JP2838414B2 - ダイヤモンドコーティング装置 - Google Patents
ダイヤモンドコーティング装置Info
- Publication number
- JP2838414B2 JP2838414B2 JP24519889A JP24519889A JP2838414B2 JP 2838414 B2 JP2838414 B2 JP 2838414B2 JP 24519889 A JP24519889 A JP 24519889A JP 24519889 A JP24519889 A JP 24519889A JP 2838414 B2 JP2838414 B2 JP 2838414B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- diamond
- applicator
- plasma
- diamond coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はアプリケータにマイクロ波を投入し、該アプ
リケータ内の石英管内に水素と炭化水素の混合ガスのプ
ラズマを発生させ、該プラズマの雰囲気中に基材例え
ば、ドリル刃のような棒状の形を有するものやセラミッ
クスバイトのような板状の形を有する小片等を長時間さ
らすことで該基材をダイヤモンドコーティングするダイ
ヤモンドコーティング装置に関する。
リケータ内の石英管内に水素と炭化水素の混合ガスのプ
ラズマを発生させ、該プラズマの雰囲気中に基材例え
ば、ドリル刃のような棒状の形を有するものやセラミッ
クスバイトのような板状の形を有する小片等を長時間さ
らすことで該基材をダイヤモンドコーティングするダイ
ヤモンドコーティング装置に関する。
［従来の技術］ 第３図（ａ），（ｂ）は従来のこの種のダイヤモンド
コーティング装置の一例の構造を示す。
コーティング装置の一例の構造を示す。
図において1aは空胴共振器からなるアプリケータ、2a
は石英管、5aはターンテーブル状基材支持台、12は基材
である。以下、基材12としてドリル刃を例におげて説明
する。
は石英管、5aはターンテーブル状基材支持台、12は基材
である。以下、基材12としてドリル刃を例におげて説明
する。
アプリケータア1a内に挿入された石英管2a内にターン
テーブル状基材支持台5aが配置されている。
テーブル状基材支持台5aが配置されている。
石英管2a内を10-5Torr程度に排気した後、石英管2aに
水素と炭化水素の混合ガスを40Torr程度の圧力に充填
し、アプリケータ1aにマイクロ波を投入して、石英管2a
内のガスをプラズマ化する。
水素と炭化水素の混合ガスを40Torr程度の圧力に充填
し、アプリケータ1aにマイクロ波を投入して、石英管2a
内のガスをプラズマ化する。
このプラズマ雰囲気中に基材12を数時間さらすことに
より、基材12をダイヤモンドコーティングする。
より、基材12をダイヤモンドコーティングする。
［発明が解決しようとする課題］ 従来の上記構造の切削工具のダイヤモンドコーティン
グ装置では、基材12を配置できるスペースが直径50mm程
度で、１回の作業でコーティングできる量に限度があ
り、量産の場合は、上記構造の装置を多数設置して、１
回の作業量を増やす構成を採るが、大規模な設備になる
とともに、各装置間で発生するプラズマ状態が異なり、
コーティングされるダイヤモンドの品質にばらつきが生
ずるという問題点があった。
グ装置では、基材12を配置できるスペースが直径50mm程
度で、１回の作業でコーティングできる量に限度があ
り、量産の場合は、上記構造の装置を多数設置して、１
回の作業量を増やす構成を採るが、大規模な設備になる
とともに、各装置間で発生するプラズマ状態が異なり、
コーティングされるダイヤモンドの品質にばらつきが生
ずるという問題点があった。
本発明は上記問題点を解消するためになされたもの
で、１台で１回に多量の切削工具をダイヤモンドコーテ
ィングすることのできる装置を提供することを目的とす
る。
で、１台で１回に多量の切削工具をダイヤモンドコーテ
ィングすることのできる装置を提供することを目的とす
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明のダイヤモンドコーティング装置は、空胴共振
器からなるアプリケータに複数方向からマイクロ波を投
入し、該アプリケータ内の石英管内に水素と炭化水素の
混合ガスのプラズマを発生させ、基材支持台によって支
持された複数の基材を前記プラズマにさらすことで該基
材をダイヤモンドコーティングするダイヤモンドコーテ
ィング装置において、前記基材の被コーティング部が、
前記複数のマイクロ波の投入方向を指向するように、前
記基材支持台を回転させる手段を備えたことを特徴とす
るものである。
器からなるアプリケータに複数方向からマイクロ波を投
入し、該アプリケータ内の石英管内に水素と炭化水素の
混合ガスのプラズマを発生させ、基材支持台によって支
持された複数の基材を前記プラズマにさらすことで該基
材をダイヤモンドコーティングするダイヤモンドコーテ
ィング装置において、前記基材の被コーティング部が、
前記複数のマイクロ波の投入方向を指向するように、前
記基材支持台を回転させる手段を備えたことを特徴とす
るものである。
［実施例］ 第１図（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の一実施例の
構造を示す。
構造を示す。
図において１は双方向からマイクロ波を投入できる構
造の空胴共振器からなるアプリケータ、２は石英管、３
は真空用Ｏリング、４は押え板、５はドラム状の基材支
持第、６は基材支持台取付部、７は冷却水、８は基材支
持台駆動部、９はガス導入部、10は排気口、11は駆動ベ
ルトである。
造の空胴共振器からなるアプリケータ、２は石英管、３
は真空用Ｏリング、４は押え板、５はドラム状の基材支
持第、６は基材支持台取付部、７は冷却水、８は基材支
持台駆動部、９はガス導入部、10は排気口、11は駆動ベ
ルトである。
双方向からマイクロ波を投入できる構造の空胴共振器
からなるアプリケータ１内に石英管２が真空機密構造に
納められており、石英管２内のマイクロ波の進行路の両
側にそれぞれドラム状の基材支持台５の軸がマイクロ波
の投入方向に垂直になる姿勢に取付けられており、それ
ぞれの基材支持台５は、基材支持台駆動部８によって駆
動ベルト11を介して駆動されて回転する。
からなるアプリケータ１内に石英管２が真空機密構造に
納められており、石英管２内のマイクロ波の進行路の両
側にそれぞれドラム状の基材支持台５の軸がマイクロ波
の投入方向に垂直になる姿勢に取付けられており、それ
ぞれの基材支持台５は、基材支持台駆動部８によって駆
動ベルト11を介して駆動されて回転する。
石英管２内を10-5Torr程度に排気した後、ガス導入口
９より水素と炭化水素の混合ガスを導入し、20〜30Torr
の管内圧力に調整する。
９より水素と炭化水素の混合ガスを導入し、20〜30Torr
の管内圧力に調整する。
そして、アプリケータ１内に双方向からマイクロ波を
投入することにより、石英管２内の混合ガスをプラズマ
化する、この時、基材支持台取付部６は水冷され、ドラ
ム状の基材支持台５は基材温度が800〜900℃になるよう
に回転数が調整される。
投入することにより、石英管２内の混合ガスをプラズマ
化する、この時、基材支持台取付部６は水冷され、ドラ
ム状の基材支持台５は基材温度が800〜900℃になるよう
に回転数が調整される。
この状態で数時間、基材12がプラズマの雰囲気中に均
等にさらされることにより、基材12に品質にばらつきの
ないダイヤモンドコーティングがされる。
等にさらされることにより、基材12に品質にばらつきの
ないダイヤモンドコーティングがされる。
なお、上記構造で、ドラム状の基材支持台５に基材を
多数配置する代わりに、シート状の基材を配することに
より、シート状の基材表面に均一にダイヤモンドコーテ
ィングすることもできる。
多数配置する代わりに、シート状の基材を配することに
より、シート状の基材表面に均一にダイヤモンドコーテ
ィングすることもできる。
また、ドラム状の基材支持台５の代りに、ダイヤモン
ドと密着性の良い材料をドラム状または円筒状に加工し
て配置することにより、該材料表面にダイヤモンドコー
ティングを形成し、その後材料を除去することにより、
ダイヤモンドの円筒体をつくることができる。
ドと密着性の良い材料をドラム状または円筒状に加工し
て配置することにより、該材料表面にダイヤモンドコー
ティングを形成し、その後材料を除去することにより、
ダイヤモンドの円筒体をつくることができる。
第２図（ａ），（ｂ）は第１図のドラム状の基材支持
台５の構造を示す。同図において基材12は同図（ａ）の
横線と縦線の交わる各位置に挿入され、同図（ｂ）に一
例を示す配列に支持されるので一度に多数の基材12が均
一な品質でダイヤモンドコーティングすることができ
る。
台５の構造を示す。同図において基材12は同図（ａ）の
横線と縦線の交わる各位置に挿入され、同図（ｂ）に一
例を示す配列に支持されるので一度に多数の基材12が均
一な品質でダイヤモンドコーティングすることができ
る。
［発明の効果］ 以上説明したように、本考案によれば、１台で１回の
作業によって多数の基材を均一な品質にダイヤモンドコ
ーティングすることができ、量産効果を上げることがで
きる。
作業によって多数の基材を均一な品質にダイヤモンドコ
ーティングすることができ、量産効果を上げることがで
きる。
第１図（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の一実施例の構
造を示す説明図、第２図（ａ），（ｂ）は第１図のドラ
ム状の基材支持台の構造を示す説明図、第３図（ａ），
（ｂ）は従来のこの種のダイヤモンドコーティング装置
の一例の構造を示す説明図である。 １……アプリケータ、２……石英管、３……真空用Ｏリ
ング、４……押え板、５……ドラム状の基材支持台、６
……基材支持台取付部、７……冷却水、８……基材支持
台駆動部、９……ガス導入部、10……排気口、11……駆
動ベルト、12……基材。 なお図中同一符号は同一または相当するものを示す。
造を示す説明図、第２図（ａ），（ｂ）は第１図のドラ
ム状の基材支持台の構造を示す説明図、第３図（ａ），
（ｂ）は従来のこの種のダイヤモンドコーティング装置
の一例の構造を示す説明図である。 １……アプリケータ、２……石英管、３……真空用Ｏリ
ング、４……押え板、５……ドラム状の基材支持台、６
……基材支持台取付部、７……冷却水、８……基材支持
台駆動部、９……ガス導入部、10……排気口、11……駆
動ベルト、12……基材。 なお図中同一符号は同一または相当するものを示す。
Claims (1)
- 【請求項１】空胴共振器からなるアプリケータに複数方
向からマイクロ波を投入し、該アプリケータ内の石英管
内に水素と炭化水素の混合ガスのプラズマを発生させ、
基材支持台によって支持された複数の基材を前記プラズ
マにさらすことで該基材をダイヤモンドコーティングす
るダイヤモンドコーティング装置において、 前記基材の被コーティング部が、前記複数のマイクロ波
投入方向を指向するように、前記基材支持台を回転させ
る手段を備えたことを特徴とするダイヤモンドコーティ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24519889A JP2838414B2 (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | ダイヤモンドコーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24519889A JP2838414B2 (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | ダイヤモンドコーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109294A JPH03109294A (ja) | 1991-05-09 |
| JP2838414B2 true JP2838414B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=17130082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24519889A Expired - Fee Related JP2838414B2 (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | ダイヤモンドコーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2838414B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5312288B2 (ja) | 2009-10-27 | 2013-10-09 | ホシデン株式会社 | シールドケース及びこれを備えたコネクタ |
-
1989
- 1989-09-22 JP JP24519889A patent/JP2838414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03109294A (ja) | 1991-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5366555A (en) | Chemical vapor deposition under a single reactor vessel divided into separate reaction regions with its own depositing and exhausting means | |
| JP4578979B2 (ja) | 少なくとも１つの基板の表面を処理する方法および装置 | |
| JP2838414B2 (ja) | ダイヤモンドコーティング装置 | |
| JPS60198822A (ja) | ドライエツチング装置 | |
| JPH03283425A (ja) | マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPH05212275A (ja) | 加熱処理装置 | |
| JPH0377655B2 (ja) | ||
| CN210065981U (zh) | 一种碳化硅单晶生长中的籽晶固定装置 | |
| JPH0519352U (ja) | マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS5918638A (ja) | ドライエツチング装置 | |
| JPH0726379A (ja) | 薄膜の形成方法及びその装置 | |
| JPH03141193A (ja) | ダイヤモンド膜の被覆方法 | |
| JPS63235480A (ja) | マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS61116822A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH084103Y2 (ja) | マイクロ波プラズマ装置 | |
| JPH05299500A (ja) | シリコン基板の切断加工方法 | |
| CN218491841U (zh) | Cvd反应器的晶圆固定机构 | |
| JP3193764B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPH0777198B2 (ja) | プラズマｃｖｄ方法 | |
| JPH0745584A (ja) | ドライエッチング装置及び方法 | |
| JPH0689442B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH09181046A (ja) | 半導体製造方法および装置 | |
| JPH0423823B2 (ja) | ||
| JPS58134431A (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS62248219A (ja) | プラズマｃｖｄ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |