CN218491841U - Cvd反应器的晶圆固定机构 - Google Patents
Cvd反应器的晶圆固定机构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN218491841U CN218491841U CN202221729640.2U CN202221729640U CN218491841U CN 218491841 U CN218491841 U CN 218491841U CN 202221729640 U CN202221729640 U CN 202221729640U CN 218491841 U CN218491841 U CN 218491841U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wafer
- fixedly connected
- reactor body
- motor
- fixing mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了CVD反应器的晶圆固定机构，包括反应器本体，所述反应器本体的内腔设置有加热室和反应室，所述反应室的内腔活动连接有转盘，所述转盘的顶部设置有夹持机构，所述反应器本体的右侧设置有预加热机构，所述夹持机构包括两个支撑杆。本实用新型的有益效果为：本实用新型能够通过设置夹持机构和转盘的配合使用，使用者将晶圆放置在两个夹持板之间，通过夹持板对晶圆进行夹持，在对晶圆进行加工的时候，启动第一电机，通过第一电机带动伸缩杆进行旋转，此时伸缩杆带动夹持板进行旋转，从而达到带动晶圆进行翻转的效果，且在对晶圆进行翻转的同时对转盘进行旋转，从而增加了加工的效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积领域，具体涉及CVD反应器的晶圆固定机构。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法，化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术，化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。
CVD反应器是晶圆沉积常用的一种设备，晶圆通常放置在固定装置上，现有的技术存在的问题是：现有的固定装置结构较为单一，在晶圆放置在固定装置上后，大多只能对晶圆的顶部进行沉积，沉积后需要停止机器，对晶圆进行翻面，较为麻烦，且不便于对晶圆进行预加热，导致加工的效率较慢，增加使用者操作难度。因此，本领域技术人员提供了CVD反应器的晶圆固定机构，以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供CVD反应器的晶圆固定机构，包括反应器本体，所述反应器本体的内腔设置有加热室和反应室，所述反应室的内腔活动连接有转盘，所述转盘的顶部设置有夹持机构，所述反应器本体的右侧设置有预加热机构。
优选的：所述夹持机构包括两个支撑杆，两个支撑杆相对的一侧转动连接有伸缩杆，两个伸缩杆相对的一侧均固定连接有夹持板，所述夹持板的形状为弧形，右侧所述支撑杆的右侧固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端贯穿支撑杆并与伸缩杆固定连接。
优选的：所述伸缩杆的表面套设有弹簧，所述弹簧靠近夹持板的一侧与夹持板固定连接，所述夹持板靠近支撑杆的一侧与支撑杆接触。
优选的：所述反应器本体的左侧固定连接有第二电机，所述第二电机的输出端贯穿至反应室的内腔并固定连接有第一锥齿轮，所述第一锥齿轮的表面啮合连接有第二锥齿轮，所述第二锥齿轮的顶部与转盘固定连接。
优选的：所述反应室的内壁固定连接有固定架，所述固定架的内腔与第二锥齿轮的表面转动连接，所述固定架的顶部与转盘的底部接触。
优选的：所述预加热机构包括放置盒，所述放置盒反应器本体的一侧与反应器本体固定连接，所述放置盒的顶部开设有放置槽，所述放置盒的底部连通有两个连接管，所述放置盒的内壁固定连接有吸风扇。
优选的：所述放置盒的内腔固定连接有隔板，所述隔板的数量为若干个。本实用新型的技术效果和优点：
1、通过设置夹持机构和转盘的配合使用，使用者将晶圆放置在两个夹持板之间，通过夹持板对晶圆进行夹持，在对晶圆进行加工的时候，启动第一电机，通过第一电机带动伸缩杆进行旋转，此时伸缩杆带动夹持板进行旋转，从而达到带动晶圆进行翻转的效果，且在对晶圆进行翻转的同时对转盘进行旋转，从而增加了加工的效率；
2、通过设置预加热机构和隔板的配合使用，使用者将晶圆放置在放置槽的内腔，此时启动吸风扇，通过吸风扇将加热室的热量吸入放置盒的内腔中，此时通过隔板使得热量在放置盒的内腔停留时间变长，通过放置盒中的热量达到对晶圆进行预加热的效果。
附图说明
图1是本申请实施例提供的CVD反应器的晶圆固定机构结构示意图；
图2是本申请实施例提供的CVD反应器的晶圆固定机构中转盘和固定架的结构示意图；
图3是本申请实施例提供的CVD反应器的晶圆固定机构中夹持机构的结构示意图；
图4是本申请实施例提供的CVD反应器的晶圆固定机构中反应器本体的主视剖视图；
图5是本申请实施例提供的CVD反应器的晶圆固定机构放置盒的右视剖视图。
