JP2584177Y2 - 薄膜気相成長装置 - Google Patents
薄膜気相成長装置Info
- Publication number
- JP2584177Y2 JP2584177Y2 JP6771793U JP6771793U JP2584177Y2 JP 2584177 Y2 JP2584177 Y2 JP 2584177Y2 JP 6771793 U JP6771793 U JP 6771793U JP 6771793 U JP6771793 U JP 6771793U JP 2584177 Y2 JP2584177 Y2 JP 2584177Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flange
- inner tube
- gas
- thin film
- concave portion
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- Expired - Lifetime
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、薄膜気相成長装置に
おける内管取付構造に関する。
おける内管取付構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来例に係る縦型気相成長装置の
概略断面図であり、１は処理室４を形成するリアクタ、
２は中央部にガス導入口５を設けるとともに、その内側
に凹部２ａを形成したガス導入フランジ、３は原料ガス
を案内する内管である。
概略断面図であり、１は処理室４を形成するリアクタ、
２は中央部にガス導入口５を設けるとともに、その内側
に凹部２ａを形成したガス導入フランジ、３は原料ガス
を案内する内管である。
【０００３】ガス導入口５から導入された原料ガスは、
内管３を通って、サセプタ６上に載置された試料７の表
面に達し、熱分解して薄膜を堆積する。ここで内管３
は、原料ガスを効率よく試料７上に導入するとともに、
導入された原料ガスがリアクタ１の内壁に付着して、内
壁が汚染されるを防止している。その結果、通常は、よ
り容易に取り外すことができる内管３の洗浄だけで済ま
すことができる。
内管３を通って、サセプタ６上に載置された試料７の表
面に達し、熱分解して薄膜を堆積する。ここで内管３
は、原料ガスを効率よく試料７上に導入するとともに、
導入された原料ガスがリアクタ１の内壁に付着して、内
壁が汚染されるを防止している。その結果、通常は、よ
り容易に取り外すことができる内管３の洗浄だけで済ま
すことができる。
【０００４】この内管３は、円筒形または円錐形でその
上部にフランジ部３ａが形成されており、フランジ部３
ａの下端面３ｂにスペーサー８を介し、内管取付金具９
を用いて、ボルト１０で締め付けてガス導入フランジ２
に取り付けられている。前記フランジ３ａの上端面３ｃ
と凹部２ａの天井２ｂとの間にはＯリング１１が挿入さ
れ、この間の気密を保持するとともに、石英製の内管３
が金属製のガス導入フランジ２に直接接触して破損する
のを防止している。
上部にフランジ部３ａが形成されており、フランジ部３
ａの下端面３ｂにスペーサー８を介し、内管取付金具９
を用いて、ボルト１０で締め付けてガス導入フランジ２
に取り付けられている。前記フランジ３ａの上端面３ｃ
と凹部２ａの天井２ｂとの間にはＯリング１１が挿入さ
れ、この間の気密を保持するとともに、石英製の内管３
が金属製のガス導入フランジ２に直接接触して破損する
のを防止している。
【０００５】リアクタ１とガス導入フランジ２とは、そ
の接面にＯリング１２を挿入して処理室４内の気密を保
持し、リアクタ１のフランジ部１ａをリアクタ取付金具
１３で押さえ、ボルト１４で締め付けて固定されてい
る。
の接面にＯリング１２を挿入して処理室４内の気密を保
持し、リアクタ１のフランジ部１ａをリアクタ取付金具
１３で押さえ、ボルト１４で締め付けて固定されてい
る。
【０００６】サセプタ６は回転軸１５によって支持さ
れ、図示しない駆動源により中心線の回りに回転でき、
しかも上下に移動できるように構成されている。
れ、図示しない駆動源により中心線の回りに回転でき、
しかも上下に移動できるように構成されている。
【０００７】なお、図中１６は回転軸１５の真空シール
部であり、１７は導入した原料ガスを排出する排出口で
ある。
部であり、１７は導入した原料ガスを排出する排出口で
ある。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】上述のような薄膜気相
成長装置では、内管３がＯリング１１を介してガス導入
フランジ２に接しているため、ボルト１０の締め具合に
よってＯリング１１の潰し量が変化し、内管３が傾いて
取り付けられる恐れがある。内管３が傾くと、ガスの流
れる方向（流速、流量）が変化し、試料７の表面に堆積
する薄膜の膜厚が不均一になるという不都合が生じる。
成長装置では、内管３がＯリング１１を介してガス導入
フランジ２に接しているため、ボルト１０の締め具合に
よってＯリング１１の潰し量が変化し、内管３が傾いて
取り付けられる恐れがある。内管３が傾くと、ガスの流
れる方向（流速、流量）が変化し、試料７の表面に堆積
する薄膜の膜厚が不均一になるという不都合が生じる。
【０００９】また、そのような不都合を回避するために
は、ボルト１４を締め付ける際にトルク管理が必要とな
り、内管３の取付に時間がかかるという弊害がある。
は、ボルト１４を締め付ける際にトルク管理が必要とな
り、内管３の取付に時間がかかるという弊害がある。
【００１０】この考案は、簡単に再現性のある内管の取
付構造を提供することが目的である。
付構造を提供することが目的である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この考案の薄膜気相成長
装置は、内管の上部に設けられたフランジ部の外側面
と、ガス導入フランジの凹部の内側面との間にＯリング
を設け、前記内管フランジ部の上端面とガス導入フラン
ジの凹部の天井との間に硬質性の上側スペーサーを介在
するとともに、前記内管フランジ部の下端面に硬質性の
下側スペーサーを介し、内管取付金具で下方から押さえ
て、前記内管をガス導入フランジに取り付けてなること
を特徴とする。
装置は、内管の上部に設けられたフランジ部の外側面
と、ガス導入フランジの凹部の内側面との間にＯリング
を設け、前記内管フランジ部の上端面とガス導入フラン
ジの凹部の天井との間に硬質性の上側スペーサーを介在
するとともに、前記内管フランジ部の下端面に硬質性の
下側スペーサーを介し、内管取付金具で下方から押さえ
て、前記内管をガス導入フランジに取り付けてなること
を特徴とする。
【００１２】
【作用】内管のガス導入フランジへの取付状態は、硬質
性の上側スペーサーと下側スペーサーによって定めら
れ、Ｏリングの潰し量の変化による影響を受けなくな
る。よって、特別にボルトのトルク管理を行わなくて
も、通常の締め付け作業を行うだけで、常に決まった状
態で内管を取り付けることができる。
性の上側スペーサーと下側スペーサーによって定めら
れ、Ｏリングの潰し量の変化による影響を受けなくな
る。よって、特別にボルトのトルク管理を行わなくて
も、通常の締め付け作業を行うだけで、常に決まった状
態で内管を取り付けることができる。
【００１３】
【実施例】以下、この考案の一実施例に係る薄膜気相成
長装置を図１に示す概略断面図に基ずいて説明する。な
お、図１において図２と同じ符号を附した部分は、同一
または対応する部分を示す。
長装置を図１に示す概略断面図に基ずいて説明する。な
お、図１において図２と同じ符号を附した部分は、同一
または対応する部分を示す。
【００１４】図１は、円筒形の内管３を設けた薄膜気相
成長装置を示している。中央部にガス導入口５を設けた
ガス導入フランジ２は、金属、例えばステンレス製で、
ガス導入口５の内側には内管３を取り付けるための凹部
２ａが設けられている。
成長装置を示している。中央部にガス導入口５を設けた
ガス導入フランジ２は、金属、例えばステンレス製で、
ガス導入口５の内側には内管３を取り付けるための凹部
２ａが設けられている。
【００１５】上側スペーサー１８は、硬質性樹脂例えば
フッ素樹脂であるポリテトフロロエチレンや、ポリイミ
ド樹脂を主成分とするベスペル（デュポン社：登録商
標）等からなり、断面逆Ｌ字型に形成され、内管３のフ
ランジ部３ａの上側の一部を被装するように設けられて
いる。したがって、その上片部１８ａは、ガス導入フラ
ンジ２の凹部２ａの天井２ｂと内管３のフランジ部３ａ
の上端面３ｃとの間に介在されている。下側スペーサー
１９は断面Ｌ字型で、上側スペーサー１８と同じ部材で
形成され、同じく内管３のフランジ部３ａの下側の一部
を被装するように設けられている。したがって、内管３
は、そのフランジ部３ａの下端面３ｂ側に、前記下側ス
ペーサー１９の下片部１９ａを介して、内管取付金具９
を用いてボルト１０により下方から押さえて、前記ガス
導入フランジ２に取り付けられている。
フッ素樹脂であるポリテトフロロエチレンや、ポリイミ
ド樹脂を主成分とするベスペル（デュポン社：登録商
標）等からなり、断面逆Ｌ字型に形成され、内管３のフ
ランジ部３ａの上側の一部を被装するように設けられて
いる。したがって、その上片部１８ａは、ガス導入フラ
ンジ２の凹部２ａの天井２ｂと内管３のフランジ部３ａ
の上端面３ｃとの間に介在されている。下側スペーサー
１９は断面Ｌ字型で、上側スペーサー１８と同じ部材で
形成され、同じく内管３のフランジ部３ａの下側の一部
を被装するように設けられている。したがって、内管３
は、そのフランジ部３ａの下端面３ｂ側に、前記下側ス
ペーサー１９の下片部１９ａを介して、内管取付金具９
を用いてボルト１０により下方から押さえて、前記ガス
導入フランジ２に取り付けられている。
【００１６】Ｏリング１１は、ガス導入フランジ２の凹
部２ａの内側面２ｃと内管フランジ部３ａの外側面３ｄ
との間に設けられ、上側スペーサー１８の側片部１８ｂ
と下側スペーサー１９の側片部１９ｂとで潰されること
により、ガス導入フランジ２の凹部２ａの内側面２ｃと
内管フランジ部３ａの外側面３ｄに密着してこの間の気
密性を保持し、原料ガスが内管３外に流れるのを防止し
ている。
部２ａの内側面２ｃと内管フランジ部３ａの外側面３ｄ
との間に設けられ、上側スペーサー１８の側片部１８ｂ
と下側スペーサー１９の側片部１９ｂとで潰されること
により、ガス導入フランジ２の凹部２ａの内側面２ｃと
内管フランジ部３ａの外側面３ｄに密着してこの間の気
密性を保持し、原料ガスが内管３外に流れるのを防止し
ている。
【００１７】前記内管取付金具９は、中心に内管３より
若干の大きい孔を設けたドーナツ状の板で、周囲にボル
ト１０を挿入するための小孔が複数個設けてある。
若干の大きい孔を設けたドーナツ状の板で、周囲にボル
ト１０を挿入するための小孔が複数個設けてある。
【００１８】上記のように、内管３はフランジ部３ａが
両スペーサー１８、１９で被装された状態にあり、その
位置決めがなされ、ガス導入フランジ２の凹部２ａ内で
動く余地がなくなる。すなわち、内管３をガス導入フラ
ンジ２に取り付けるためにボルト１０を締め付けていく
と、内管取付金具９に押さえられた両スペーサー１８、
１９の両側片部１８ｂ、１９ｂによりＯリング１１を潰
すが、最終的には下側スペーサー１９が内管３のフラン
ジ部３ａの下端面３ｂに当たってそれ以上に締め付ける
ことはできなくなる。したがって、内管３がガス導入フ
ランジ２に傾いて取り付けられる恐れがなくなり、ボル
ト締め付けの際のトルク管理が不要になる。
両スペーサー１８、１９で被装された状態にあり、その
位置決めがなされ、ガス導入フランジ２の凹部２ａ内で
動く余地がなくなる。すなわち、内管３をガス導入フラ
ンジ２に取り付けるためにボルト１０を締め付けていく
と、内管取付金具９に押さえられた両スペーサー１８、
１９の両側片部１８ｂ、１９ｂによりＯリング１１を潰
すが、最終的には下側スペーサー１９が内管３のフラン
ジ部３ａの下端面３ｂに当たってそれ以上に締め付ける
ことはできなくなる。したがって、内管３がガス導入フ
ランジ２に傾いて取り付けられる恐れがなくなり、ボル
ト締め付けの際のトルク管理が不要になる。
【００１９】なお、Ｏリング１１の内径を内管フランジ
部３ａの外径より若干小さくし、Ｏリング１１の外径を
ガス導入フランジ２の内径より若干大きくし、Ｏリング
１１の弾性力で内管３のフランジ部３ａに装着すると、
上記実施例のようにＯリング１１を両スペーサー１８、
１９の側片部１８ｂ、１９ｂによって押し潰すことな
く、気密を保持するとともに、内管３が抜け落ちるのを
防止することもでき都合がよい。
部３ａの外径より若干小さくし、Ｏリング１１の外径を
ガス導入フランジ２の内径より若干大きくし、Ｏリング
１１の弾性力で内管３のフランジ部３ａに装着すると、
上記実施例のようにＯリング１１を両スペーサー１８、
１９の側片部１８ｂ、１９ｂによって押し潰すことな
く、気密を保持するとともに、内管３が抜け落ちるのを
防止することもでき都合がよい。
【００２０】また、内管３が末広がりの円錐形状である
場合には、下側スペーサー１９、内管取付金具９を２〜
３個に分割して形成すれば都合がよい。
場合には、下側スペーサー１９、内管取付金具９を２〜
３個に分割して形成すれば都合がよい。
【００２１】
【考案の効果】この考案によれば、内管の取付位置が上
側スペーサーと下側スペーサーとによって定められ、そ
の取付状態に再現性がある。その結果、成長室内のガス
の流れが周方向に対して一定となり、試料の表面に堆積
する膜厚の均一性が向上する。
側スペーサーと下側スペーサーとによって定められ、そ
の取付状態に再現性がある。その結果、成長室内のガス
の流れが周方向に対して一定となり、試料の表面に堆積
する膜厚の均一性が向上する。
【００２２】また、ボルト締め付け時のトルク管理が不
要になり、内管取付にかかる時間が短縮される。
要になり、内管取付にかかる時間が短縮される。
【図面の簡単な説明】
【図１】この考案の一実施例に係る薄膜気相成長装置の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】従来例に係る薄膜気相成長装置の概略断面図で
ある。
ある。
１：リアクタ ２：ガス導入フランジ ２ａ：凹部 ２ｂ：凹部天井 ２ｃ：内側面 ３：内管 ３ａ：フランジ部 ３ｂ：下端面 ３ｃ：上端面 ３ｄ：外側面 ４：処理室 ５：ガス導入口 ９：内管取付金具 １１：Ｏリング １８：上側スペーサー １９：下側スペーサー
Claims (1)
- 【請求項１】処理室を形成するリアクタと、このリアク
タの蓋を兼ねて上部に位置しその中央部にガス導入口を
設けるとともに、このガス導入口の内側に凹部を形成し
たガス導入フランジと、このガス導入フランジの前記凹
部にその一部が挿入され、前記ガス導入口から導入され
た原料ガスを案内する内管とを備えた薄膜気相成長装置
において、 前記内管の上部に設けられたフランジ部の外側面と、ガ
ス導入フランジの凹部の内側面との間にＯリングを設
け、前記内管フランジ部の上端面とガス導入フランジの
凹部の天井との間に硬質性の上側スペーサーを介在する
とともに、前記内管フランジ部の下端面に硬質性の下側
スペーサーを介し、内管取付金具で下方から押さえて、
前記内管をガス導入フランジに取り付けてなることを特
徴とする薄膜気相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6771793U JP2584177Y2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 薄膜気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6771793U JP2584177Y2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 薄膜気相成長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0736439U JPH0736439U (ja) | 1995-07-04 |
| JP2584177Y2 true JP2584177Y2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=13352993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6771793U Expired - Lifetime JP2584177Y2 (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 薄膜気相成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2584177Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6056673B2 (ja) * | 2013-06-14 | 2017-01-11 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス処理装置 |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP6771793U patent/JP2584177Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0736439U (ja) | 1995-07-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070821 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |