JP2579766B2 - 光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法 - Google Patents
光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、一般式（Ｉ） （式中、Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜15のアルキル基
またはアルコキシル基を、Ｒは水素原子または低級アシ
ル基を、※印は不斉炭素であることを示す） で示される光学活性なビフェニル誘導体およびその製法
に関する。
またはアルコキシル基を、Ｒは水素原子または低級アシ
ル基を、※印は不斉炭素であることを示す） で示される光学活性なビフェニル誘導体およびその製法
に関する。
〈従来の技術〉 前記一般式（Ｉ）で示される光学活性なビフェニル誘
導体は、文献未記載の新規化合物であり、従来より、そ
の製法については勿論のこと、化合物としての有用性等
についても全く知られていない。
導体は、文献未記載の新規化合物であり、従来より、そ
の製法については勿論のこと、化合物としての有用性等
についても全く知られていない。
〈発明が解決すべき問題点〉 前記一般式（Ｉ）で示される光学活性なビフェニル誘
導体は、医薬、農薬等の中間体として、特に有機電子材
料、とりわけ液晶化合物の中間体として非常に重要であ
る。
導体は、医薬、農薬等の中間体として、特に有機電子材
料、とりわけ液晶化合物の中間体として非常に重要であ
る。
たとえば、該一般式（Ｉ）において置換基Ｘがアルキ
ル基またはアルコキシル基であって、Ｒが水素原子であ
る場合にはこれをエーテル化することにより、またＲが
低級アシル基である場合にはこれを加水分解して水素原
子としたのち、あるいはＸがハロゲン原子である場合に
はこれをシアノ基またはカルボキシル基に変換せしめた
のち、これらをエーテル化することにより液晶化合物へ
導くことができる。
ル基またはアルコキシル基であって、Ｒが水素原子であ
る場合にはこれをエーテル化することにより、またＲが
低級アシル基である場合にはこれを加水分解して水素原
子としたのち、あるいはＸがハロゲン原子である場合に
はこれをシアノ基またはカルボキシル基に変換せしめた
のち、これらをエーテル化することにより液晶化合物へ
導くことができる。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、このような新規にして、かつ有用な前記一
般式（Ｉ）で示される光学活性なビフェニル誘導体を提
供するものである。
般式（Ｉ）で示される光学活性なビフェニル誘導体を提
供するものである。
かかる一般式（Ｉ）で示される光学活性なビフェニル
誘導体は、一般式（II） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わし、 Ｒ′は低級アルキル基を示す。） で示されるdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェ
ニル類にエステラーゼを作用させて不斉加水分解するこ
とにより、光学純度よく、安価にかつ容易に製造するこ
とができる。
誘導体は、一般式（II） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わし、 Ｒ′は低級アルキル基を示す。） で示されるdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェ
ニル類にエステラーゼを作用させて不斉加水分解するこ
とにより、光学純度よく、安価にかつ容易に製造するこ
とができる。
この反応において、原料となる一般式（II）で示され
るdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェニル類
は、たとえば次式に示されるように、ビフェニル類
（Ｖ）をアセチル化して得られる４−アセチルビフェニ
ル類（IV）を還元試剤たとえば水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム
等の金属水素化物を用いて還元し、さらに塩基の存在
下、無水酢酸または塩化アセチルと反応させることによ
り容易に製造することができる。
るdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェニル類
は、たとえば次式に示されるように、ビフェニル類
（Ｖ）をアセチル化して得られる４−アセチルビフェニ
ル類（IV）を還元試剤たとえば水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム
等の金属水素化物を用いて還元し、さらに塩基の存在
下、無水酢酸または塩化アセチルと反応させることによ
り容易に製造することができる。
かかるdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェニ
ル類としては、たとえば以下の化合物が挙げられる。
ル類としては、たとえば以下の化合物が挙げられる。
４−（１−アセトキシエチル）−４′−フルオロビフ
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−クロロ
ビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ブ
ロモビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ヨードビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−メチルビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−エチルビフェニル、４−（１−アセトキシ
エチル）−４′−プロピルビフェニル、４−（１−アセ
トキシエチル）−４′−ブチルビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−ペンチルビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ヘキシルビフェニ
ル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ヘプチルビ
フェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−オク
チルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ノニルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−デシルビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−ウンデシルビフェニル、４−（１−アセト
キシエチル）−４′−ドデシルビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−トリデシルビフェニル、４
−（１−アセトキシエチル）−４′−テトラデシルビフ
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ペンタ
デシルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−メトキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−エトキシビフェニル、４−（１−アセトキ
シエチル）−４′−プロポキシビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−ブトキシビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ベンチルオキシビフ
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ヘキシ
ルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−ヘプチルオキシビフェニル、４−（１−アセトキ
シエチル）−４′−オクチルオキシビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ノニルオキシビフェ
ニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−デシルオ
キシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ウンデシルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシ
エチル）−４′−ドデシルオキシビフェニル、４−（１
−アセトキシエチル）−４′−トリデシルオキシビフェ
ニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−テトラデ
シルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）
−４′−ペンタデシルオキシビフェニル。
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−クロロ
ビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ブ
ロモビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ヨードビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−メチルビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−エチルビフェニル、４−（１−アセトキシ
エチル）−４′−プロピルビフェニル、４−（１−アセ
トキシエチル）−４′−ブチルビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−ペンチルビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ヘキシルビフェニ
ル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ヘプチルビ
フェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−オク
チルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ノニルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−デシルビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−ウンデシルビフェニル、４−（１−アセト
キシエチル）−４′−ドデシルビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−トリデシルビフェニル、４
−（１−アセトキシエチル）−４′−テトラデシルビフ
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ペンタ
デシルビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−メトキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチ
ル）−４′−エトキシビフェニル、４−（１−アセトキ
シエチル）−４′−プロポキシビフェニル、４−（１−
アセトキシエチル）−４′−ブトキシビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ベンチルオキシビフ
ェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−ヘキシ
ルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−
４′−ヘプチルオキシビフェニル、４−（１−アセトキ
シエチル）−４′−オクチルオキシビフェニル、４−
（１−アセトキシエチル）−４′−ノニルオキシビフェ
ニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−デシルオ
キシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′
−ウンデシルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシ
エチル）−４′−ドデシルオキシビフェニル、４−（１
−アセトキシエチル）−４′−トリデシルオキシビフェ
ニル、４−（１−アセトキシエチル）−４′−テトラデ
シルオキシビフェニル、４−（１−アセトキシエチル）
−４′−ペンタデシルオキシビフェニル。
前述の無水酢酸または塩化アセチルを、無水プロピオ
ン酸、塩化プロピオニル、無水ブタン酸等に置き換える
ことにより、上記例示化合物のアセトキシ基をプロピオ
ニルオキシ基またはブタノイルオキシ基に置換した化合
物が得られる。
ン酸、塩化プロピオニル、無水ブタン酸等に置き換える
ことにより、上記例示化合物のアセトキシ基をプロピオ
ニルオキシ基またはブタノイルオキシ基に置換した化合
物が得られる。
dl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェニル類の
不斉加水分解は、微生物が生産するエステラーゼあるい
は動植物由来のエステラーゼを作用させて、原料dl−４
−（１−アシルオキシエチル）ビフェニル類の光学活性
体のいずれか一方を加水分解することにより行われる。
不斉加水分解は、微生物が生産するエステラーゼあるい
は動植物由来のエステラーゼを作用させて、原料dl−４
−（１−アシルオキシエチル）ビフェニル類の光学活性
体のいずれか一方を加水分解することにより行われる。
尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む
広義のエステラーゼを意味する。
広義のエステラーゼを意味する。
この反応で用いられるエステラーゼを生産する微生物
としては、dl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェ
ニル類を不斉加水分解する能力を有するエステラーゼを
生産する微生物であればよく、特に限定されるものでは
ない。
としては、dl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェ
ニル類を不斉加水分解する能力を有するエステラーゼを
生産する微生物であればよく、特に限定されるものでは
ない。
このような微生物の具体例としては、たとえばエンテ
ロバクター属、アルスロバクター属、ブレビバクテリウ
ム属、シユードモナス属、アルカリゲネス属、ミクロコ
ッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム
属、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル
ス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サッカロミセ
ス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス属、トルロプシ
ス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、
リゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、ア
クチノムコール属、ノカルディア属、ストレプトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属に属する微生物
が例示される。
ロバクター属、アルスロバクター属、ブレビバクテリウ
ム属、シユードモナス属、アルカリゲネス属、ミクロコ
ッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム
属、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル
ス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サッカロミセ
ス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス属、トルロプシ
ス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、
リゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、ア
クチノムコール属、ノカルディア属、ストレプトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属に属する微生物
が例示される。
上記微生物の培養は、通常常法に従って液体培養を行
なうことにより培養液を得る。
なうことにより培養液を得る。
たとえば、滅菌した液体培地〔かび類、酵母類用には
麦芽エキス・酵母エキス培地（水１にペプトン5g、グ
ルコース10g、麦芽エキス3g、酵母エキス3gを溶解し、p
H6.5とする）、細菌用には加糖ブイヨン培地（水１に
グルコース10g、ペプトン5g、肉エキス5g、NaCl3gを溶
解し、pH7.2とする）〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で１〜３日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
麦芽エキス・酵母エキス培地（水１にペプトン5g、グ
ルコース10g、麦芽エキス3g、酵母エキス3gを溶解し、p
H6.5とする）、細菌用には加糖ブイヨン培地（水１に
グルコース10g、ペプトン5g、肉エキス5g、NaCl3gを溶
解し、pH7.2とする）〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で１〜３日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかには
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼＰ（天野製薬
製）〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP（天
野製薬製）〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼMAP
（天野製薬製）〕、キャンディダ・シリンドラッセのリ
パーゼ〔リパーゼMY（名糖産業製）〕、アルカリゲネス
属のリパーゼ〔リパーゼPL（名糖産業製）〕、アクロモ
バクター属のリパーゼ〔リパーゼAL（名糖産業製）〕、
アルスロバクター属のリパーゼ〔リパーゼ合同BSL（合
同酒精製）〕、クロモバクテリウム属のリパーゼ（東洋
醸造製）、リゾプス・デレマーのリパーゼ〔タリパーゼ
（田辺製薬製）〕、リゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサ
イケン（大阪細菌研究所）〕。
製）〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP（天
野製薬製）〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼMAP
（天野製薬製）〕、キャンディダ・シリンドラッセのリ
パーゼ〔リパーゼMY（名糖産業製）〕、アルカリゲネス
属のリパーゼ〔リパーゼPL（名糖産業製）〕、アクロモ
バクター属のリパーゼ〔リパーゼAL（名糖産業製）〕、
アルスロバクター属のリパーゼ〔リパーゼ合同BSL（合
同酒精製）〕、クロモバクテリウム属のリパーゼ（東洋
醸造製）、リゾプス・デレマーのリパーゼ〔タリパーゼ
（田辺製薬製）〕、リゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサ
イケン（大阪細菌研究所）〕。
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、
これらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを
挙げることができる。
これらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを
挙げることができる。
ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラー
ゼ、Wheat Germエステラーゼ。
ゼ、Wheat Germエステラーゼ。
この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植
物、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態
としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養
液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処理した物な
ど種々の形態で必要に応じて用いることもでき、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。
物、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態
としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養
液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処理した物な
ど種々の形態で必要に応じて用いることもでき、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。
本発明の不斉加水分解反応は、原料dl−４−（１−ア
シルオキシエチル）ビフェニル類と上記酵素もしくは微
生物を通常緩衝液中で激しく攪拌することによって行わ
れる。
シルオキシエチル）ビフェニル類と上記酵素もしくは微
生物を通常緩衝液中で激しく攪拌することによって行わ
れる。
緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、
リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリ
ウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が
用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でない微
生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラーゼで
はpH5〜８が好ましい。濃度は通常0.05〜2M、好ましく
は0.05〜0.5Mの範囲である。
リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリ
ウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が
用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でない微
生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラーゼで
はpH5〜８が好ましい。濃度は通常0.05〜2M、好ましく
は0.05〜0.5Mの範囲である。
反応時間は通常10〜60℃の範囲であり、反応時間は一
般的には10〜70時間の範囲であるが、これに限定される
ことはない。
般的には10〜70時間の範囲であるが、これに限定される
ことはない。
かかる反応により、原料dl−４−（１−アシルオキシ
エチル）ビフェニル類のいずれか一方の光学活性体が加
水分解されて、一般式（Ｉ）における置換基Ｒが水素原
子である光学活性な４−（１−ヒドロキシエチル）ビフ
ェニル類が生成し、一方原料化合物のうちの他方の光学
活性体である光学活性な４−（１−アシルオキシエチ
ル）ビフェニル類は非加水分解物としてそのまま残存す
ることになり、結局、本発明方法においては加水分解生
成物および加水分解残として上記二種のすなわち一般式
（Ｉ）における置換基Ｒが水素原子である光学活性体と
置換基Ｒが低級アシル基である光学活性体が同時に得ら
れることになる。
エチル）ビフェニル類のいずれか一方の光学活性体が加
水分解されて、一般式（Ｉ）における置換基Ｒが水素原
子である光学活性な４−（１−ヒドロキシエチル）ビフ
ェニル類が生成し、一方原料化合物のうちの他方の光学
活性体である光学活性な４−（１−アシルオキシエチ
ル）ビフェニル類は非加水分解物としてそのまま残存す
ることになり、結局、本発明方法においては加水分解生
成物および加水分解残として上記二種のすなわち一般式
（Ｉ）における置換基Ｒが水素原子である光学活性体と
置換基Ｒが低級アシル基である光学活性体が同時に得ら
れることになる。
なおこの不斉加水分解反応で、たとえばトルエン、ク
ロロホルム、四塩化炭素のような非水溶性溶媒を共存さ
せ、水層と非水溶性溶媒の２層系で反応を実施すると極
めて容易に反応が進行する。
ロロホルム、四塩化炭素のような非水溶性溶媒を共存さ
せ、水層と非水溶性溶媒の２層系で反応を実施すると極
めて容易に反応が進行する。
加水分解反応終了後、反応液からの加水分解生成物お
よび加水分解残の分離は、加水分解反応液をたとえばメ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル、
クロロホルム等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶
媒を留去したのちカラムクロマトグラフィーで処理する
等の方法により行われる。
よび加水分解残の分離は、加水分解反応液をたとえばメ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエーテル、
クロロホルム等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶
媒を留去したのちカラムクロマトグラフィーで処理する
等の方法により行われる。
なお、非加水分解物である光学活性な４−（１−アシ
ルオキシエチル）ビフェニル類は必要に応じて化学的に
加水分解もしくは金属水素化物等の還元剤による還元を
行って、先に得たのとは対掌体の４−（１−ヒドロキシ
エチル）ビフェニル類とすることもできる。
ルオキシエチル）ビフェニル類は必要に応じて化学的に
加水分解もしくは金属水素化物等の還元剤による還元を
行って、先に得たのとは対掌体の４−（１−ヒドロキシ
エチル）ビフェニル類とすることもできる。
かかる反応により得られる一般式（Ｉ）で示される光
学活性なビフェニル誘導体としてたとえば以下のものが
挙げられる。
学活性なビフェニル誘導体としてたとえば以下のものが
挙げられる。
４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−フルオロビフ
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−クロロ
ビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ブ
ロモビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ヨードビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−メチルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−エチルビフェニル、４−（１−ヒドロキシ
エチル）−４′−プロピルビフェニル、４−（１−ヒド
ロキシエチル）−４′−ブチルビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−ペンチルビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘキシルビフェニ
ル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘプチルビ
フェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−オク
チルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ノニルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−デシルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−ウンデシルビフェニル、４−（１−ヒドロ
キシエチル）−４′−ドデシルビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−トリデシルビフェニル、４
−（１−ヒドロキシエチル）−４′−テトラデシルビフ
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ペンタ
デシルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−メトキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−エトキシビフェニル、４−（１−ヒドロキ
シエチル）−４′−プロポキシビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−ブトキシビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ペンチルオキシビフ
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘキシ
ルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−ヘプチルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキ
シエチル）−４′−オクチルオキシビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ノニルオキシビフェ
ニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−デシルオ
キシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ウンデシルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシ
エチル）−４′−ドデシルオキシビフェニル、４−（１
−ヒドロキシエチル）−４′−トリデシルオキシビフェ
ニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−テトラデ
シルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）
−４′−ペンタデシルオキシビフェニル、およびこれら
の酢酸エステル。
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−クロロ
ビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ブ
ロモビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ヨードビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−メチルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−エチルビフェニル、４−（１−ヒドロキシ
エチル）−４′−プロピルビフェニル、４−（１−ヒド
ロキシエチル）−４′−ブチルビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−ペンチルビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘキシルビフェニ
ル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘプチルビ
フェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−オク
チルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ノニルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−デシルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−ウンデシルビフェニル、４−（１−ヒドロ
キシエチル）−４′−ドデシルビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−トリデシルビフェニル、４
−（１−ヒドロキシエチル）−４′−テトラデシルビフ
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ペンタ
デシルビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−メトキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４′−エトキシビフェニル、４−（１−ヒドロキ
シエチル）−４′−プロポキシビフェニル、４−（１−
ヒドロキシエチル）−４′−ブトキシビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ペンチルオキシビフ
ェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−ヘキシ
ルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−
４′−ヘプチルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキ
シエチル）−４′−オクチルオキシビフェニル、４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−ノニルオキシビフェ
ニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−デシルオ
キシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′
−ウンデシルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシ
エチル）−４′−ドデシルオキシビフェニル、４−（１
−ヒドロキシエチル）−４′−トリデシルオキシビフェ
ニル、４−（１−ヒドロキシエチル）−４′−テトラデ
シルオキシビフェニル、４−（１−ヒドロキシエチル）
−４′−ペンタデシルオキシビフェニル、およびこれら
の酢酸エステル。
以下、実施例により本発明を説明する。
参考例１ dl−４−（１−アセトキシエチル）−４′−メトキシ
ビフェニルの製造 三ツ口フラスコにエタノール500ml、４−アセチル−
４′−メトキシビフェニル23.96g（0.106mol）および水
素化ホウ素ナトリウム5.60g（0.148mol）を仕込み、50
℃で約２時間加熱攪拌する。反応終了後、減圧下にエタ
ノールを留去し、残渣にジエチルエーテルを加えて抽出
処理する。エーテル層は充分水洗したのち、無水硫酸マ
グネシムで乾燥し、その後溶媒を留去して白色固体を得
る。
ビフェニルの製造 三ツ口フラスコにエタノール500ml、４−アセチル−
４′−メトキシビフェニル23.96g（0.106mol）および水
素化ホウ素ナトリウム5.60g（0.148mol）を仕込み、50
℃で約２時間加熱攪拌する。反応終了後、減圧下にエタ
ノールを留去し、残渣にジエチルエーテルを加えて抽出
処理する。エーテル層は充分水洗したのち、無水硫酸マ
グネシムで乾燥し、その後溶媒を留去して白色固体を得
る。
この白色固体を乾燥ジクロルメタン200mlに溶かし、
ピリジン50mlを加えたのち室温にてアセチルクロリド1
2.5g（0.159mol）のジクロルメタン50ml溶液を滴下す
る。約２時間後、反応液を3N塩酸300ml中に加え、抽出
操作をおこなう。有機層は水、７％炭酸水素ナトリウム
水溶液の順に洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで溶媒を留去する。得られた白色固体をエタノ
ールから再結晶し、dl−４−（１−アセトオキシエチ
ル）−４′−メトキシビフェニル20.36g（収率71％）を
得た。
ピリジン50mlを加えたのち室温にてアセチルクロリド1
2.5g（0.159mol）のジクロルメタン50ml溶液を滴下す
る。約２時間後、反応液を3N塩酸300ml中に加え、抽出
操作をおこなう。有機層は水、７％炭酸水素ナトリウム
水溶液の順に洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで溶媒を留去する。得られた白色固体をエタノ
ールから再結晶し、dl−４−（１−アセトオキシエチ
ル）−４′−メトキシビフェニル20.36g（収率71％）を
得た。
実施例１ dl−４−（１−アセトオキシエチル）−４′−メトキ
シビフェニル6.0g（0.022mol）のクロロホルム10ml溶液
およびリパーゼＰ−30A（天野製薬社製リパーゼ「アマ
ノ」Ｐ）1.0gを0.1Mリン酸緩衝液（pH7）300ml中に加
え、窒素雰囲気下、35℃で29時間激しく攪拌を行って反
応を行う。
シビフェニル6.0g（0.022mol）のクロロホルム10ml溶液
およびリパーゼＰ−30A（天野製薬社製リパーゼ「アマ
ノ」Ｐ）1.0gを0.1Mリン酸緩衝液（pH7）300ml中に加
え、窒素雰囲気下、35℃で29時間激しく攪拌を行って反
応を行う。
反応終了後、反応液を酢酸エチルで抽出処理する。抽
出液を濃縮し、濃縮残渣をクロロホルム−酢酸エチルの
混合溶媒にてカラムクロマト精製して（−）−４−（１
−アセトキシエチル）−４′−メトキシビフェニル3.3g
（収率50％）｛▲〔α〕25 D▼−119.9°（Ｃ＝1,クロロ
ホルム），融点106.5〜107.5℃｝および（＋）−４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−メトキシビフェニル
1.9g（収率43％）｛▲〔α〕25 D▼＋40.1°（Ｃ＝1,ク
ロロホルム），融点132〜133℃｝を得た。
出液を濃縮し、濃縮残渣をクロロホルム−酢酸エチルの
混合溶媒にてカラムクロマト精製して（−）−４−（１
−アセトキシエチル）−４′−メトキシビフェニル3.3g
（収率50％）｛▲〔α〕25 D▼−119.9°（Ｃ＝1,クロロ
ホルム），融点106.5〜107.5℃｝および（＋）−４−
（１−ヒドロキシエチル）−４′−メトキシビフェニル
1.9g（収率43％）｛▲〔α〕25 D▼＋40.1°（Ｃ＝1,ク
ロロホルム），融点132〜133℃｝を得た。
なお光学純度はそれぞれについて（＋）−２−メトキ
シ−２−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸のエステ
ルとしたのち、高速液体クロマトグラフィーによって測
定した。
シ−２−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸のエステ
ルとしたのち、高速液体クロマトグラフィーによって測
定した。
実施例２〜７ 原料として一般式（II）における置換基Ｘが表−１に
示す置換基であるdl−４−（１−アセトキシエチル）ビ
フェニル類を使用し、リパーゼＰ−30Aの使用量および
反応時間を表−１に記載のとおりとする以外は実施例１
に準じて反応、後処理を行い、表−１に示す結果を得
た。
示す置換基であるdl−４−（１−アセトキシエチル）ビ
フェニル類を使用し、リパーゼＰ−30Aの使用量および
反応時間を表−１に記載のとおりとする以外は実施例１
に準じて反応、後処理を行い、表−１に示す結果を得
た。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜15
のアルキル基またはアルコキシル基を示し、Ｒ′は低級
アルキル基を示す。） で示されるdl−４−（１−アシルオキシエチル）ビフェ
ニル類にシュードモナス属のエステラーゼを作用させて
不斉加水分解することを特徴とする一般式 （式中、Ｒは水素原子または低級アシル基を示し、※印
は不斉炭素を示し、Ｘは前記と同じ意味を表わす。） で示される光学活性なビフェニル誘導体の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10572286 | 1986-05-07 | ||
| JP61-105722 | 1986-05-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63107946A JPS63107946A (ja) | 1988-05-12 |
| JP2579766B2 true JP2579766B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=14415214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62109512A Expired - Lifetime JP2579766B2 (ja) | 1986-05-07 | 1987-04-30 | 光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2579766B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0739371B2 (ja) * | 1986-09-17 | 1995-05-01 | 住友化学工業株式会社 | ビフェニル誘導体の製造法 |
| JP4845372B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-12-28 | 広栄化学工業株式会社 | 光学活性２−ヒドロキシエステル化合物の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4980046A (ja) * | 1972-08-17 | 1974-08-02 |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62109512A patent/JP2579766B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4980046A (ja) * | 1972-08-17 | 1974-08-02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63107946A (ja) | 1988-05-12 |
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