JP2599222Y2 - 希釈薬液の連続注入装置 - Google Patents
希釈薬液の連続注入装置Info
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- JP2599222Y2 JP2599222Y2 JP1993067918U JP6791893U JP2599222Y2 JP 2599222 Y2 JP2599222 Y2 JP 2599222Y2 JP 1993067918 U JP1993067918 U JP 1993067918U JP 6791893 U JP6791893 U JP 6791893U JP 2599222 Y2 JP2599222 Y2 JP 2599222Y2
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Description
おけるpH調節装置に適用する希釈薬液の連続注入装置
に関するものである。
処理水のpH値を調整するために希釈水によって一定濃
度に希釈された苛性ソーダや塩酸等のpH調整用薬液を
所定箇所に注入するpH調節装置が付設されている。図
3は水処理ライン中に付設した従来の希釈薬液注入装置
を用いたpH調節装置の一例を示す概略図であり、図中
20は希釈槽、21は希釈槽20内に希釈水を供給する
供給管、22は供給管21から供給される希釈水と不図
示の供給手段から供給される高濃度の薬液とを攪拌混合
する攪拌羽根を示す。
24はこの液送管23の管路中に付設したポンプ、25
は液送管23に接続された戻し管であり、当該戻し管2
5の出口部26は希釈槽20内に臨むようになってお
り、これにより希釈薬液の循環ラインが構成されてい
る。27は前記循環ラインを流れる希釈薬液の一部を、
pH調整槽30内の被処理水中に注入させるため液送管
23に接続した注入管、28は当該注入管27の管路中
に付設したコントロール弁、29はpH調整槽30内の
被処理水のpH値を検出するpH計、31はpH調整槽
30内に被処理水を供給する供給管、32はpH値が調
整された被処理水を次段の処理設備に送るための送水管
である。
は、不図示のpH調節制御装置を介して電気信号として
前記コントロール弁28に送られ、当該コントロール弁
28は自動的に開度が制御されるようになっている。な
お、コントロール弁28の開度が変化しても、コントロ
ール弁28の入口側の希釈薬液の供給圧力は常にほぼ一
定に維持されるようにするため、前記循環ラインを通じ
て希釈槽20内に戻される希釈薬液の分量は、一般にコ
ントロール弁28を通じてpH調整槽30内に注入され
る希釈薬液の分量の十倍乃至数十倍となるように設定さ
れている。
0内の液面が一定レベルまで低下してきたときには、従
来、ポンプ24を停止して希釈槽20の循環ラインを停
止し、供給管21を通じて希釈水を希釈槽20内に入れ
ると同時に、濃度45%程度の苛性ソーダや濃度34%
程度の塩酸等の濃厚薬液を添加して、攪拌羽根22によ
り両者を攪拌混合し1〜5%程度の濃度を有する希釈薬
液となす。この希釈作業には通常30分以上の時間を要
するが、この間は薬液注入装置は停止状態となるもので
あった。
は希釈槽内の液面が一定レベルまで低下してきたときに
は、薬液を所定濃度まで希釈する希釈操作のため循環ラ
インを一旦停止しなければならなかった。そのため、水
処理ラインの全体も停止せざるを得ず処理水の用途先に
対する影響がきわめて大きかった。そこで、本考案は希
釈操作のため装置の全体を停止するという従来の欠点を
解決し、希釈槽の他に小容量の補助槽を付設し、循環ラ
インの管路中に切換弁を付設して、希釈操作中でも装置
の全体を停止することなく補助槽内の希釈薬液を連続し
て所定箇所に注入し得るようになした希釈薬液の連続注
入装置を提供することを目的とするものである。
の本考案の構成を詳述すれば、希釈槽に接続した希釈薬
液の液送管と、当該液送管の管路中に付設したポンプ
と、当該ポンプによって希釈薬液を希釈槽内に戻す戻し
管とによって希釈薬液の循環ラインを構成し、当該循環
ラインを流れる希釈薬液の一部を、液送管に接続した注
入管を通じて所定箇所に注入するようになした希釈薬液
の注入装置において、前記希釈槽の他に希釈薬液の補助
槽を並設し、当該補助槽に、希釈槽に接続した希釈薬液
の液送管とは別個の液送管を接続すると共に、希釈槽か
ら送られる希釈薬液と補助槽から送られる希釈薬液とを
切り換えることのできる切換弁を液送管の管路中に付設
し、且つ前記戻し管の出口部を補助槽内に臨ませ、補助
槽内に戻される希釈薬液の余剰分を希釈槽内に戻すため
の返戻手段を付設して希釈槽内の希釈薬液の液面が一定
レベルまで低下した時に切換弁の切り換え操作により補
助槽内の希釈薬液を所定箇所に注入させるようになした
ことを特徴とする希釈薬液の連続注入装置である。
は、切換弁によって希釈槽内の希釈薬液が循環ラインを
流れるようにしておき、その一部が従来と同様コントロ
ール弁を介して所定箇所に注入される。一方、希釈槽内
の液面低下に伴い希釈操作を行うときには、切換弁によ
って補助槽内の希釈薬液が循環ラインを通流するように
なし、その一部をコントロール弁を介して所定箇所に注
入させることができるので、希釈薬液の注入を間断なく
行うことができ、たとえば水処理ラインの全体を希釈操
作が終了するまで停止するという従来の欠点を解決する
ことができるものである。
的構成を図示の実施例に基づき詳細に説明する。図1は
本考案装置の一実施例を示すフローの説明図、図2は本
考案装置の他の実施例を示すフローの説明図である。な
お、いずれの実施例も本考案装置をpH調節装置に応用
した例を示すものであるが、本考案希釈薬液の連続注入
装置は、このpH調節装置に限られるものではなく、p
H調節用薬液以外の希釈薬液を注入する装置も含むもの
であることは勿論である。
釈槽、2は当該希釈槽1内に希釈水を供給する供給管、
3は供給管2から供給される希釈水と高濃度の薬液とを
攪拌混合する攪拌羽根である。4は希釈薬液の補助槽で
あり、この実施例では希釈槽1内に当該希釈槽1の周壁
よりは低い仕切り壁5を配設して隔室を形成し、当該隔
室を以って補助槽4としてある。6は希釈槽1に接続し
た希釈薬液の液送管、7はこの液送管6とは別個に補助
槽4に接続した液送管である。8は液送管6及び7の合
流部に付設した三方ボール弁等からなる切換弁、9はこ
の切換弁8以降の液送管10の管路中に付設したポン
プ、11は液送管10に接続された希釈薬液の戻し管で
あり、当該戻し管11の出口部12は、従来希釈槽1内
に臨むようになっていたが、本考案装置では前記補助槽
4内に臨ませてある。なお、補助槽4内に戻し管11を
通じて戻された希釈薬液は、前記したように補助槽4を
なす仕切り壁5の高さが希釈槽1の周壁よりは低くなっ
ているので、仕切り壁5を越流した希釈薬液は希釈槽1
内に返戻される。従って、図1に示す例における返戻手
段は補助槽4をなす仕切り壁5の高さを希釈槽1の周壁
より低くしたことである。
希釈薬液の一部を所定箇所、すなわち本例ではpH調整
槽14内の被処理液中に注入させるため液送管10に接
続した注入管であり、15は当該注入管13の管路中に
付設したコントロール弁である。16はpH調整槽14
内の被処理液中にそのセンサー部を浸漬させ被処理液の
pH値を検出するpH計であり、検出されたpH値は不
図示のpH調節制御装置を介して電気信号としてコント
ロール弁15に送られ、開度が自動的に調整される。そ
の他、図中の17はpH調整槽14内に被処理液を供給
する供給管、18はpH値が調整された被処理液を次段
の処理設備に送るための送液管である。
8を希釈槽1に接続した液送管6側に切り換えておき、
ポンプ9によって吸引された希釈槽1内の希釈薬液は液
送管6、ポンプ9、液送管10を経由し、戻し管11を
通じて出口部12より補助槽4内に戻される。補助槽4
の仕切り壁5を越流した希釈薬液は希釈槽1内に返戻さ
れ、循環ラインが形成される。そして、pH調整槽14
内の被処理液のpH濃度に応じてコントロール弁15の
開度が決定され、循環ラインを通流する希釈薬液の一部
は注入管13よりpH調整槽14内に注加される。一
方、希釈槽1内の液面が所定レベルまで低下してきたと
きには、切換弁8を補助槽4に接続してある液送管7側
に切り換え、補助槽4内の希釈薬液を液送管7、ポンプ
9、液送管10、戻し管11を通じて循環させ、当該循
環する希釈薬液の一部を前記と同様にしてpH調整槽1
4内に注入させる。従って、その間希釈槽1内において
供給管2を通じて供給される希釈水と不図示の供給手段
によって供給される高濃度薬液とを攪拌混合して希釈操
作を行うことができるものである。
止し、希釈操作している間に対応し得るだけの容量を有
するものであれば足り、希釈槽1の容量よりも小容量で
あることは云うまでもない。また、戻し管11の出口部
12を補助槽4内に臨ませてあるので、希釈槽1の液面
レベルの低下に関係なく、前記通常の循環ラインを通流
する希釈薬液によって補助槽4内は常にほぼ満量の希釈
薬液が確保されているものであり、希釈槽1内の液面レ
ベルの低下時にも有効に作用するものである。
釈槽1から分離独立させると共に、希釈槽1に接続した
希釈薬液の液送管6の管路中に切換弁8Aを付設し、補
助槽4に接続した希釈薬液の液送管7の管路中に切換弁
8Bを付設したもので、通常時は切換弁8Aを開、切換
弁8Bを閉としておく。この状態では希釈槽1内の希釈
薬液は液送管6、ポンプ9、液送管10、戻し管11を
通じ補助槽4内に戻される循環ラインが形成され、補助
槽4内に戻された希釈薬液は越流管19を介して希釈槽
1内に返戻される。従って、この図2に示す実施例の返
戻手段は越流管19となっている。なお、前記循環ライ
ンを流れる希釈薬液の一部を、注入管13を介してpH
調整槽14内に注入するのは、図1に示す実施例の場合
と同じである。一方、希釈操作に際しては前記とは逆に
切換弁8Bを開、切換弁8Aを閉となし、液送管7、ポ
ンプ9、液送管10、戻し管11からなる循環ラインを
形成し、当該循環ラインを通流する希釈薬液の一部を、
図1に示す実施例の場合と同様に注入管13を通じてp
H調整槽14内に注入するものである。
入装置は、希釈槽内の液面が一定レベルまで低下した場
合でも希釈薬液を所定箇所に連続して注入させることが
できるようになしたものであり、たとえば水処理ライン
の全体を希釈操作が終了するまで停止するという従来の
欠点を解決することができるものである。
ある。
である。
Claims (1)
- 【請求項1】 希釈槽に接続した希釈薬液の液送管と、
当該液送管の管路中に付設したポンプと、当該ポンプに
よって希釈薬液を希釈槽内に戻す戻し管とによって希釈
薬液の循環ラインを構成し、当該循環ラインを流れる希
釈薬液の一部を、液送管に接続した注入管を通じて所定
箇所に注入するようになした希釈薬液の注入装置におい
て、前記希釈槽の他に希釈薬液の補助槽を並設し、当該
補助槽に、希釈槽に接続した希釈薬液の液送管とは別個
の液送管を接続すると共に、希釈槽から送られる希釈薬
液と補助槽から送られる希釈薬液とを切り換えることの
できる切換弁を液送管の管路中に付設し、且つ前記戻し
管の出口部を補助槽内に臨ませ、補助槽内に戻される希
釈薬液の余剰分を希釈槽内に戻すための返戻手段を付設
して希釈槽内の希釈薬液の液面が一定レベルまで低下し
た時に切換弁の切り換えにより補助槽内の希釈薬液を所
定箇所に注入させるようになしたことを特徴とする希釈
薬液の連続注入装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993067918U JP2599222Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 希釈薬液の連続注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993067918U JP2599222Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 希釈薬液の連続注入装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0734931U JPH0734931U (ja) | 1995-06-27 |
JP2599222Y2 true JP2599222Y2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=13358775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1993067918U Expired - Lifetime JP2599222Y2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 希釈薬液の連続注入装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2599222Y2 (ja) |
-
1993
- 1993-11-29 JP JP1993067918U patent/JP2599222Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0734931U (ja) | 1995-06-27 |
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