JP2606176B2 - 図形処理装置 - Google Patents

図形処理装置

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JP2606176B2
JP2606176B2 JP10505395A JP10505395A JP2606176B2 JP 2606176 B2 JP2606176 B2 JP 2606176B2 JP 10505395 A JP10505395 A JP 10505395A JP 10505395 A JP10505395 A JP 10505395A JP 2606176 B2 JP2606176 B2 JP 2606176B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、直線や円の描画機能、
三角形や矩形の塗りつぶし、矩形領域内のメモリ・デー
タを別の矩形領域に転送するデータ転送機能などを有す
る図形処理装置に関し、特に図形を描画する領域を制限
するいわゆるクリッピング機能を有する図形処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般にクリッピングとは、メモリ上で定
義されたXY座標によって規定される2点のビット(X
1 ,Y1 )、(X2 ,Y2 )(但し、X1 ≦X2 ,Y1
≦Y2)を対角線の端点とする矩形領域(クリッピング
・レクタングル)内(あるいは外)だけに図形を描画す
ることを許す機能をいう。
【0003】従来のクリッピング方式としては、つぎの
2つが挙げられる。
【0004】第1は、プリクリッピングとよばれる方法
で、これから描画しようとする図形とクリッピング・レ
クタングルの関係を数式的に解いて、クリッピング・レ
クタングル内に含まれる図形を描出するものである。た
とえば、クリピング・レクタングルと交差する直線AB
を描画する場合、この直線とクリッピング・レクタング
ル交点A′,B′を求めて、実際に描画される直線A′
B′だけ得る方式である。
【0005】第2は、描画を行う図形の1ドットに対応
するメモリ上のXY座標をドット毎に各々計算し、これ
らを逐次クリッピング・レクタングルの対角線の端点の
座標と比較し、描画を行おうとするドットが描画不可領
域に含まれた場合に描画を無効とする方法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来のクリッ
ピング方式は、以下に述べる欠点があった。
【0007】まず前者のプリクリッピングは、直線や円
などの図形とクリッピング・レクタングルの交点を求め
るための前処理に乗算や除算を含む複雑な演算が必要で
ある。描画不可領域は描画しなくてすむため、実際の描
画については高速に実行できるが、前処理のために非常
に長い時間が要求されるという欠点と、高速に乗除算を
実行できるハードウェアを必要とするため非常に高価な
グラフィクス装置になってしまうという欠点がある。
【0008】一方、後者の方法は、直線、円など1ドッ
ト単位で描画座標点を計算して行くような線図形には適
しているが、矩形領域の如き平面図形の処理には不便
で、とくにある矩形領域内のデータを別の矩形領域に転
送するいわゆるBITBLT(BIT BLock T
ransfer)などのように、ワード単位で複数ドッ
トを同時に処理した方が高速処理できる処理には利用で
きなかった。従って、この方法を採用した図形処理装置
では、BITBLTも1ドット単位でおこなわざるをえ
ないため処理速度が極めて遅いという欠点があった。例
えば、メモリ上のある矩形領域をクリッピング・レクタ
ングルと重複する矩形領域へ移し、その重複部分だけを
描画する場合、矩形領域の移動を1ビット毎行なわなけ
ればならない。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、1ドット単位
および1ワード単位の両方の処理において高速クリッピ
ング処理を実現させるため、クリッピング用マスク情報
と描画マスク情報とを夫々独立に生成するという概念を
導入することにより、従来の欠点を除去し処理速度を大
幅に短縮した図形処理装置を提供するものである。
【0010】クリッピング用マスク・データの生成は、
次のようなシーケンスで実現される。まず、クリッピン
グ・レクタングルを対角線の2端点により定義する。実
際の描画は描画許可領域、描画不可領域に無関係に行う
必要はあるが、描画を行う各ワードの先頭ドットのXY
座標を示すワードアドレスとクリッピング領域の端点
(右端と左端)のXY座標を示す両ワードのワードアド
レスを遅次比較し、その比較結果によって描画するワー
ドのうちどのビットの処理を行うかを定めるクリッピン
グ・マスク情報を生成する。そのクリッピング・マスク
情報と、別に生成した描画マスク情報とを基にして実際
にメモリに書込むデータを生成するものである。
【0011】本発明の図形処理装置は、メモリ上の各ビ
ットにXY座標を定義し、前記メモリ上にワード単位で
描画を行う図形処理装置であって、描画するワードの特
定位置のビットの座標(X,Y)を逐次計算する座標演
算手段と、XY座標上に(X 1 ,Y1 ),(X2
2 )(但しX1 ≦X2 ,Y1 ≦Y2 )を対角線の端点
とする矩形領域を定義し、前記X1 ,Y1 およびX2
2 を前記X,Yと比較することによって描画するワー
ドが前記矩形領域内か外か、あるいは前記矩形領域の境
界を含んでいるかを判定する比較手段と、前記比較手段
の比較結果によって、描画するワードのうちどのビット
の処理を行うかを定める第1のマスク情報を生成する第
1のマスク生成手段と、描画する図形の形状により、描
画するワードのうちどのビットの処理を行うか否かを定
める第2のマスク情報を生成する第2のマスク生成手段
とを有しており、これら第1、第2のマスク情報をマス
クパターンROMを用いて生成している。
【0012】
【実施例】
実施例1 次に本発明の第1の実施例について図面を参照して詳細
に説明する。
【0013】第1図は第1の実施例の図形処理装置の主
要なブロックを示す図、第3図はクリッピング・レクタ
ングルとデータ転送領域を示す図、第4図はクリッピン
グ・マスクの生成条件を示す図、第5図は描画マスクの
生成条件を示す図である。
【0014】最初に、第3図を用いてデータ転送処理時
のクリッピングについて説明する。第3図は、メモリ上
に定義したXY座標平面上のクリッピング・レクタング
ルとデータ転送領域の1例を示したものである。クリッ
ピング・レクタングルとして、点(Xmin ,Ymin )と
(Xmax ,Ymax )を対角線の端点とする長方形を定義
する。また、データ転送領域は、点(Xs ,Ys )と
(Xe ,Ye )を対角線の端点とする長方形でクリッピ
ング・レクタングルの一部と斜線部で重複している。ク
リッピング・レクタングルの左端はワード境界からLE
FT分ずれており、右端はRIGHT分ずれている。デ
ータ転送領域もその左端はワード境界からDS分ずれて
おり、右端はDE分ずれている。この例では、データ転
送領域と同一形状の別の矩形領域のデータを図示データ
転送領域にブロック転送し、クリッピング・レクタング
ルと重複する斜線部にのみ転送されたデータが書込まれ
る。なお、本実施例では1ワードのビット数を16ビッ
トとし、データ転送はワード単位で行われる。
【0015】次に、上記のようなクリッピングを実現す
るためのハードウェア回路について第1図をもとに説明
する。第1図に於いて、1は描画マスク演算回路、2は
クリッピング比較回路、3はXY座標演算回路、4はマ
スク・パターンROM、5はAND回路、6はメモリ・
データ演算回路、7はクリッピング・マスク・レジス
タ、8,9はマルチプレクサ、10〜13はそれぞれ4
ビットのパラメータ・レジスタ、14は選択制御回路、
30〜34は制御信号線、35〜40はデータ・バスで
ある。これらの各機能は以下の動作説明により明らかに
なるであろう。
【0016】まず、第1にクリッピング・マスク生成に
ついて説明する。クリッピング・マスクは次の4つの処
理を行うことによって作成される。
【0017】1)XY座標演算回路3に於いて、次に描
画を行うべきワード(データ転送されるべき領域のワー
ド)の先頭ビット(ワードアドレス)のXY座標の計算
を行う。X座標は直前のX値に16を加えることによっ
て計算する。Y座標は水平方向においては変化がなく、
垂直方向に対して+1される。XY座標演算回路は加減
算回路でよい。
【0018】2)クリッピング比較回路2に於いて、あ
らかじめ設定されたクリッピング・レクタングルの座標
値(Xmin ,Ymin ),(Xmax ,Ymax )とXY座標
演算回路3からデータ・バス35に出力されたX,Y両
座標値とを用いて次のような4種類の演算を行う。
【0019】 Y−Ymin ,Y−Ymax ,X−Xmin ,X−Xmax 各演算結果によって、それぞれの大小関係を示す信号を
信号線31に出力する。なお、ワード単位でデータ転送
しているため比較もワード単位で行なう方がよい。従っ
てXmin ,Xmax についてはその下位4ビットを“00
00”とし、(Xmin ,Ymin ),(Xmin
max ),(Xmax ,Ymax ),(Xma x ,Ymin )を
夫々仮想的に点A,B,C,D(第3図)に定めてい
る。
【0020】3)選択制御回路14は、信号線31上の
信号をもとにマルチプレクサ8および9の選択信号を生
成し、夫々信号線33,34に出力する。
【0021】4)選択信号によって、クリッピング・マ
スクの左端ビット位置情報および右端ビット位置情報を
決定し、それらをアドレス線36および37に出力して
マスク・パターンROM4をアクセスする。ビット位置
情報の決定方法については後で述べる。ROM4から読
出されたデータはクリッピング・マスクデータとしてデ
ータ・バス38を介してクリッピング・マスク・レジス
タ7にラッチされる。ラッチ信号は、2)の演算結果が
出力された次のサイクルでクリッピング比較回路2から
信号線32を介して供給される。
【0022】クリッピング・マスク情報はクリッピング
・レクタングルによって規定された描画許可領域と描画
不可領域とを示す情報である。従って、クリッピング・
レクタングルのXmin ,Xmax ,Ymin ,Ymax とデー
タ転送先領域の各ワードの先頭アドレスを示す座標値と
を比較して、転送先領域の各ワードがクリッピング・レ
クタングルの内か外かをワード単位でチェックし、クリ
ッピング・レクタングルによって定められた描画許可領
域内に存在するドットに対してのみ描画許可情報(本実
施例では“1”)を与え、描画不可領域に存在するドッ
トには描画不可情報(本実施例では“0”)を与える。
例えば、第3図ではクリッピング・レクタングルの内側
を描画許可領域、外側を描画不可領域と定めているの
で、クリッピング・レクタングル内の座標値に対しては
マスク情報として“1”が与えられ、それ以外の座標値
に対しては“0”が与えられる。
【0023】さらに、ワード単位で処理を行なっている
ので、クリッピング・レクタングルのXmin およびX
max 座標値がワードの先頭座標値と一致しない場合があ
る。これに対してはその補正が必要である。かかる補正
を行なうためにクリッピング・レクタングルの左端ビッ
ト位置情報(Xmin )が、これを含むワードの先頭座標
値(X′min )(第3図では直線ABによって定められ
るX座標値)(下位4ビットはすべて“0”)から何ビ
ットずれているかを示す数値の2進コード(LEFT)
がパラメータレジスタ11に予め設定されている。クリ
ッピング・レクタングルの右端ビット位置情報
(Xmax )については、これを含むワードの先頭座標値
(X′max )に対しそのずれを示す数値の2進コード
(RIGHT)が予めパラメータレジスタ13に設定さ
れている。
【0024】XY座標演算回路3によって作成される転
送先領域の各ワードの先頭座標値とクリッピング・レク
タングルの境界座標との比較は第4図に示す条件に基い
て行われる。比較回路2は第6図に示されており、転送
先領域の各ワードの先頭座標を作成するXY座標演算回
路3から出力されるX,Y各座標がレジスタ60に格納
される。一方クリッピング・レクタングルを規定するX
min ,Xmax 座標はレジスタ61に、Ymin ,Ymax
標はレジスタ62に夫々予め格納されている。ここで
は、1ビット座標は16ビットで指定されるため、比較
回路64は夫々16ビットの2入力端(A,B)を有し
ている。A入力端にはレジスタ60から転送先領域の各
ワードの先頭座標が入力される。一方、B入力端にはマ
ルチプレクサ63によって選択された方のレジスタの内
容が入力される。比較はまずずれのないY座標から先に
行われる。Y座標については、レジスタ60から出力さ
れたY座標とレジスタ62から出力されたY座標(Y
min ,Ymax )とが比較される。X座標については、X
Y座標演算回路3によって作成される各ワードの先頭X
座標はその4ビットが必ず“0000”である(ワード
内のビット位置が下位4ビットで指定される故)から、
レジスタ61からは下位4ビットを除く上位12ビット
だけが出力され、下位4ビットには全て“0”が付加さ
れてマルチプレクサ63に入力される。こうすることに
よって、比較回路64はX座標に対して実質的に上位1
2ビットの比較を行なうだけでよい。
【0025】今、レジスタ60から出力されるY座標が
レジスタ62から出力されるYmin 座標およびYmax
標に対して第4図のようにY<Ymin あるいはY>Y
max となる時は、転送先領域のワードの全ビットがクリ
ッピング・レクタングルの外にあるため、X座標の比較
せずともクリッピング・マスク情報(16ビット)はす
べて描画不可情報(オール“0”)となる。
【0026】さらに、Y≧Ymin およびY≦Ymax の場
合はY座標に関してはクリッピング・レクタングル内に
存在するため、X座標の比較がY座標に続いて行なわれ
る。結果は次の様になる。
【0027】(1)X>X′min かつX<X′max
時:転送先領域のワードの全ビットがクリッピング・レ
クタングル内に存在するので、クリッピング・マスク情
報はすべて描画許可情報(オール“1”)となる。
【0028】(2)X=X′min かつX<X′max
時:転送先領域のワードがクリッピング・レクタングル
左端を含むため、その補正値(LEFT)を用いてワー
ドの先頭からLEFTによって規定されるビットが描画
不可情報(“0”)となり、それ以降は描画許可情報
(“1”)となる。
【0029】(3)X>X′min かつX=X′max
時:転送先領域のワードがクリッピング・レクタングル
の右端を含むため、その補正値(RIGHT)を用いて
ワードの先頭からRIGHTによって規定されるビット
が描画許可情報(“1”)それ以降が描画不可情報
(“0”)となる。
【0030】(4)X=X′min かつX=X′max
時:転送先領域のワードがクリッピング・レクタングル
の左端と右端の両方を含むため、ワードの先頭からLE
FTによって規定されるビットが描画不可情報
(“0”)、ワードの先頭からRIGHT−LEFTに
よって規定されるビットが描画許可情報(“1”)、そ
れ以降が描画不可情報(“0”)となる。
【0031】(5)X<X′min あるいはX>X′max
の時:転送先領域のワードの全ビットがクリッピング・
レクタングルの外にあるため、すべて描画不可情報
(“0”)となる。
【0032】以上のようにしてクリッピング・マスク情
報を作成できるが、これをランダムロジック回路で作成
するとハードウェア回路が非常に複雑になるので、本実
施例ではテーブルメモリを用いてクリッピング・マスク
情報の作成を簡易化している。テーブルメモリとしてマ
スクROM4(第1図)を用いる。
【0033】第1図に戻って、マスク・パターンROM
4にはマルチプレクサ8の出力(4ビット)がアドレス
線36を介して上位アドレスとして入力され、マルチプ
レクサ9の出力(4ビット)がアドレス線37を介して
下位アドレスとして入力される。この実施例では1アド
レスが8ビットからなり、256個のパターン(前述た
クリッピング・マスク情報と後述する描画マスク情報が
含まれる)が予め記憶されている。1パターンは16ビ
ットからなる。クリッピング・マスク情報は第4図に示
すように、クリッピング・レクタングルより外側のワー
ドはいすれもオール“0”、すべてが内側のワードはい
ずれもオール“1”であるから、オール“0”およびオ
ール“1”は夫々共通のアドレスでアクセスできるよう
に、本実施例ではアドレスの上位4ビットが“111
1”=(15)、下位4ビットが“0000”=(0)
の時、クリッピング・マスク情報としてオール“0”
が、上位4ビットのアドレスが“0000”=(0)、
下位4ビットのアドレスが“1111”=(15)の時
クリッピング・マスク情報としてオール“1”が読出さ
れるようにアドレスを割り付けている。転送先領域のワ
ードがクリッピング・レクタングルの左端のみを含む場
合(X=X′min )はアドレスの上位4ビットをLEF
Tとし、下位4ビットを“1111”=(15)とす
る。また、右端のみを含む場合(X=X′max )アドレ
スの下位4ビットをRIGHTとし、上位4ビットを
“0000”(=0)とする。左端と右端との両方を含
む場合はアドレス上位および下位を夫々LEFT,RI
GHTとする。描画許可情報および不可情報はLEF
T,RIGHTの数によって予め定まるので、これをテ
ーブル化してROM4に記憶しておけばよい。この結
果、任意のクリッピング・レクタングルに対して所望の
クリッピング・マスク情報が得られる。
【0034】次に、描画マスク情報の作成について説明
する。描画マスク情報はデータ転送先の各ワードが座標
(Xe ,Ye )と(Xs ,Ys )を対角線の頂点とする
データ転送先の矩形領域内にあるか否かを識別するため
のマスク情報である。描画マスク情報の生成は次の3つ
の処理によって行われる。
【0035】1)描画マスク演算回路1に於いて、デー
タ転送領域のX方向のワード数は解っているので、同領
域からのワード転送がX方向に進む毎にその転送数を計
数することにより、転送されるワードが第1ワードであ
るか、最終ワードであるか、それら以外のワードである
かを検出し、検出信号を信号線30に出力する。
【0036】2)選択制御回路14は、検出信号をもと
にマルチプレクサ8および9の選択信号を生成し、信号
線33および34に出力する。
【0037】3)選択信号によって、描画マスクの左端
ビット位置情報および右端ビット位置情報を決定し、そ
れらをアドレス線33,34に出力してマスク・パター
ンROM4をアクセスする。ROM4からは描画マスク
・データが読出され、データ・バス38に出力される。
【0038】本実施例では、描画マスク情報は第3図の
(Xs ,Ye )と(Xs ,Ys ),(Xe ,Ys )と
(Xe ,Ye )を頂点とする矩形領域に対して求められ
る。データはワード単位で転送されるので、描画マスク
情報もクリッピング・マスク情報と同様にワード単位で
作成される。従って、データ転送先領域を規定するX座
標Xs ,Xe の下位4ビットを夫々“0000”とし、
第3図のEFGHによって定義される仮想矩形領域がデ
ータ転送先領域の各ワードの先頭座標と比較される。描
画マスク情報は水平方向における先頭ワードと最終ワー
ドだけがデータ転送先領域の右端と左端にまたがる可能
性があり、それ以外のワードはすべてデータ転送先領域
内に包含されるため、描画マスク演算回路1は転送先の
ワードが各水平方向に対して先頭か最終かそれともその
中間かを検出するだけでよい。検出結果、先頭ワードの
場合、補正値DSが予め格納されているパラメータレジ
スタ10が選択され、最終ワードの場合補正値DEが予
め格納されているパラメータレジスタ12が選択され
る。先頭ワードに対しては、第5図に示されるようにア
ドレスの上位4ビットがDS,下位4ビットがオール
“1”(=15)となる。最終ワードに対してはアドレ
スの上位4ビットがオール“0”(=0)、下位4ビッ
トがDEとなる。また、中間ワードの場合は、オール
“1”となるのでクリッピング・マスク情報のオール
“1”と同じアドレス(上位4ビットがオール“0”、
下位4ビットがオール“1”)が選ばれる。この結果、
マスク・パターンROM4から読み出されたパターンは
描画マスク情報として信号線38を介してAND回路5
に送られる。
【0039】以上のようにして、転送される各ワードに
対して夫々ワード単位でクリッピング・マスク情報と描
画マスク情報が生成され、AND回路5において対応す
るビット同志のAND演算が行なわれる。AND演算の
結果その出力が“1”となったビットが第3図の斜線内
のビットであり、そのビットに対応する転送元データの
ビットのみがメモリ・データ演算回路によって転送先の
データと置換される。すなわち、メモリ・データ演算回
路6では、データ・バス40を介して入力した転送元デ
ータと転送先データを、AND回路5から信号線39を
介して印加される最終的なマスク・データをもとに処理
してデータ・バス40に出力する。本実施例では、マス
ク・データ16ビットのうち、“1”であるビット位置
についてのも、転送元データを転送先データに置き換え
るようにしている。この結果、第3図の斜線部のみのデ
ータを書き換えることができる。
【0040】以上により、ワード単位で描画を行う際の
クリッピングが高速かつ容易に実現できるのである。
【0041】実施例2 次に本発明の第2の実施例について図面を参照して説明
する。
【0042】いままでの説明では、描画許可領域はクリ
ッピング・レクタングルの内側を指していたが、第2の
実施例はクリッピング・レクタングルの外側を描画許可
領域に指定するものである。
【0043】第2図は第2の実施例の図形処理装置の主
要なブロックを示す図である。第2図は、第1図とほぼ
同じであるが、クリッピング・マスク・レジスタの入力
が2系統になっており、データ・バス38のマスク・デ
ータをそのまま入力するか、反転回路52で反転して入
力するかを選択するマルチプレクサ50と、その選択信
号51が追加されている。
【0044】動作は、ほぼ第1の実施例と同じであり、
描画許可領域をモード指定の選択信号51で切り換える
ことによって、反転回路52の出力をクリッピング・マ
スク情報とすれば、第3図のクリッピング・レクタング
ルの外側が描画許可領域となる。
【0045】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、クリッピ
ングのためのマスク・データを本来の描画マスクと独立
に生成することにより、ワード単位での高速描画を実現
することができる。又、描画不可領域と描画許可領域の
指定も簡単であり、クリッピング・レクタングルの内側
/外側いずれをも描画許可領域とすることができる。
【0046】なお、実施例では、描画機能としてデータ
転送機能をとりあげて説明したが、本発明の主旨は描画
の種類には制限されないものである。また、直線や円等
ドット単位の描画については、第6図で示したような、
クリッピング座標値の下4ビットの補正をしないような
選択回路を設ければ、他はワード描画の場合と全く同じ
動作でクリッピングを実現できることは明白である。さ
らに、クリッピング・マスク情報と描画マスク情報とを
別々のROMで生成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック図。
【図2】本発明の第2の実施例を示すブロック図。
【図3】クリッピング・レクタングルとデータ転送領域
を示す図。
【図4】マスク情報の生成条件を示す図。
【図5】描画マスク情報の生成条件を示す図。
【図6】クリッピング比較回路2のブロック図。
【符号の説明】
1 描画マスク演算回路 2 クリッピング比較回路 3 XY座標演算回路 4 マスク・パターンROM 5 AND回路 6 メモリ・データ演算回路 7 クリッピング・マスク・レジスタ 8,9 マルチプレクサ 10〜13 4ビットのパラメータ・レジスタ 14 選択制御回路 30〜34 制御信号線 35〜40 データ・バス 50 マルチプレクサ 51 選択信号

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリ上の各ビットにXY座標を定義
    し、前記メモリ上にワード単位で描画を行う図形処理装
    置において、描画対象部分に含まれる各ワードのワード
    アドレスを逐次発生する座標演算手段と、XY座標上に
    (X1 ,Y1 )で示される第1の点と(X2 ,Y2 )で
    示される第2の点(但し、X1 ≦X2 ,Y1 ≦Y2 )を
    対角線の端点とする矩形領域を定義し、前記第1の点を
    有するワードのワードアドレスおよび前記第2の点を有
    するワードのワードアドレスを前記座標演算手段から発
    生された描画すべきワードのワードアドレスと比較する
    ことにより前記描画すべきワードが前記矩形領域の内か
    外かあるいは前記矩形領域の境界を含んでいるかを判定
    する比較手段と、前記比較手段からの比較結果によっ
    て、前記描画すべきワードの中のどのビットに対し処理
    を行うかを指定する第1のマスク情報を生成する第1の
    マスク生成手段と、前記描画すべきワードの前記描画対
    象部分における位置に応じて前記描画すべきワードの中
    のどのビットに対し処理を行うかを指定する第2のマス
    ク情報を生成する第2のマスク生成手段と、前記描画す
    べきワードの中の前記第1および第2のマスク情報の両
    方により指定されたビットに対し描画処理を行う手段と
    を備え、前記第1および第2のマスク情報は、マスクパ
    ターンROMを用いて生成される図形処理装置。
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