JP2603431B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JP2603431B2 JP2603431B2 JP5315201A JP31520193A JP2603431B2 JP 2603431 B2 JP2603431 B2 JP 2603431B2 JP 5315201 A JP5315201 A JP 5315201A JP 31520193 A JP31520193 A JP 31520193A JP 2603431 B2 JP2603431 B2 JP 2603431B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spinner
- case
- workpiece
- lid
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェハー、プリン
ト基板、ガラス板等の表面にホトレジスト、拡散剤、酸
化ケイ素被膜形成用塗布液等を塗布する装置に関する。
ト基板、ガラス板等の表面にホトレジスト、拡散剤、酸
化ケイ素被膜形成用塗布液等を塗布する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハー等にホトレジストや拡散
剤を塗布する装置として、従来から特開昭５８−１９７
７３２号公報に開示されるようなスピンナーを用いた装
置が知られている。
剤を塗布する装置として、従来から特開昭５８−１９７
７３２号公報に開示されるようなスピンナーを用いた装
置が知られている。
【０００３】この装置はカップ内に配設したスピンナー
上面に半導体ウェハーを吸着せしめ、この状態の半導体
ウェハー上面の中心にホトレジスト液を滴下するととも
に、スピンナーによって半導体ウェハーを高速で回転さ
せ、回転によって生じる遠心力によって滴下したホトレ
ジスト液を半導体ウェハー表面に均一に広げるととも
に、カップについても回転せしめ、半導体ウェハーから
カップに向かって飛散するホトレジスト液の反射方向が
カップの回転方向に沿うようにして、レジスト液が半導
体ウェハー上に再び飛散するのを防止したものである。
上面に半導体ウェハーを吸着せしめ、この状態の半導体
ウェハー上面の中心にホトレジスト液を滴下するととも
に、スピンナーによって半導体ウェハーを高速で回転さ
せ、回転によって生じる遠心力によって滴下したホトレ
ジスト液を半導体ウェハー表面に均一に広げるととも
に、カップについても回転せしめ、半導体ウェハーから
カップに向かって飛散するホトレジスト液の反射方向が
カップの回転方向に沿うようにして、レジスト液が半導
体ウェハー上に再び飛散するのを防止したものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来装置にあってはカップの上方が開放されていること
及びカップの回転方向及び速度が半導体ウェハーの回転
方向及び速度と何ら関連なく行っているため、飛散した
レジスト液による半導体ウェハーの汚れはそれほど改善
されない。また角板状のガラス板等を処理する場合には
図４及び図５に示す如き不利が生じる。
従来装置にあってはカップの上方が開放されていること
及びカップの回転方向及び速度が半導体ウェハーの回転
方向及び速度と何ら関連なく行っているため、飛散した
レジスト液による半導体ウェハーの汚れはそれほど改善
されない。また角板状のガラス板等を処理する場合には
図４及び図５に示す如き不利が生じる。
【０００５】即ち、図４は塗布液の広がり具合を示した
ガラス板の平面図、図５は図４のＸーＸ線断面図であ
り、スピンナーによって矢印ａ方向に回転するガラス板
Ｗの中心Ｏに塗布液Ｒを滴下すると、塗布液Ｒは遠心力
によって矢印ｂに示すように放射状に広がり、ガラス板
Ｗの端縁まで移動する。そして端縁まで移動した塗布液
Ｒのうち端縁から飛散しないものは矢印ｃ方向に移動
し、コーナ部に集るようになり、更にコーナ部において
回転による風の抵抗を受けて矢印ｄ方向に流れ、この部
分に塗布液の隆起部Ｒ’を形成してしまう。斯かる隆起
部Ｒ’が形成されると、ガラス板表面に形成された被膜
が不均一となり、商品価値を失し、生産歩留まりが大き
く低下する。
ガラス板の平面図、図５は図４のＸーＸ線断面図であ
り、スピンナーによって矢印ａ方向に回転するガラス板
Ｗの中心Ｏに塗布液Ｒを滴下すると、塗布液Ｒは遠心力
によって矢印ｂに示すように放射状に広がり、ガラス板
Ｗの端縁まで移動する。そして端縁まで移動した塗布液
Ｒのうち端縁から飛散しないものは矢印ｃ方向に移動
し、コーナ部に集るようになり、更にコーナ部において
回転による風の抵抗を受けて矢印ｄ方向に流れ、この部
分に塗布液の隆起部Ｒ’を形成してしまう。斯かる隆起
部Ｒ’が形成されると、ガラス板表面に形成された被膜
が不均一となり、商品価値を失し、生産歩留まりが大き
く低下する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
考案は、ケース内に板状被処理物を回転せしめるスピン
ナーを設け、被処理物表面に滴下した塗布液を被処理物
の回転に伴なう遠心力で被処理物表面に広げるようにし
た塗布装置において、前記ケースの底板部中央に孔を設
け、この孔にスピンナーを挿着してケースとスピンナー
とを一体的な回転可能に結合し、また一体的な回転可能
に結合した状態で、前記孔の上端周縁とスピンナー上端
面とで被処理物載置面を形成し、またケース上面に被処
理物を出入させるための開口を設け、この開口には、昇
降動するアーム(21)にジョイント(22)を介して回転自在
に支持される開閉自在な蓋体を設けた。
考案は、ケース内に板状被処理物を回転せしめるスピン
ナーを設け、被処理物表面に滴下した塗布液を被処理物
の回転に伴なう遠心力で被処理物表面に広げるようにし
た塗布装置において、前記ケースの底板部中央に孔を設
け、この孔にスピンナーを挿着してケースとスピンナー
とを一体的な回転可能に結合し、また一体的な回転可能
に結合した状態で、前記孔の上端周縁とスピンナー上端
面とで被処理物載置面を形成し、またケース上面に被処
理物を出入させるための開口を設け、この開口には、昇
降動するアーム(21)にジョイント(22)を介して回転自在
に支持される開閉自在な蓋体を設けた。
【０００７】
【作用】ケースは密閉状態でスピンナーと一体的に回転
し且つケース内に気流を発生する部材がないため、ケー
ス内で気流が生じにくく被処理物表面に滴下した塗布液
に空気抵抗となって作用することがなく、被処理物表面
に均一な厚さの膜を形成することができる。また、ケー
ス上面の開口を閉塞する蓋体として、昇降動するアーム
にジョイントを介して回転自在に支持される蓋体を用い
ることにより、スピンナーと蓋体によりケースが挟まれ
る安定した状態でケースが回転するため、回転中にケー
ス内が陰圧になっても、蓋体が撓むことがない。
し且つケース内に気流を発生する部材がないため、ケー
ス内で気流が生じにくく被処理物表面に滴下した塗布液
に空気抵抗となって作用することがなく、被処理物表面
に均一な厚さの膜を形成することができる。また、ケー
ス上面の開口を閉塞する蓋体として、昇降動するアーム
にジョイントを介して回転自在に支持される蓋体を用い
ることにより、スピンナーと蓋体によりケースが挟まれ
る安定した状態でケースが回転するため、回転中にケー
ス内が陰圧になっても、蓋体が撓むことがない。
【０００８】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明に係る塗布装置の縦断
面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は蓋体を外し
た状態の図１と同様の断面図である。
説明する。ここで、図１は本発明に係る塗布装置の縦断
面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は蓋体を外し
た状態の図１と同様の断面図である。
【０００９】塗布装置はケース１、スピンナー１０及び
蓋体２０から構成され、ケース１は底板部２、側板部３
及び上板部４からなり、底板部２にはスピンナー１０が
挿着される孔５と自動開閉シャッターを備えたドレンポ
ート６を設け、上板部４には被処理物である角板状ガラ
ス板Ｗを出し入れするための円形又は四角形状の開口７
を開成し、この開口７を前記蓋体２０にて開閉するよう
にしている。
蓋体２０から構成され、ケース１は底板部２、側板部３
及び上板部４からなり、底板部２にはスピンナー１０が
挿着される孔５と自動開閉シャッターを備えたドレンポ
ート６を設け、上板部４には被処理物である角板状ガラ
ス板Ｗを出し入れするための円形又は四角形状の開口７
を開成し、この開口７を前記蓋体２０にて開閉するよう
にしている。
【００１０】蓋体２０は図に示すように、昇降動するア
ーム２１にジョイント２２を介して回転自在に支持さ
れ、この蓋体２０の回転中心とスピンナー１０は一致し
ている。
ーム２１にジョイント２２を介して回転自在に支持さ
れ、この蓋体２０の回転中心とスピンナー１０は一致し
ている。
【００１１】また開口７の周囲からは斜め下方にスカー
ト状のガイド板８を設け、ガラス板Ｗの端縁から飛散し
た塗布液をケース１内の上方に廻り込ませず、下方へ導
くようにし、ガラス板Ｗ端縁から飛散した塗布液が再び
付着しないようにしている。即ち、本発明において、塗
布液は形成された被膜に付着することがない。
ト状のガイド板８を設け、ガラス板Ｗの端縁から飛散し
た塗布液をケース１内の上方に廻り込ませず、下方へ導
くようにし、ガラス板Ｗ端縁から飛散した塗布液が再び
付着しないようにしている。即ち、本発明において、塗
布液は形成された被膜に付着することがない。
【００１２】また、スピンナー１０には真空ポンプ等に
つながる吸引孔１１を形成し、この吸引孔１１をスピン
ナー１０上面に形成した吸引溝１２に開口せしめ、更に
スピンナー１０とケース１とを一体的な回転が可能にな
るように結合した状態で、前記孔５の上端周縁とスピン
ナー１０上端面とで被処理物Ｗを載置する面を形成する
ようにしている。
つながる吸引孔１１を形成し、この吸引孔１１をスピン
ナー１０上面に形成した吸引溝１２に開口せしめ、更に
スピンナー１０とケース１とを一体的な回転が可能にな
るように結合した状態で、前記孔５の上端周縁とスピン
ナー１０上端面とで被処理物Ｗを載置する面を形成する
ようにしている。
【００１３】以上の構成からなる塗布装置による塗布方
法を以下に述べる。先ず図３に示すように蓋２０を開と
し、スピンナー１０上にガラス板Ｗをセットし、吸引溝
１２を介してガラス板Ｗを吸引固着し、この状態のガラ
ス板Ｗの上面中心に図示しないノズルから塗布液を滴下
し、この後蓋２０を閉じて直ちにスピンナー１０を回転
させ、ガラス板Ｗ上面に滴下した塗布液を遠心力によっ
てガラス板Ｗの端縁まで広げる。
法を以下に述べる。先ず図３に示すように蓋２０を開と
し、スピンナー１０上にガラス板Ｗをセットし、吸引溝
１２を介してガラス板Ｗを吸引固着し、この状態のガラ
ス板Ｗの上面中心に図示しないノズルから塗布液を滴下
し、この後蓋２０を閉じて直ちにスピンナー１０を回転
させ、ガラス板Ｗ上面に滴下した塗布液を遠心力によっ
てガラス板Ｗの端縁まで広げる。
【００１４】そして、スピンナー１０とケース１は一体
的に連結しているので、スピンナー１０と等速でケース
１も回転する。ここでケース１内は蓋２０を閉じて閉空
間となっているのでスピンナー１０及びケース１が一体
的に回転することでケース１内の空気もスピンナー１０
及びケース１の回転と同方向に流れ、見かけ上ケース１
内には気流が殆ど生じることがなく、ガラス板Ｗを高速
で回転させてもガラス板Ｗ表面の塗布液に対する空気抵
抗が小さくなり、隆起部が形成されず、ガラス板Ｗ端縁
から余分な塗布液が飛散しやすくなる。
的に連結しているので、スピンナー１０と等速でケース
１も回転する。ここでケース１内は蓋２０を閉じて閉空
間となっているのでスピンナー１０及びケース１が一体
的に回転することでケース１内の空気もスピンナー１０
及びケース１の回転と同方向に流れ、見かけ上ケース１
内には気流が殆ど生じることがなく、ガラス板Ｗを高速
で回転させてもガラス板Ｗ表面の塗布液に対する空気抵
抗が小さくなり、隆起部が形成されず、ガラス板Ｗ端縁
から余分な塗布液が飛散しやすくなる。
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
塗布装置のケースがスピンナーと一体的に回転するの
で、被処理物をスピンナーによって回転させ、被処理物
上に滴下した塗布液を遠心力によって径方向外方へ広げ
る際に、塗布液に対する空気抵抗が小さくなり、塗布液
の隆起部が被処理物の端縁部、特に角板状処理物の場合
にはコーナー部に形成されることがない。
塗布装置のケースがスピンナーと一体的に回転するの
で、被処理物をスピンナーによって回転させ、被処理物
上に滴下した塗布液を遠心力によって径方向外方へ広げ
る際に、塗布液に対する空気抵抗が小さくなり、塗布液
の隆起部が被処理物の端縁部、特に角板状処理物の場合
にはコーナー部に形成されることがない。
【００１６】したがって、被処理物表面に均一な厚さの
膜を形成することができ、生産歩留まりが向上した均一
膜厚の塗膜を形成することができる。また、開口７の周
囲から形成された被膜に付着することがない。更に、ケ
ース上面の開口を閉塞する蓋体として、昇降動するアー
ムにジョイントを介して回転自在に支持される蓋体を用
いることにより、スピンナーと蓋体によりケースが挟ま
れる安定した状態でケースが回転するため、回転中にケ
ース内が陰圧になっても、蓋体が撓むことがない。した
がって、蓋体裏面と被処理物表面との間隔が変化せず、
結果として均一性の高い塗布膜を容易に形成できる。
膜を形成することができ、生産歩留まりが向上した均一
膜厚の塗膜を形成することができる。また、開口７の周
囲から形成された被膜に付着することがない。更に、ケ
ース上面の開口を閉塞する蓋体として、昇降動するアー
ムにジョイントを介して回転自在に支持される蓋体を用
いることにより、スピンナーと蓋体によりケースが挟ま
れる安定した状態でケースが回転するため、回転中にケ
ース内が陰圧になっても、蓋体が撓むことがない。した
がって、蓋体裏面と被処理物表面との間隔が変化せず、
結果として均一性の高い塗布膜を容易に形成できる。
【図１】図１は本発明に係る塗布装置の縦断面図
【図２】図２は図１のＡ−Ａ線断面図
【図３】図３は蓋体を外した状態の図１と同様の断面図
【図４】図４は従来装置による塗布液の流れを示す被処
理物の平面図
理物の平面図
【図５】図５は図４のＸ−Ｘ線断面図
１…ケース、７…開口、８…ガイド板、１０…スピンナ
ー、２０…蓋体、Ｗ…被処理物。
ー、２０…蓋体、Ｗ…被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−39737（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−87862（ＪＰ，Ａ) 実公 平４−51907（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (1)
- 【請求項１】 ケース(1)内に板状被処理物(W)を回転せ
しめるスピンナー(10)を設け、被処理物(W)表面に滴下
した塗布液を被処理物(W)の回転に伴なう遠心力で被処
理物(W)表面に広げるようにした塗布装置において、前
記ケース(1)の底板部(2)中央に孔(5)を設け、この孔(5)
にスピンナー(10)を挿着してケース(1)とスピンナー(1
0)とを一体的な回転可能に結合し、また一体的な回転可
能に結合した状態で、前記孔(5)の上端周縁とスピンナ
ー(10)上端面とで被処理物(W)載置面を形成し、またケ
ース(1)上面に被処理物(W)を出入させるための開口(7)
を設け、この開口(7)には、昇降動するアーム(21)にジ
ョイント(22)を介して回転自在に支持される開閉自在な
蓋体(20)を設けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315201A JP2603431B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315201A JP2603431B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0731924A JPH0731924A (ja) | 1995-02-03 |
| JP2603431B2 true JP2603431B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=18062625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5315201A Expired - Lifetime JP2603431B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2603431B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5359417B2 (ja) * | 2009-03-16 | 2013-12-04 | 大日本印刷株式会社 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5139737A (ja) * | 1974-10-01 | 1976-04-02 | Canon Kk | Hakusotofuyosupinnaa |
| JPS5787862A (en) * | 1980-11-19 | 1982-06-01 | Toshiba Corp | Rotary coating device |
| JPH0451907U (ja) * | 1990-09-05 | 1992-05-01 |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP5315201A patent/JP2603431B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0731924A (ja) | 1995-02-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961210 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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