JPH0519352U - マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １バッチ当りの処理数を増やすことによって
生ずる品質のばらつきを解消することを目的とする。 【構成】 ベルジャー内に複数の基板台をガス放出管に
取付けて設置し、上記ガス放出管の管壁に設けた複数の
穴から各基板台に反応ガスを均等に供給できる構成とし
た。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、アプリケータのベルジャー内にマイクロ波を導入し、反応ガス（例 えば、水素と炭化水素の混合ガス、シランと窒素の混合ガスなど）のプラズマを 発生させ、該プラズマの雰囲気中に基板を長時間さらすことで、基板の表面にダ イヤモンドなどの物質を析出させるマイクロ波プラズマＣＶＤ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

図３は従来のこの種のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置の一例の構成を示す。図 において１は左右の両方向からマイクロ波を導入できるアプリケータ、２はアプ リケータ１内に設置した石英製のベルジャー、３は基板台、４は回転軸、６はベ ルジャー汚染防止用の天板、７は円柱の支柱、９は基板である。下段の円盤形状 の基板台３は回転軸４に取付けられており、上段の円盤形状の基板台３とベルジ ャー汚染防止用の天板６は数本の円柱の支柱７によって下段の円盤形状の基板台 ３に固定されていて、下段目の基板台３と一緒に回転する構造になっている。

【０００３】 ベルジャー２内を１０^-5Ｔｏｒｒ程度に排気した後、ベルジャー２内に反応ガ スをベルジャー上部の反応ガス供給口から供給し、管内圧力を１０〜４０Ｔｏｒ ｒ程度に調整する。そして、アプリケータ１を介してベルジャー２内にマイクロ 波を導入し、反応ガスのプラズマを発生させ、このプラズマの雰囲気中に基板９ を長時間さらすと、基板９の表面にダイヤモンドなどの物質が析出する。図に示 す装置は、１回の操作で複数の基板を処理するためにベルジャー２内に複数の基 板台３を配置し、プラズマの発生領域の局在によって生ずる析出物質の膜厚のば らつきを抑えるため、基板台３を回転できる構造とした例である。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

上記のような従来のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置では、ベルジャー上部の反 応ガス供給口から供給される反応ガスは基板台３が複数のため各基板台に均等に は供給されない。そのために、各基板台に載置した基板９の表面に析出する物質 の品質には各基板台によるばらつきが生ずるという問題があった。本考案は上記 の問題を解消することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

本考案のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置は、ベルジャー内に複数の基板台をガ ス放出管に取付けて設置し、上記ガス放出管内に反応ガスを導入するガス導入管 を取付け、反応ガスを上記ガス放出管を経て上記複数の各基板台に均等に供給で きる構成としたものである。

【０００６】

【作用】

上記の構造にすると、ガス放出管の管壁に設ける開口の位置と数及び大きさを 調整することによって、各基板台表面へ供給される反応ガスの分布状態と量を調 整することができる。

【０００７】

【実施例】

図１は本考案の一実施例の構成を示す。図において１，２，３，６，９は図３ の同一符号と同一または相当するものを示し、５は複数の基板台３を取付けたガ ス放出管、８はガス放出管５内に反応ガスを導入するためのガス導入管である。

【０００８】 図１の左右の両方向からマイクロ波を投入できる空胴共振器のアプリケータ１ 内に真空気密構造にされたベルジャー２が設置され、ベルジャー２内に複数の基 板台３をガス導入管５に取付けて設置され、ガス導入管５の管壁に複数の穴１０ が設けられており、回転軸４に取付けられて設置され、基板台３が回転軸４の回 転とともに回転する構造になっている。

【０００９】 ベルジャー２内を１０^-5Ｔｏｒｒ程度に排気した後、ベルジャー２の反応ガス 供給口から反応ガスをガス導入管８を経てガス放出管５の穴１０からベルジャー ２内に供給し、管内圧力を１０〜４０Ｔｏｒｒ程度に調整する。そして、各基板 台を４〜２０r.p.m.程度の回転速度で回転させながら、アプリケータ１内に左右 の両方向からマイクロ波を導入し、ベルジャー２内の反応ガスのプラズマを発生 させ、基板台３に載置した複数の基板９の表面に物質を析出させる。

【００１０】 図２は本考案のマイクロＣＶＤ装置に用いたガス放出管の説明図であり、ガス 放出管５の穴１０の位置と数および大きさを具体的に示す。ガス放出管５の内径 はφ１２ｍｍであり、穴１０はおよそ１／１０として本実施例では、φ１．２ｍ ｍを採用した。各基板台に反応ガスを均等に供給するため、上段の穴数を１４ケ 、下段の穴数を２８ケとした。このような構造をもつ基板台を用いて、一例とし て、ダイヤモンド膜の析出を実施したところ、上段，下段に配置された全ての基 板９表面に析出されるダイヤモンドの品質のばらつきが１〜２％以内に改善され た。

【００１１】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案によれば、ベルジャー内に設置した複数の各基板 台に反応ガスを均一な分布で供給することができ、１バッチ当りの処理数を増や すことによって生ずる品質のばらつきを解消できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例の構成を示す説明図である。

【図２】図１におけるガス放出管の一実施例の構成を示
す説明図である。

【図３】従来のこの種のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置
の一例の構成を示す説明図である。

【符号の説明】

１ アプリケータ ２ ベルジャー ３ 基板台 ５ ガス放出管 ６ 天板 ８ ガス導入管 ９ 基板 １０ 穴

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 アプリケータのベルジャー内に複数の基
   板台を回転軸で回転できる構造に設置し、上記複数の基
   板台に複数の基板を載置し、上記ベルジャー内にマイク
   ロ波を導入し、反応ガスのプラズマを発生させ、上記基
   板台を回転させながら該基板台に載置した複数の基板の
   表面に物質を析出させるマイクロ波プラズマＣＶＤ装置
   において、 ベルジャー内に複数の基板台をガス放出管に取付けて設
   置し、上記ガス放出管内に反応ガスを導入するガス導入
   管を取付け、反応ガスを上記ガス放出管を経て上記複数
   の各基板台に均等に供給できる構成としたことを特徴と
   するマイクロ波プラズマＣＶＤ装置。