JP2584997Y2 - プロービング装置用半導体ウエハステージ - Google Patents

プロービング装置用半導体ウエハステージ

Info

Publication number
JP2584997Y2
JP2584997Y2 JP1992003762U JP376292U JP2584997Y2 JP 2584997 Y2 JP2584997 Y2 JP 2584997Y2 JP 1992003762 U JP1992003762 U JP 1992003762U JP 376292 U JP376292 U JP 376292U JP 2584997 Y2 JP2584997 Y2 JP 2584997Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
mounting surface
wafer stage
stage
vertically moving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1992003762U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0566989U (ja
Inventor
雅利 林本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP1992003762U priority Critical patent/JP2584997Y2/ja
Publication of JPH0566989U publication Critical patent/JPH0566989U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2584997Y2 publication Critical patent/JP2584997Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は半導体ウエハの検査を行
なう時に、検査する半導体ウエハをテスト用触針に接触
させるプロービング装置において半導体ウエアを移動さ
せる半導体ウエハステージに関し、特に半導体ウエハを
真空力で固定する半導体ウエハステージに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ上には多数のチップが作ら
れるが、製造後半導体ウエハの状態で各チップの電極パ
ッドに触針を接触させ、この触針を介して電気信号の入
出力を行なって各チップの電気特性を検査し、良否の判
定を行なう。半導体チップの電極パッドは微小であり、
触針を接触させるには精密な移動台が必要である。この
検査する半導体に触針を接触させる装置がプロービング
装置と呼ばれるもので、プロービング装置における半導
体ウエハの搬送経路の例を示したのが図3である。測定
する半導体ウエハ15は、格納箱12に複数枚収容され
た状態で設置される。半導体ウエハ15は、搬送機構1
3によって格納箱12から一枚づつ取り出され、所定位
置まで搬送される。
【0003】図3において、10は半導体ウエハステー
ジであり、搬送機構13によって所定位置まで搬送され
た半導体ウエハ15を上下移動ピン3を伸ばして支持す
る。この状態で搬送機構は元の位置に移動する。そして
上下移動ピン3を下方へ移動させることにより半導体ウ
エハ15は半導体ウエハステージ10の載置面上に載
る。そして更に真空吸着によって半導体ウエハ15をス
テージ10に固定する。この後ステージ10は触針を有
するプローブソケット14の下に移動され、顕微鏡等で
正確に位置調整された後、各チップの電極パッドに触針
を接触させ測定を行なう。
【0004】半導体ウエハ内のすべてのチップの測定終
了後ステーブ10は元の位置に戻り、真空力が解除され
た後、再び上下移動ピン3を上方に移動して半導体ウエ
ハ15を所定位置に戻す。この半導体ウエハ15を搬送
機構13が受け取り格納箱12に戻す。これを格納箱1
2内のすべての半導体ウエハの検査終了まで繰り返す。
【0005】図4は半導体ウエハステージの部分を詳細
に示した図である。搬送機構との半導体ウエハ15の受
け渡しを行なう時に、半導体ウエハ15を載置面1に直
接載置したのでは受け渡しが難しいため、上下移動ピン
3を上下させて半導体ウエハ15を載置面1から離すよ
うにする。またステージ10上に載置された半導体ウエ
ハ15が移動の途中でステージ10に対してずれると触
針との正確な接触が行なえないため、半導体ウエハ15
は固定される必要がある。そのため通常は、図4に示す
ように載置面1に溝2を設け、溝内の空気を真空ポンプ
で排出して大気圧(真空圧)で固定している。固定を解
除するには溝2内の空気圧を元に戻す。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】上記のように検査の終
了した半導体ウエハは、真空圧等による固定が解除され
た後、上下移動ピン3を上方に移動して所定位置まで上
昇される。その時真空圧を解除しても、半導体ウエハ1
5は載置面1にしっかり接触しているため、容易には外
れない場合がある。
【0007】上下移動ピン3は金属で作られており、ス
テージ10の構造や搬送機構との関係であまり太くする
ことは好ましくない。半導体ウエハ15は薄い板状であ
り、上下移動ピン3に載置するだけならば何んら問題を
生じない。しかし上記のように半導体ウエハ15が載置
面1にしっかり接触している時に、上下移動ピン3を上
方に移動させた場合、半導体ウエハ15の上下移動ピン
3との接触部に力がかかり、半導体ウエハ15を損傷す
ることがある。このような損傷は半導体ウエハ15の切
断工程等での不良の発生や電気的故障発生の原因にな
る。
【0008】特に半導体ウエハ15を固定する真空圧を
室内の空気圧に切り換えても溝2内の空気圧が室内の空
気圧と同一になるには時間遅延があるため、空気圧の切
り換え直後に上下移動ピン3を上昇させると更に大きな
力がピンとの接触部に加わり、損傷することが多くな
る。これは装置を高速化する上での障害になる。本考案
は上記問題点に鑑みてなされたものであり、検査終了後
の半導体ウエハを載置面より所定位置まで上昇させる時
に、上下移動ピンが半導体ウエハを損傷することがない
半導体ウエハステージの実現を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本考案の半導体ウエハス
テージは上記問題点を解決するため、上下移動ピンの先
端を弾性があり軟らかいゴム部材とする。すなわち本考
案は、半導体ウエハが載置される載置面、載置された半
導体ウエハを載置面に吸着して固定する真空吸着手段、
及び先端が載置面を含む範囲内を上下方向に移動可能な
複数の棒を有する上下移動ピンを備え、載置面への半導
体ウエハの設置及び除去を上下移動ピンの移動により行
なうプロービング装置用半導体ウエハステージにおい
て、上下移動ピンの先端には弾性ゴム部材が設けられて
いることを特徴とする。
【0010】
【作用】半導体ウエハを押し上げる上下移動ピンの先端
が弾性ゴム部材であるため、半導体ウエハに瞬間的及び
局部的に力が加わることがなくなるため損傷しなくな
る。
【0011】
【実施例】本考案の半導体ウエハステージの実施例を図
1に示す。図において(a)が上面図であり、(b)は
上面図のAAの線での側断面である。載置面1は高精度
な平面度を有する面であり、円形の二つの溝2が設けら
れている。この二つの溝2は内部で連絡されており、可
撓性のあるホース71で真空ポンプ7につながってい
る。載置面1に半導体ウエハが載置された状態で、真空
ポンプ7により溝2内の空気圧を低下させることによ
り、半導体ウエハは固定される。半導体ウエハが歪まな
いように溝2はできるだけ細いことが望ましく、溝の数
を増加させて所定の固定する力を得ることが望ましい。
【0012】載置面1には穴4が設けられており、この
穴の内部に上下移動ピン3が収容されている。三本の上
下移動ピンは下の部分で連結されており、エアシリンダ
5により上下方向に移動可能である。エアシリンダ5の
一方の上室は大気に開放されており、下室は可撓性のあ
るホース61で空気圧ポンプ6につながっている。この
空気圧ポンプ6によりエアシリンダ5の下室の空気圧を
高めることで上下移動ピン3が上方へ移動し、逆に室内
と同一の空気圧とすることで下方へ移動する。もっとも
下方に移動した場合には、上下移動ピン3の先端は載置
面よりも下に移動する。
【0013】図1に示した半導体ウエハステージはXY
Z移動台に取り付けられており、三軸方向に平行移動可
能である。従って真空ポンプ7及び空気圧ポンプ6から
の空気圧の供給は可撓性のあるホース71及び61で行
なう必要がある。本実施例では平行移動ピン3の駆動に
はエアシリンダを利用しているが、モータ等を用いても
良い。
【0014】本実施例における上下移動ピン3の先端部
を図2に示す。図2の(a)は金属製のピン9にゴム部
材8を一体成型した場合の断面を示す。(b)及び
(c)は別に製作したゴム部材8をピン9の先端に嵌め
込む場合を示す図であり、嵌め込んだ後に外れないよう
な構造になっている。ゴム部材8を使用した場合、ウエ
ハ15との摩擦力も増加するため、ウエハ15を上下移
動する場合もずれることがなくなり、この点でも利点が
ある。
【0015】
【考案の効果】本考案により、半導体ウエハステージに
載置した半導体ウエハを検査終了後にステージより上昇
させる場合に、ウエハを損傷することがなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の半導体ウエハステージの実施例を示す
図である。
【図2】上下移動ピン先端のゴム部材の実施例を示す図
である。
【図3】プロービング装置でのウエハの移動の様子を示
す図である。
【図4】従来の半導体ウエハステージを示す図である。
【符号の説明】
1…半導体ウエハの載置面 2…真空圧用溝 3…上下移動ピン 4…ピン穴 5…エアシリンダ 6…空気圧ポンプ 7…真空ポンプ 8…ゴム部材 10…半導体ウエハステージ 11…プロービング装置 13…搬送装置 15…半導体ウエハ

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハが載置される載置面、載置
    された半導体ウエハを載置面に吸着して固定する真空吸
    着手段、及び先端が前記載置面を含む範囲内を上下方向
    に移動可能な複数の棒を有する3本の上下移動ピンを備
    え、前記載置面への半導体ウエハの設置及び除去を前記
    上下移動ピンの移動により行なうプロービング装置用半
    導体ウエハステージにおいて、 前記上下移動ピンの先端には弾性部材が設けられてお
    り、該弾性部材は交換可能であることを特徴とするプロ
    ービング装置用半導体ウエハステージ。
JP1992003762U 1992-02-04 1992-02-04 プロービング装置用半導体ウエハステージ Expired - Fee Related JP2584997Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1992003762U JP2584997Y2 (ja) 1992-02-04 1992-02-04 プロービング装置用半導体ウエハステージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1992003762U JP2584997Y2 (ja) 1992-02-04 1992-02-04 プロービング装置用半導体ウエハステージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0566989U JPH0566989U (ja) 1993-09-03
JP2584997Y2 true JP2584997Y2 (ja) 1998-11-11

Family

ID=11566189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1992003762U Expired - Fee Related JP2584997Y2 (ja) 1992-02-04 1992-02-04 プロービング装置用半導体ウエハステージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2584997Y2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101087633B1 (ko) * 2002-11-15 2011-11-30 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 기판처리장치 및 기판처리방법
JP4629624B2 (ja) * 2006-07-06 2011-02-09 芝浦メカトロニクス株式会社 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法
JP6135113B2 (ja) * 2012-12-12 2017-05-31 株式会社ニコン 基板貼合装置、基板貼合方法および基板貼合プログラム
JP6390465B2 (ja) * 2015-02-26 2018-09-19 株式会社東京精密 プローバ及びウェーハ剥離方法
JP6548057B2 (ja) * 2018-08-22 2019-07-24 株式会社東京精密 プローバ及びウェーハ剥離方法
KR102651374B1 (ko) * 2021-02-01 2024-03-26 가부시키가이샤 아마야 리프트 핀, 반도체 제조 장치 및 리프트 핀 제조 방법
KR20230155571A (ko) * 2022-01-18 2023-11-10 야마하 로보틱스 홀딩스 가부시키가이샤 피가공물 홀딩 시스템 및 피가공물 홀딩 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4979477A (ja) * 1972-12-06 1974-07-31
JPH0632685Y2 (ja) * 1986-01-20 1994-08-24 日本電気株式会社 コレツト
JPH0626231B2 (ja) * 1987-06-10 1994-04-06 東京エレクトロン株式会社 載置体機構
JP2691299B2 (ja) * 1989-06-12 1997-12-17 株式会社ニコン 基板ホルダ

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0566989U (ja) 1993-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100295376B1 (ko) 수직평면에유지도킹된집적회로내장웨이퍼용소형인터페이스를갖춘프로버및테스터
US5404111A (en) Probe apparatus with a swinging holder for an object of examination
CA1044379A (en) Wafer transfer device
KR101897638B1 (ko) 반도체 소자의 전기적 특성 자동 측정용 고정밀 테스트 장치
US6259261B1 (en) Method and apparatus for electrically testing semiconductor devices fabricated on a wafer
KR100674440B1 (ko) 프로브 카드 제조 방법 및 장치
JPH0559841U (ja) プロービング装置及び半導体ウエハ検査システム
JP2584997Y2 (ja) プロービング装置用半導体ウエハステージ
WO2023135889A1 (ja) プローブカードおよび検査システム
US5065495A (en) Method for holding a plate-like member
JP4037726B2 (ja) 真空プローブ装置及び真空プローブ方法
JP6531344B2 (ja) プローブ装置
US10782341B2 (en) Semiconductor device handler with a floating clamp
US11703524B2 (en) Probing system for discrete wafer
JPH0373551A (ja) チップトレイ
JP7296835B2 (ja) ウェーハの処理方法、及び、チップ測定装置
JP2002181887A (ja) 電子部品試験装置
JPS635542A (ja) 半導体ウエハプロ−バ
JPH0541423A (ja) プローブ装置
JPH06230061A (ja) 回路基板検査機の基板矯正方法
JP2584546Y2 (ja) 圧力素子測定用圧力印加ステージ
CN218333735U (zh) 一种承载装置、承载盘以及检测设备
JPH10229107A (ja) 半導体解析装置
KR20190031357A (ko) 웨이퍼 프로버의 웨이퍼 푸셔 장치 및 그 제어 방법
JP2602853Y2 (ja) Ic測定選別装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees