JPH0736439U - 薄膜気相成長装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 原料ガスを案内する内管をガス導入フランジ
に取り付ける際に、トルク管理をしなくても再現性のあ
る構造を提供すること。 【構成】 内管３の上部に設けられたフランジ部３ａの
外側面３ｄと、ガス導入フランジ２の凹部２ａの内側面
２ｃとの間にＯリング１１を設け、前記内管フランジ部
３ａの上端面３ｃとガス導入フランジ２の凹部２ａの天
井２ｂとの間に硬質性の上側スペーサー１８を介在する
とともに、前記内管フランジ部３ａの下端面３ｂに硬質
性の下側スペーサー１９を介し、内管取付金具９で下方
から押さえて、前記内管３をガス導入フランジ２に取り
付ける。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、薄膜気相成長装置における内管取付構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】

図２は従来例に係る縦型気相成長装置の概略断面図であり、１は処理室４を形 成するリアクタ、２は中央部にガス導入口５を設けるとともに、その内側に凹部 ２ａを形成したガス導入フランジ、３は原料ガスを案内する内管である。

【０００３】 ガス導入口５から導入された原料ガスは、内管３を通って、サセプタ６上に載 置された試料７の表面に達し、熱分解して薄膜を堆積する。ここで内管３は、原 料ガスを効率よく試料７上に導入するとともに、導入された原料ガスがリアクタ １の内壁に付着して、内壁が汚染されるを防止している。その結果、通常は、よ り容易に取り外すことができる内管３の洗浄だけで済ますことができる。

【０００４】 この内管３は、円筒形または円錐形でその上部にフランジ部３ａが形成されて おり、フランジ部３ａの下端面３ｂにスペーサー８を介し、内管取付金具９を用 いて、ボルト１０で締め付けてガス導入フランジ２に取り付けられている。前記 フランジ３ａの上端面３ｃと凹部２ａの天井２ｂとの間にはＯリング１１が挿入 され、この間の気密を保持するとともに、石英製の内管３が金属製のガス導入フ ランジ２に直接接触して破損するのを防止している。

【０００５】 リアクタ１とガス導入フランジ２とは、その接面にＯリング１２を挿入して処 理室４内の気密を保持し、リアクタ１のフランジ部１ａをリアクタ取付金具１３ で押さえ、ボルト１４で締め付けて固定されている。

【０００６】 サセプタ６は回転軸１５によって支持され、図示しない駆動源により中心線の 回りに回転でき、しかも上下に移動できるように構成されている。

【０００７】 なお、図中１６は回転軸１５の真空シール部であり、１７は導入した原料ガス を排出する排出口である。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

上述のような薄膜気相成長装置では、内管３がＯリング１１を介してガス導入 フランジ２に接しているため、ボルト１０の締め具合によってＯリング１１の潰 し量が変化し、内管３が傾いて取り付けられる恐れがある。内管３が傾くと、ガ スの流れる方向（流速、流量）が変化し、試料７の表面に堆積する薄膜の膜厚が 不均一になるという不都合が生じる。

【０００９】 また、そのような不都合を回避するためには、ボルト１４を締め付ける際にト ルク管理が必要となり、内管３の取付に時間がかかるという弊害がある。

【００１０】 この考案は、簡単に再現性のある内管の取付構造を提供することが目的である 。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

この考案の薄膜気相成長装置は、内管の上部に設けられたフランジ部の外側面 と、ガス導入フランジの凹部の内側面との間にＯリングを設け、前記内管フラン ジ部の上端面とガス導入フランジの凹部の天井との間に硬質性の上側スペーサー を介在するとともに、前記内管フランジ部の下端面に硬質性の下側スペーサーを 介し、内管取付金具で下方から押さえて、前記内管をガス導入フランジに取り付 けてなることを特徴とする。

【００１２】

【作用】

内管のガス導入フランジへの取付状態は、硬質性の上側スペーサーと下側スペ ーサーによって定められ、Ｏリングの潰し量の変化による影響を受けなくなる。 よって、特別にボルトのトルク管理を行わなくても、通常の締め付け作業を行う だけで、常に決まった状態で内管を取り付けることができる。

【００１３】

【実施例】

以下、この考案の一実施例に係る薄膜気相成長装置を図１に示す概略断面図に 基ずいて説明する。なお、図１において図２と同じ符号を附した部分は、同一ま たは対応する部分を示す。

【００１４】 図１は、円筒形の内管３を設けた薄膜気相成長装置を示している。中央部にガ ス導入口５を設けたガス導入フランジ２は、金属、例えばステンレス製で、ガス 導入口５の内側には内管３を取り付けるための凹部２ａが設けられている。

【００１５】 上側スペーサー１８は、硬質性樹脂例えばフッ素樹脂であるポリテトフロロエ チレンや、ポリイミド樹脂を主成分とするベスペル（デュポン社：登録商標）等 からなり、断面逆Ｌ字型に形成され、内管３のフランジ部３ａの上側の一部を被 装するように設けられている。したがって、その上片部１８ａは、ガス導入フラ ンジ２の凹部２ａの天井２ｂと内管３のフランジ部３ａの上端面３ｃとの間に介 在されている。下側スペーサー１９は断面Ｌ字型で、上側スペーサー１８と同じ 部材で形成され、同じく内管３のフランジ部３ａの下側の一部を被装するように 設けられている。したがって、内管３は、そのフランジ部３ａの下端面３ｂ側に 、前記下側スペーサー１９の下片部１９ａを介して、内管取付金具９を用いてボ ルト１０により下方から押さえて、前記ガス導入フランジ２に取り付けられてい る。

【００１６】 Ｏリング１１は、ガス導入フランジ２の凹部２ａの内側面２ｃと内管フランジ 部３ａの外側面３ｄとの間に設けられ、上側スペーサー１８の側片部１８ｂと下 側スペーサー１９の側片部１９ｂとで潰されることにより、ガス導入フランジ２ の凹部２ａの内側面２ｃと内管フランジ部３ａの外側面３ｄに密着してこの間の 気密性を保持し、原料ガスが内管３外に流れるのを防止している。

【００１７】 前記内管取付金具９は、中心に内管３より若干の大きい孔を設けたドーナツ状 の板で、周囲にボルト１０を挿入するための小孔が複数個設けてある。

【００１８】 上記のように、内管３はフランジ部３ａが両スペーサー１８、１９で被装され た状態にあり、その位置決めがなされ、ガス導入フランジ２の凹部２ａ内で動く 余地がなくなる。すなわち、内管３をガス導入フランジ２に取り付けるためにボ ルト１０を締め付けていくと、内管取付金具９に押さえられた両スペーサー１８ 、１９の両側片部１８ｂ、１９ｂによりＯリング１１を潰すが、最終的には下側 スペーサー１９が内管３のフランジ部３ａの下端面３ｂに当たってそれ以上に締 め付けることはできなくなる。したがって、内管３がガス導入フランジ２に傾い て取り付けられる恐れがなくなり、ボルト締め付けの際のトルク管理が不要にな る。

【００１９】 なお、Ｏリング１１の内径を内管フランジ部３ａの外径より若干小さくし、Ｏ リング１１の外径をガス導入フランジ２の内径より若干大きくし、Ｏリング１１ の弾性力で内管３のフランジ部３ａに装着すると、上記実施例のようにＯリング １１を両スペーサー１８、１９の側片部１８ｂ、１９ｂによって押し潰すことな く、気密を保持するとともに、内管３が抜け落ちるのを防止することもでき都合 がよい。

【００２０】 また、内管３が末広がりの円錐形状である場合には、下側スペーサー１９、内 管取付金具９を２〜３個に分割して形成すれば都合がよい。

【００２１】

【考案の効果】

この考案によれば、内管の取付位置が上側スペーサーと下側スペーサーとによ って定められ、その取付状態に再現性がある。その結果、成長室内のガスの流れ が周方向に対して一定となり、試料の表面に堆積する膜厚の均一性が向上する。

【００２２】 また、ボルト締め付け時のトルク管理が不要になり、内管取付にかかる時間が 短縮される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この考案の一実施例に係る薄膜気相成長装置の
概略断面図である。

【図２】従来例に係る薄膜気相成長装置の概略断面図で
ある。

【符号の説明】

１：リアクタ ２：ガス導入フランジ ２ａ：凹部 ２ｂ：凹部天井 ２ｃ：内側面 ３：内管 ３ａ：フランジ部 ３ｂ：下端面 ３ｃ：上端面 ３ｄ：外側面 ４：処理室 ５：ガス導入口 ９：内管取付金具 １１：Ｏリング １８：上側スペーサー １９：下側スペーサー

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】処理室を形成するリアクタと、このリアク
   タの蓋を兼ねて上部に位置しその中央部にガス導入口を
   設けるとともに、このガス導入口の内側に凹部を形成し
   たガス導入フランジと、このガス導入フランジの前記凹
   部にその一部が挿入され、前記ガス導入口から導入され
   た原料ガスを案内する内管とを備えた薄膜気相成長装置
   において、 前記内管の上部に設けられたフランジ部の外側面と、ガ
   ス導入フランジの凹部の内側面との間にＯリングを設
   け、前記内管フランジ部の上端面とガス導入フランジの
   凹部の天井との間に硬質性の上側スペーサーを介在する
   とともに、前記内管フランジ部の下端面に硬質性の下側
   スペーサーを介し、内管取付金具で下方から押さえて、
   前記内管をガス導入フランジに取り付けてなることを特
   徴とする薄膜気相成長装置。