图中：1、反应器本体；2、加热室；3、反应室；4、转盘；5、吸风扇； 6、隔板；7、支撑杆；8、伸缩杆；9、夹持板；10、第一电机；11、弹簧； 12、第二电机；13、第一锥齿轮；14、第二锥齿轮；15、固定架；16、放置盒；17、放置槽；18、连接管。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。本实用新型的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
实施例1
请参阅图1～4，在本实施例中提供CVD反应器的晶圆固定机构，反应器本体1，反应器本体1的内腔设置有加热室2和反应室3，反应室3的内腔活动连接有转盘4，转盘4的顶部设置有夹持机构，反应器本体1的右侧设置有预加热机构夹持机构包括两个支撑杆7，两个支撑杆7相对的一侧转动连接有伸缩杆8，两个伸缩杆8相对的一侧均固定连接有夹持板9，夹持板9的形状为弧形，右侧支撑杆7的右侧固定连接有第一电机10，第一电机10的输出端贯穿支撑杆7并与伸缩杆8固定连接伸缩杆8的表面套设有弹簧11，弹簧11 靠近夹持板9的一侧与夹持板9固定连接，夹持板9靠近支撑杆7的一侧与支撑杆7接触反应器本体1的左侧固定连接有第二电机12，第二电机12的输出端贯穿至反应室3的内腔并固定连接有第一锥齿轮13，第一锥齿轮13的表面啮合连接有第二锥齿轮14，第二锥齿轮14的顶部与转盘4固定连接反应室 3的内壁固定连接有固定架15，固定架15的内腔与第二锥齿轮14的表面转动连接，固定架15的顶部与转盘4的底部接触。
通过设置夹持机构和转盘4的配合使用，使用者将晶圆放置在两个夹持板9之间，通过夹持板9对晶圆进行夹持，在对晶圆进行加工的时候，启动第一电机10，通过第一电机10带动伸缩杆8进行旋转，此时伸缩杆8带动夹持板9进行旋转，从而达到带动晶圆进行翻转的效果，且在对晶圆进行翻转的同时对转盘4进行旋转，从而增加了加工的效率。
实施例2
请参阅图1、图2和图5，在本实施例中，预加热机构包括放置盒16，放置盒16反应器本体1的一侧与反应器本体1固定连接，放置盒16的顶部开设有放置槽17，放置盒16的底部连通有两个连接管18，放置盒16的内壁固定连接有吸风扇5，放置盒16的内腔固定连接有隔板6，隔板6的数量为若干个。
通过设置预加热机构和隔板6的配合使用，使用者将晶圆放置在放置槽 17的内腔，此时启动吸风扇5，通过吸风扇5将加热室2的热量吸入放置盒 16的内腔中，此时通过隔板6使得热量在放置盒16的内腔停留时间变长，通过放置盒16中的热量达到对晶圆进行预加热的效果。
本实用新型的工作原理是：使用者将晶圆放置在两个夹持板9之间，通过夹持板9对晶圆进行夹持，在对晶圆进行加工的时候，启动第一电机10，通过第一电机10带动伸缩杆8进行旋转，此时伸缩杆8带动夹持板9进行旋转，从而达到带动晶圆进行翻转的效果，且在对晶圆进行翻转的同时，启动第二电机12，通过第二电机12带动第一锥齿轮13进行旋转，通过第一锥齿轮13带动第二锥齿轮14进行旋转，从而达到对转盘4进行旋转，从而增加了加工的效率，在对晶圆加工的时候，使用者将待加工的晶圆放置在放置槽 17的内腔，此时启动吸风扇5，通过吸风扇5将加热室2的热量吸入放置盒 16的内腔中，此时通过隔板6使得热量在放置盒16的内腔停留时间变长，通过放置盒16中的热量达到对晶圆进行预加热的效果。
显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域及相关领域的普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本实用新型保护的范围。本实用新型中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法，如无特别说明和限定，均按照本领域的常规手段进行实施。
Claims (7)
1.CVD反应器的晶圆固定机构，包括反应器本体(1)，其特征在于，所述反应器本体(1)的内腔设置有加热室(2)和反应室(3)，所述反应室(3)的内腔活动连接有转盘(4)，所述转盘(4)的顶部设置有夹持机构，所述反应器本体(1)的右侧设置有预加热机构。
2.根据权利要求1所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述夹持机构包括两个支撑杆(7)，两个支撑杆(7)相对的一侧转动连接有伸缩杆(8)，两个伸缩杆(8)相对的一侧均固定连接有夹持板(9)，所述夹持板(9)的形状为弧形，右侧所述支撑杆(7)的右侧固定连接有第一电机(10)，所述第一电机(10)的输出端贯穿支撑杆(7)并与伸缩杆(8)固定连接。
3.根据权利要求2所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述伸缩杆(8)的表面套设有弹簧(11)，所述弹簧(11)靠近夹持板(9)的一侧与夹持板(9)固定连接，所述夹持板(9)靠近支撑杆(7)的一侧与支撑杆(7)接触。
4.根据权利要求1所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述反应器本体(1)的左侧固定连接有第二电机(12)，所述第二电机(12)的输出端贯穿至反应室(3)的内腔并固定连接有第一锥齿轮(13)，所述第一锥齿轮(13)的表面啮合连接有第二锥齿轮(14)，所述第二锥齿轮(14)的顶部与转盘(4)固定连接。
5.根据权利要求4所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述反应室(3)的内壁固定连接有固定架(15)，所述固定架(15)的内腔与第二锥齿轮(14)的表面转动连接，所述固定架(15)的顶部与转盘(4)的底部接触。
6.根据权利要求1所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述预加热机构包括放置盒(16)，所述放置盒(16)反应器本体(1)的一侧与反应器本体(1)固定连接，所述放置盒(16)的顶部开设有放置槽(17)，所述放置盒(16)的底部连通有两个连接管(18)，所述放置盒(16)的内壁固定连接有吸风扇(5)。
7.根据权利要求6所述的CVD反应器的晶圆固定机构，其特征在于，所述放置盒(16)的内腔固定连接有隔板(6)，所述隔板(6)的数量为若干个。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202221729640.2U CN218491841U (zh) | 2022-07-06 | 2022-07-06 | Cvd反应器的晶圆固定机构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202221729640.2U CN218491841U (zh) | 2022-07-06 | 2022-07-06 | Cvd反应器的晶圆固定机构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN218491841U true CN218491841U (zh) | 2023-02-17 |
Family
ID=85185258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202221729640.2U Active CN218491841U (zh) | 2022-07-06 | 2022-07-06 | Cvd反应器的晶圆固定机构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN218491841U (zh) |
-
2022
- 2022-07-06 CN CN202221729640.2U patent/CN218491841U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2024148725A1 (zh) | 一种圆片倾斜旋转的承载装置及圆片清洗干燥方法 | |
| CN218491841U (zh) | Cvd反应器的晶圆固定机构 | |
| CN111088526B (zh) | 一种多片装载的碳化硅外延生长设备 | |
| TW201225208A (en) | Substrate bearing apparatus and substrate processing device using same | |
| CN217228460U (zh) | 一种晶圆物料传输及存储装置 | |
| JP2003203899A (ja) | エピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶基板の製造方法およびその装置 | |
| CN219636353U (zh) | 可调节的吸盘装置和玻璃基板传送机构 | |
| TWI464284B (zh) | 濺鍍裝置及濺鍍方法 | |
| CN219032363U (zh) | 一种多腔体化学气相沉积设备 | |
| CN116988036A (zh) | 一种陶瓷基板真空镀膜机 | |
| TWI468544B (zh) | Substrate transfer and processing system and its equipment | |
| CN210065981U (zh) | 一种碳化硅单晶生长中的籽晶固定装置 | |
| CN210040153U (zh) | 全自动多功能贴片装置 | |
| CN212217625U (zh) | 一种具有多面焊接功能的机器人 | |
| JPH043496Y2 (zh) | ||
| TWI343894B (en) | Apparatus having conveyor and method of transferring substrate using the same | |
| CN217628094U (zh) | 一种微晶玻璃生产用原料熔化装置 | |
| CN210579271U (zh) | 一种碳碳复合材料加热器加热环安装结构 | |
| CN219951200U (zh) | 原子层薄膜沉积进气装置 | |
| CN213363188U (zh) | 一种酒店用床单快速烘干装置 | |
| CN215901806U (zh) | 一种用于生物工程的旋转式试管放置架 | |
| CN116835301A (zh) | 一种应用于石墨片卡点装卸机的自动上下料机构 | |
| JP3072219B2 (ja) | 化学気相成長方法及びその装置 | |
| CN212791652U (zh) | 一种大面积均匀涂覆匀胶机 | |
| CN221505512U (zh) | 一种便于均匀受热的烘烤装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |