ基、モルホリノ基又は基 を表わし、 R3は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又
は基 を表わし、 R4は水素原子又はメチル基を表わす〕 で表わされる化合物 （A18） ヨーロッパ特許第94,048号にクレームされ、
好ましくは次式XIX及びXX: 〔式XIX及びXX中、 ｎは１ないし10の数を表わし、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2及びR3は同一又は異なって炭素原子数１ないし８の
アルキル基又は基 を表わし、 A1及びA1′は水素原子又は基 を表わし、 A2及びA2′は基 を表わすか、或はA2が基 を、そしてA2′が基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A19） ヨーロッパ特許第107,615号にクレームされ、
好ましくは次式XXI: 〔式XXI中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基を表わすか又は炭素原子数１ないし
４のアルキコキシ基で又はジメチルアミノもしくはジエ
チルアミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアル
キル基を表わし、 R2は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｘはモルホリノ基、 （R3及びR4は同一もしくは異なって炭素原子数１ないし
８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基を表わ
すか、或はOH基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基で置換され
た炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、またR4
は水素原子も表わすことができる）、基−OR5（R5は炭
素原子数１ないし８のアルキル基、アリル基、シクロヘ
キシル基又はベンジル基を表わす）又は基 を表わす〕 で表わされる化合物 （A20） 米国特許第4,477,615号にクレームされ、好ま
しくは次式XXII: 〔式XXII中、 ｍ及びｎは同一又は異なって２ないし６の数を表わ
し、 ｐは２ないし20の数を表わし、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基又はベンジル基を表わし、 R3は水素原子又は次式： で表わされる基を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、キシリレ
ン基、２−ヒドロキシトリメチレン基又は次式： （R5は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、フェノキ
シ基、炭素原子数１ないし８のアルキルアミノ基、ジ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、シクロ
ヘキシルアミノ基、モルホルノ基又は基 を表わす） で表わされる基を表わす〕 で表わされる化合物 （A21） 米国特許第4,533,688号にクレームされ、好ま
しくは次式XXIII: 〔式XXIII中、 Ｘは次式： （R1は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
炭素原子数３ないし８のアルコキシアルキル基、ベンジ
ル基又は基 を表わし、R2は水素原子又はメチル基を表わす）で表わ
される基を表わし、 Ｙは水素原子又は基 を表わす〕 で表わされる化合物、 （A22） 米国特許第4,540,728号にクレームされ、好ま
しくは次式XXIV: 〔式XXIV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わす〕 で表わされる化合物、及びまた分子量が800ないし5,000
の相当するポリマー （A23） ヨーロッパ特許第176,106号にクレームされ、
好ましくは次式XXV: 〔式XXV中、Ｘは基 （R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は水素原子又
は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わす）を表わ
す〕 で表わされる化合物。
好ましい化合物（Ａ）は、式II,III,IV,V,X及びXXIで
表わされる化合物である。
表わされる化合物である。
特に興味深い化合物は、式II〔式中、R1は炭素原子数
２ないし８のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わ
し、R2は水素原子又は炭素原子数２ないし８のアルキル
基を表わし、R3は水素原子又はメチル基を表わし、R4は
−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ないし10の数を表
わす〕で表わされる化合物、式III〔式中、R1は水素原
子又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）６−を表わ
し、R3は−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ないし10
の数を表わす〕で表わされる化合物、式IV〔式中、R1は
水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表わし、ｎは2,3又は４を表わし、
そしてR3はｎ＝２として式−NH（CH2）２〜６NH−,n＝
３として式 及びｎ＝４として式 で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物、式Ｖ
〔式中、Ｒは−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ない
し20の数を表わす〕で表わされる化合物、式Ｘ〔式中、
R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）
２〜６−を表わし、ｎは２ないし10の数を表わす〕で表
わされる化合物及び式XXI〔式中、R1は炭素原子数１な
いし８のアルキル基を表わし、R2は水素原子又はメチル
基を表わし、Ｘは基 を表わす〕 で表わされる化合物である。
２ないし８のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わ
し、R2は水素原子又は炭素原子数２ないし８のアルキル
基を表わし、R3は水素原子又はメチル基を表わし、R4は
−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ないし10の数を表
わす〕で表わされる化合物、式III〔式中、R1は水素原
子又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）６−を表わ
し、R3は−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ないし10
の数を表わす〕で表わされる化合物、式IV〔式中、R1は
水素原子又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表わし、ｎは2,3又は４を表わし、
そしてR3はｎ＝２として式−NH（CH2）２〜６NH−,n＝
３として式 及びｎ＝４として式 で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物、式Ｖ
〔式中、Ｒは−（CH2）２〜６−を表わし、ｎは２ない
し20の数を表わす〕で表わされる化合物、式Ｘ〔式中、
R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）
２〜６−を表わし、ｎは２ないし10の数を表わす〕で表
わされる化合物及び式XXI〔式中、R1は炭素原子数１な
いし８のアルキル基を表わし、R2は水素原子又はメチル
基を表わし、Ｘは基 を表わす〕 で表わされる化合物である。
特に興味深い化合物（Ａ）として次のものが挙げられ
る。
る。
該化合物はそれ自身のみで又は他との混合物として用
いることができる。
いることができる。
本発明に従って使用することのできる化合物（Ｂ）は
好ましくはMgやZnの酸化物及び水酸化物である。
好ましくはMgやZnの酸化物及び水酸化物である。
Mg酸化物及びZn酸化物が特に好ましく、またそれらは
単独で或は相互の混合物にして使用することができる。
単独で或は相互の混合物にして使用することができる。
本発明に従い使用することのできる化合物（Ｃ）は炭
素原子数12ないし18のカルボン酸のAl,Ca,Mg及びZn塩が
好ましい。
素原子数12ないし18のカルボン酸のAl,Ca,Mg及びZn塩が
好ましい。
ステアリン酸のCa,Mg及びZn単独で或は相互の混合物
にして使用するのが特に好ましい。
にして使用するのが特に好ましい。
ポリエチレンの重量に対する化合物（Ａ）（Ｂ）及び
（Ｃ）の重量％としては、化合物（Ａ）が0.025ないし
２％、好ましくは0.05ないし１％であり、化合物（Ｂ）
が0.005ないし１％、好ましくは0.025ないし0.5％であ
り、そして化合物（Ｃ）が0.005ないし１％、好ましく
は0.025ないし0.5％であるのが好ましい。
（Ｃ）の重量％としては、化合物（Ａ）が0.025ないし
２％、好ましくは0.05ないし１％であり、化合物（Ｂ）
が0.005ないし１％、好ましくは0.025ないし0.5％であ
り、そして化合物（Ｃ）が0.005ないし１％、好ましく
は0.025ないし0.5％であるのが好ましい。
化合物（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）は、公知方法のどれ
かを用いて、それらをポリマーに加える前に互に混合す
ることができ、或はポリマーに別々に加えることができ
る。
かを用いて、それらをポリマーに加える前に互に混合す
ることができ、或はポリマーに別々に加えることができ
る。
所望により、ポリエチレン用の他の慣用添加剤、例え
ばフェノール性抗酸化剤、ホスフィット、紫外線吸収剤
及び他タイプの光安定剤を、本発明に係る化合物
（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）に添加することができる。
ばフェノール性抗酸化剤、ホスフィット、紫外線吸収剤
及び他タイプの光安定剤を、本発明に係る化合物
（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）に添加することができる。
化合物（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）と混合することので
きる添加剤の例として以下のものが挙げられる： フェノール性抗酸化剤 アルキル化１価フェノール 例えば、2,6−ジ第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−4,6ジメチルフェノール、2,6−ジ
第三ブチル−４−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−
４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシ
ル）−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル
−４−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシル
フェノール、2,6−ジ第三ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、2,6−ジノニル−４−メチルフェノール。
きる添加剤の例として以下のものが挙げられる： フェノール性抗酸化剤 アルキル化１価フェノール 例えば、2,6−ジ第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−4,6ジメチルフェノール、2,6−ジ
第三ブチル−４−エチルフェノール、2,6−ジ第三ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−
４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシ
ル）−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル
−４−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシル
フェノール、2,6−ジ第三ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、2,6−ジノニル−４−メチルフェノール。
アルキル化されたヒドロキノン 例えば、2,6−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミ
ルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール。
ル、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミ
ルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール。
チオビスフェノール 例えば、2,2′−チオ−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、2,2′−チオ−ビス（４−オクチ
ルフェノール）、4,4′−チオ−ビス（６−第三ブチル
−３−メチルフェノール）及び4,4′−チオ−ビス（６
−第三ブチル−２−メチルフェノール）。
メチルフェノール）、2,2′−チオ−ビス（４−オクチ
ルフェノール）、4,4′−チオ−ビス（６−第三ブチル
−３−メチルフェノール）及び4,4′−チオ−ビス（６
−第三ブチル−２−メチルフェノール）。
アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、2,2′−メチレン−ビス（６
−第三ブチル−４−エチルフェノール）、2,2′−メチ
レン−ビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、2,2′−メ
チレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
2,2′−メチレン−ビス（4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル）、2,2′−エチリデン−ビス（4,6ジ第三ブチルフェ
ノール）、2,2′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール）、2,2′−メチレン−ビ
ス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、2,2′−メチレン−ビス〔６−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、4,4′−メチ
レン−ビス（2,6−ジ第三ブチルフェノール）、4,4′−
メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノー
ル）、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ブタン、2,6−ビス（３−第三
ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−
メチルフェノール、1,1,3−トリス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、1,1−
ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレ
ングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス（２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート。
４−メチルフェノール）、2,2′−メチレン−ビス（６
−第三ブチル−４−エチルフェノール）、2,2′−メチ
レン−ビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、2,2′−メ
チレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
2,2′−メチレン−ビス（4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル）、2,2′−エチリデン−ビス（4,6ジ第三ブチルフェ
ノール）、2,2′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール）、2,2′−メチレン−ビ
ス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノー
ル〕、2,2′−メチレン−ビス〔６−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、4,4′−メチ
レン−ビス（2,6−ジ第三ブチルフェノール）、4,4′−
メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノー
ル）、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ブタン、2,6−ビス（３−第三
ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−
メチルフェノール、1,1,3−トリス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、1,1−
ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレ
ングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス（２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート。
ベンジル化合物 例えば、1,3,5−トリス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベンジル、ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ス
ルフィド、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルメルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）
−ジチオールテレフタレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオク
タデシルエステル、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム
塩、1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート。
ドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベンジル、ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ス
ルフィド、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルメルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）
−ジチオールテレフタレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオク
タデシルエステル、3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム
塩、1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート。
アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒ
ドロキシステアリン酸アニリド、2,4−ビスオクチルメ
ルカプト−６−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチル Ｎ−（3,5−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。
ドロキシステアリン酸アニリド、2,4−ビスオクチルメ
ルカプト−６−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチル Ｎ−（3,5−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。
β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエステル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエステル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエ
ステル 例えば、メタノール、ジエチレングリコール、オクタ
デカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコ
ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロキシ
エチル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
ェニル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエ
ステル 例えば、メタノール、ジエチレングリコール、オクタ
デカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコ
ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロキシ
エチル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
β−（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエステ
ル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
ル）プロピオン酸の１価又は多価アルコールとのエステ
ル 例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、N,N′−ビス（ヒドロキシエ
チル）シュウ酸ジアミドとのエステル。
β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
N,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N′−ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。
プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
N,N′−ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N′−ビ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。
紫外線吸収剤及び光安定剤 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ペンゾトリアゾー
ルの誘導体 例えば５′−メチル−、３′,5′，ジ第三ブチル−、
５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）−、５′−クロロ−３′,5′−ジ第三ブチル−、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′
−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−オクトキシ
−、３′,5′−ジ第三アミル−、３′,5′−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）−誘導体。
ルの誘導体 例えば５′−メチル−、３′,5′，ジ第三ブチル−、
５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）−、５′−クロロ−３′,5′−ジ第三ブチル−、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′
−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−オクトキシ
−、３′,5′−ジ第三アミル−、３′,5′−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）−誘導体。
２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オク
トキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキ
シ−及び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導
体。
トキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキ
シ−及び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導
体。
置換及び非置換安息香酸エステル 例えば４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベン
ゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ第
三ブチルフェニルエステル及び3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベン
ゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ第
三ブチルフェニルエステル及び3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
アクリレート 例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エ
チルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメ
トキシシンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−β−
メチル−ｐ−メトキシ−シンナミル酸メチルエステル又
はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
−シンナミル酸メチルエステル及びＮ−（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリ
ン。
チルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメ
トキシシンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−β−
メチル−ｐ−メトキシ−シンナミル酸メチルエステル又
はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
−シンナミル酸メチルエステル及びＮ−（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリ
ン。
ニッケル化合物 例えば2,2′−チオビス〔４−（1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエ
タノールアミンのような他の配位子を含んでいてもよい
1:1錯体又は1:2錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメ
ート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホ
スホン酸のモノアルキルエステル例えばメチル又はエチ
ルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例
えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトンオキシムのニッケル錯体、所望により他の配位子
を含んでいてもよい１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。
ルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエ
タノールアミンのような他の配位子を含んでいてもよい
1:1錯体又は1:2錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメ
ート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホ
スホン酸のモノアルキルエステル例えばメチル又はエチ
ルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例
えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトンオキシムのニッケル錯体、所望により他の配位子
を含んでいてもよい１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。
シュウ酸ジアミド 例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチ
ルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）シ
ュウ酸アミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−
エチルオキサニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エ
チル−5,4′−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物及
びオルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ第三ブチ
ルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）シ
ュウ酸アミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−
エチルオキサニリド及びこれと２−エトキシ−２′−エ
チル−5,4′−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物及
びオルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
ホスフィット及びホスホニット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,
4′−ジフェニレンジホスフィット、3,9−ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサ−
3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,
4′−ジフェニレンジホスフィット、3,9−ビス（2,4−
ジ第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサ−
3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。
＜実施例、発明の効果＞ 本発明の安定剤混合物の使用は以下の実施例に示され
ており、これらは単に例示として掲げただけであって、
いかなる限定をも意味しない。
ており、これらは単に例示として掲げただけであって、
いかなる限定をも意味しない。
実施例１〜４及び比較例１〜６ メルトインデックス0.6の低密度ポリエチレン粉末
（商品名:Fertene EF3−2000、製造会社:Soc.Enichem P
olimeri）10kgを下記表１中に示した化合物と低速混合
機中で混合する。
（商品名:Fertene EF3−2000、製造会社:Soc.Enichem P
olimeri）10kgを下記表１中に示した化合物と低速混合
機中で混合する。
次いでその混合物を190℃の温度で押し出し、顆粒に
変え、それから以下の条件： 本体温度＝170−190−200℃ ヘッド温度＝200−200−200−190℃ 下で、試験押出機（Dolci pilot extrvder/スクリュー
直径＝45/26D、ヘッド直径＝100mm）を用いてインフレ
ート法（blow extrusion）により厚さ150μｍの延伸フ
ィルムを得る。
変え、それから以下の条件： 本体温度＝170−190−200℃ ヘッド温度＝200−200−200−190℃ 下で、試験押出機（Dolci pilot extrvder/スクリュー
直径＝45/26D、ヘッド直径＝100mm）を用いてインフレ
ート法（blow extrusion）により厚さ150μｍの延伸フ
ィルムを得る。
得られたフィルムを、ボローニャ（Bologna）、ポン
テッキオ マルコーニ（Pontecchio Marconi）の松材上
で、南に向けて45℃で戸外に曝す（約110Kly/年）。種
々の時間曝した後のサンプルの残留伸び（residual elo
ngation）を定速張力計（constant−speed tensomete
r）により測定する。
テッキオ マルコーニ（Pontecchio Marconi）の松材上
で、南に向けて45℃で戸外に曝す（約110Kly/年）。種
々の時間曝した後のサンプルの残留伸び（residual elo
ngation）を定速張力計（constant−speed tensomete
r）により測定する。
次いで初期の伸び値（elongation valve）が半減する
のに要する受領エネルギー（キロラングレーで表わす）
を計算する（T50）。
のに要する受領エネルギー（キロラングレーで表わす）
を計算する（T50）。
得られた結果を表１に示す。
実施例５〜８及び比較例７〜10 メルトインデックス0.1の低密度ポリエチレン粉末
（商品名:Fertene EF3−2000、製造会社:Soc.Enichem P
olimeri）10kgを下記表２中に示した化合物と低速混合
機中で混合する。
（商品名:Fertene EF3−2000、製造会社:Soc.Enichem P
olimeri）10kgを下記表２中に示した化合物と低速混合
機中で混合する。
次いでその混合物を190℃の温度で押し出し、顆粒に
変え、それから以下の条件： 本体温度＝170−190−200℃ ヘッド温度＝200−200−200−190℃ 下で、試験押出機（Dolci pilot extruder/スクリュー
直径＝45/26D、ヘッド直径＝100mm）を用いてインフレ
ート法（blow extrusion）により厚さ150μｍの延伸フ
ィルムを得る。
変え、それから以下の条件： 本体温度＝170−190−200℃ ヘッド温度＝200−200−200−190℃ 下で、試験押出機（Dolci pilot extruder/スクリュー
直径＝45/26D、ヘッド直径＝100mm）を用いてインフレ
ート法（blow extrusion）により厚さ150μｍの延伸フ
ィルムを得る。
得られたフィルムを、ブラックパネル温度63℃のウェ
ザロメーター（ASTM G26〜77）中で曝露する。光に種々
の時間曝した後のサンプルの残留伸びを定速張力計で測
定し、初期伸び値を半減するのに要する曝露時間を計算
する。
ザロメーター（ASTM G26〜77）中で曝露する。光に種々
の時間曝した後のサンプルの残留伸びを定速張力計で測
定し、初期伸び値を半減するのに要する曝露時間を計算
する。
得られた結果を表２に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 3:22 5:098 5:3435）
Claims (22)
- 【請求項１】（Ａ）次式Ｉ又はI a: 〔式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基、アクリロイ
ル基、２−ヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプロ
ピル基を表わす〕 で表わされるピペリジン基を有する化合物１種又はそれ
より多くと、 （Ｂ）Al、Mg及びZnの酸化物及び水酸化物よりなる群か
ら選択される１種又はそれより多くの金属化合物と、 （Ｃ）炭素原子数１ないし22のカルボン酸のAl、Ba、C
a、Mg、Sr及びZn塩１種又はそれより多くと、 からなるポリエチレン用安定剤組成物。 - 【請求項２】化合物（Ａ）が下記式II,III,V,X及びXXI: 〔式II中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシ
ル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル基又は
1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表わ
し、 R2は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を
表わし、 R3は水素原子又はメチル基を表わし、 R4は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、そ
して ｎは２ないし20の数を表わす〕； 〔式III中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、 R3は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、２−ヒドロ
キシトリメチレン基又はキシリレン基を表わし、そして ｎは２ないし20の数を表わす〕； 〔式IV中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリ
ジル基又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル
基を表わし、 ｎは2,3又は４を表わし、そして R3はｎ価のポリアミン基を表わす〕； 〔式Ｖ中、 Ｒは炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、そ
して ｎは２ないし30の数を表わす〕； 〔式Ｘ中、 R1は水素原子又はメチル基を表わし、 R2は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、そ
して ｎは２ないし20の数を表わす〕；及び 〔式XXI中、 R1は炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基を表わすか又は炭素原子数１ないし４
のアルコキシ基で又はジメチルアミノ基もしくはジエチ
ルアミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキ
ル基を表わし、 R2は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｘはモルホリノ基、次式： （R3及びR4は同一もしくは異なって炭素原子数１ないし
８のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基を表わ
すか、或いは−OH基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基で置換さ
れた炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、また
R4は水素原子も表わすことができる）で表わされる基、
−OR5基（R5は炭素原子数１ないし８のアルキル基、ア
リル基、シクロヘキシル基又はベンジル基を表わす）又
は次式： で表わされる基を表わす〕 で表わされる化合物よりなる群から選択される請求項１
記載の安定剤組成物。 - 【請求項３】化合物（Ａ）が式II〔式中、R1は炭素原子
数２ないし８のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わ
し、R2は水素原子又は炭素原子数２ないし８のアルキル
基を表わし、R3は水素原子又はメチル基を表わし、R4は
−（CH2）２〜６−基を表わし、そしてｎは２ないし10
の数を表わす〕で表わされる化合物よりなる群から選択
される請求項２記載の安定剤組成物。 - 【請求項４】化合物（Ａ）が式III〔式中、R1は水素原
子又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）６−基を表わ
し、R3は−（CH2）２〜６−基を表わし、そしてｎは２
ないし10の数を表わす〕で表わされる化合物よりなる群
から選択される請求項２記載の安定剤組成物。 - 【請求項５】化合物（Ａ）が式IV〔式中、R1は水素原子
又はメチル基を表わし、R2は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わし、ｎは2,3又は４を表わし、そしてR3
はｎ＝２として式−NH（CH2）２〜６NH−で表わされる
基、ｎ＝３として次式： で表わされる基、及びｎ＝４として次式： で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物よりなる
群から選択される請求項２記載の安定剤組成物。 - 【請求項６】化合物（Ａ）が式Ｖ〔式中、Ｒは−（C
H2）２〜６−基を表わし、そしてｎは２ないし20の数を
表わす〕で表わされる化合物よりなる群から選択される
請求項２記載の安定剤組成物。 - 【請求項７】化合物（Ａ）が式Ｘ〔式中、R1は水素原子
又はメチル基を表わし、R2は−（CH2）２〜６−基を表
わし、そしてｎは２ないし10の数を表わす〕で表わされ
る化合物よりなる群から選択される請求項２記載の安定
剤組成物。 - 【請求項８】化合物（Ａ）が式XXI〔式中、R1は炭素原
子数１ないし８のアルキル基を表わし、R2は水素原子又
はメチル基を表わし、Ｘは次式： で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物よりなる
群から選択される請求項２記載の安定剤組成物。 - 【請求項９】化合物（Ａ）が分子量2000ないし4000の次
式： で表わされる化合物である請求項１記載の安定剤組成
物。 - 【請求項１０】化合物（Ａ）が次式： で表わされる化合物である請求項１記載の安定剤組成
物。 - 【請求項１１】化合物（Ａ）が次式： で表わされる化合物である請求項１記載の安定剤組成
物。 - 【請求項１２】化合物（Ａ）が分子量2000ないし4000の
次式： で表わされる化合物である請求項１記載の安定剤組成
物。 - 【請求項１３】化合物（Ａ）が分子量2000ないし4000の
次式： で表わされる化合物である請求項１記載の安定剤組成
物。 - 【請求項１４】化合物（Ｂ）がMg又はZnの酸化物又は水
酸化物である請求項１記載の安定剤組成物。 - 【請求項１５】化合物（Ｂ）がMg又はZnの酸化物である
請求項１記載の安定剤組成物。 - 【請求項１６】化合物（Ｃ）が炭素原子数12ないし18の
カルボン酸のAl,Ca,Mg又はZn塩である請求項１記載の安
定剤組成物。 - 【請求項１７】化合物（Ｃ）がステアリン酸のCa,Mg又
はZn塩である請求項１記載の安定剤組成物。 - 【請求項１８】ポリエチレンと、請求項１記載の安定剤
組成物とからなる安定化されたポリエチレン組成物。 - 【請求項１９】化合物（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）のポリ
エチレンに対する重量％が、化合物（Ａ）では0.025な
いし２％、化合物（Ｂ）では0.005ないし１％、そして
化合物（Ｃ）では0.005ないし１％である請求項18記載
の安定化されたポリエチレン組成物。 - 【請求項２０】化合物（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）のポリ
エチレンに対する重量％が、化合物（Ａ）では0.05ない
し１％、化合物（Ｂ）では0.025ないし0.5％、そして化
合物（Ｃ）では0.025ないし0.5％である請求項19記載の
安定化されたポリエチレン組成物。 - 【請求項２１】ポリエチレンが低密度ポリエチレン（LD
PE）、線状低密度ポリエチレン（LLDPE）又はそれらの
混合物である請求項18記載の安定化されたポリエチレン
組成物。 - 【請求項２２】請求項１記載の安定剤組成物で安定化さ
れた低密度ポリエチレン（LDPE）組成物、線状低密度ポ
リエチレン（LLDPE）組成物又はそれらの混合物から製
造されたフィルム
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT8720375A IT1215455B (it) | 1987-05-05 | 1987-05-05 | Composizione stabilizzante per polietilene comprendente composti contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| IT20375A/87 | 1987-05-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63286448A JPS63286448A (ja) | 1988-11-24 |
| JP2610159B2 true JP2610159B2 (ja) | 1997-05-14 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63109853A Expired - Fee Related JP2610159B2 (ja) | 1987-05-05 | 1988-05-02 | 安定剤組成物及び安定化されたポリエチレン組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5134181A (ja) |
| EP (1) | EP0290388B1 (ja) |
| JP (1) | JP2610159B2 (ja) |
| CA (1) | CA1331664C (ja) |
| DE (1) | DE3856082T2 (ja) |
| HK (1) | HK1005624A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| IT1246170B (it) * | 1990-07-24 | 1994-11-16 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polipropilene comprendente composti triazinici contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| WO1993004400A1 (en) * | 1991-08-21 | 1993-03-04 | Eastman Kodak Company | Photographic polyolefin coated print materials |
| DE59308266D1 (de) * | 1992-05-13 | 1998-04-23 | Ciba Geigy Ag | Stabilisierte chlorhaltige Polymerzusammensetzungen |
| IT1269953B (it) * | 1994-06-27 | 1997-04-16 | Ciba Geigy Spa | Films di poliolefine o copolimeri di olefine con migliorata stabilita' alla luce e resistenza agli insetticidi |
| DE4433018C1 (de) * | 1994-09-16 | 1996-04-25 | Schulman A Plastics | Polymere Zusammensetzung, Verfahren zu ihrer Herstellung und eine Verwendung |
| IT1273607B (it) * | 1995-04-26 | 1997-07-08 | Ciba Geigy Spa | Combinazione di stabilizzanti per polimeri sintetici organici |
| CA2193552A1 (en) | 1995-12-25 | 1997-06-26 | Tsutomu Fujita | Polyolefin resin composition |
| EP0796888B1 (de) * | 1996-03-22 | 2005-12-14 | Wolfgang Wehner | Stabilisatorkombination für chlorhaltige Polymere |
| US5804622A (en) * | 1996-03-22 | 1998-09-08 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Monomeric N-piperidinylmelamines as stabilizers for chlorine-containing polymers |
| TW357175B (en) | 1996-07-12 | 1999-05-01 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures |
| TW464670B (en) | 1996-08-07 | 2001-11-21 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures containing a hindered amine |
| TW467931B (en) | 1996-08-22 | 2001-12-11 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures |
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