JP2576142B2 - スプレー式エッチング方法 - Google Patents
スプレー式エッチング方法Info
- Publication number
- JP2576142B2 JP2576142B2 JP62218327A JP21832787A JP2576142B2 JP 2576142 B2 JP2576142 B2 JP 2576142B2 JP 62218327 A JP62218327 A JP 62218327A JP 21832787 A JP21832787 A JP 21832787A JP 2576142 B2 JP2576142 B2 JP 2576142B2
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- Japan
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- etching
- etched
- spray
- electric field
- etchant
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 本発明は、スプレー式エッチング手段に電界を与える
電界賦与方式に関し、 エッチング速度を無電界の時の速度より早く、しかも
確実なパターンを得ることを目的とし、 一方の電位に接続した上記被エッチング体を搬送装置
上にほぼ水平に保持した状態でその上方からエッチング
液を注ぐと共に、該被エッチング体に注がれて表面に滞
留したエッチング液に対し、その表面張力によって当該
エッチング液と接する程度の間隙を隔てて配置した対向
電極を通じて反対極性の電位を与える構成である。
電界賦与方式に関し、 エッチング速度を無電界の時の速度より早く、しかも
確実なパターンを得ることを目的とし、 一方の電位に接続した上記被エッチング体を搬送装置
上にほぼ水平に保持した状態でその上方からエッチング
液を注ぐと共に、該被エッチング体に注がれて表面に滞
留したエッチング液に対し、その表面張力によって当該
エッチング液と接する程度の間隙を隔てて配置した対向
電極を通じて反対極性の電位を与える構成である。
本発明は、スプレー式エッチング手段に電界を与える
電界賦与方式に関する。
電界賦与方式に関する。
エッチング効果が優れているスプレー式エッチング手
段は、精細なパターンの量産ラインに広く用いられてい
る。特にエッチングしようとする被エッチング体が加工
工程中に移動する連続加工設備（インライン）内のスプ
レー式エッチング手段は、現在の主流にまで発展してい
る。しかし本スプレー式エッチングの通常方式では電界
を併用して効率を上げることは出来ないとされていた。
段は、精細なパターンの量産ラインに広く用いられてい
る。特にエッチングしようとする被エッチング体が加工
工程中に移動する連続加工設備（インライン）内のスプ
レー式エッチング手段は、現在の主流にまで発展してい
る。しかし本スプレー式エッチングの通常方式では電界
を併用して効率を上げることは出来ないとされていた。
もし電界を移動中のエッチング液中に形成できれば、
反応速度を向上させたり、エッチング方向性を持たせた
りする電界を有するエッチングの効果が生かせるので、
スプレー式エッチング手段にも電界を与える工夫をここ
に提案している。
反応速度を向上させたり、エッチング方向性を持たせた
りする電界を有するエッチングの効果が生かせるので、
スプレー式エッチング手段にも電界を与える工夫をここ
に提案している。
一般にエッチング効果をより高めるために、エッチン
グ溶液である電界液に浸した被エッチング体に正の電位
を与え、他方の電極に前記と反対極性の負の電位を印加
して、エッチング効果をより強め得ることは既に良く知
られている。
グ溶液である電界液に浸した被エッチング体に正の電位
を与え、他方の電極に前記と反対極性の負の電位を印加
して、エッチング効果をより強め得ることは既に良く知
られている。
実際に電界を加えエッチングを加速する上述の方法を
エッチングに適用して確認すると、確かにエッチングは
速やかに達成される。しかし現在の生産現場では殆ど各
プロセスが流れ作業であり、それを達成するための、例
えば被エッチング体を移動させながらエッチング液を噴
射するスプレー方式のエッチングで、簡単に電界をかけ
る手段が無いので、電界を印加するスプレー式エッチン
グの方法は使われていない。
エッチングに適用して確認すると、確かにエッチングは
速やかに達成される。しかし現在の生産現場では殆ど各
プロセスが流れ作業であり、それを達成するための、例
えば被エッチング体を移動させながらエッチング液を噴
射するスプレー方式のエッチングで、簡単に電界をかけ
る手段が無いので、電界を印加するスプレー式エッチン
グの方法は使われていない。
たとえば第３図に従来のスプレー式エッチングの模式
図を側面図で示す。
図を側面図で示す。
第３図において０はガラス基板、１は被エッチング
体、２は搬送ローラ、３はスプレーノズル、４はエッチ
ング室である。
体、２は搬送ローラ、３はスプレーノズル、４はエッチ
ング室である。
第３図において、搬送ローラ２の上を搬送されてきた
ガラス基板０上の被エッチング体１は、エッチング室４
に入るとスプレーノズル３からエッチング液が噴射され
る。エッチング液は微粒となって予めエッチングをしな
い部分をマスクで覆った被エッチング体１に当り、所用
箇所にエッチング作用を行いながら該エッチング体１上
を流れて移動し、最後には基板０から流失する。
ガラス基板０上の被エッチング体１は、エッチング室４
に入るとスプレーノズル３からエッチング液が噴射され
る。エッチング液は微粒となって予めエッチングをしな
い部分をマスクで覆った被エッチング体１に当り、所用
箇所にエッチング作用を行いながら該エッチング体１上
を流れて移動し、最後には基板０から流失する。
以上のエッチング動作を行いながら被エッチング体１
を移動して該エッチング室４を通過させると、エッチン
グ液のみでエッチングされた被エッチング体１が取り出
せるようになっていた。
を移動して該エッチング室４を通過させると、エッチン
グ液のみでエッチングされた被エッチング体１が取り出
せるようになっていた。
したがってエッチングの結果を良好に保つためには、
エッチング液を新鮮に保つ該液のエッチング能力を高く
保つことおよび、該液を取り替える周期を早くすること
や、エッチング液の吹きつける強さを強くする等のエッ
チング結果を向上させる対策であったが、現状の方式以
上の特に大きい改良結果は望めなかった。
エッチング液を新鮮に保つ該液のエッチング能力を高く
保つことおよび、該液を取り替える周期を早くすること
や、エッチング液の吹きつける強さを強くする等のエッ
チング結果を向上させる対策であったが、現状の方式以
上の特に大きい改良結果は望めなかった。
以上述べた被エッチング体に粒状のエッチング液を吹
きつけるスプレー式エッチングの得失を挙げると、 新鮮なエッチング液が被エッチング体上を常に行き
わたる。
きつけるスプレー式エッチングの得失を挙げると、 新鮮なエッチング液が被エッチング体上を常に行き
わたる。
エッチング液の更新がほぼ理想的に行われる。
撹拌の手数が省略できる。
エッチング液の濃度を下げても度のエッチング法と
比べて反応性が落ちにくい。
比べて反応性が落ちにくい。
エッチング液温度を下げても他のエッチング法と比
べて反応性が落ちにくい。
べて反応性が落ちにくい。
エッチング残渣の撤去がエッチングと同時にでき
る。
る。
等の利点があり、他方の欠点としては、 電界の併用ができないからエッチング速度が現状以
上に早く上げられない。
上に早く上げられない。
がある。
上記したエッチング法では、新鮮なエッチング液を液
滴を吹きつけるように供給し、被エッチング体表面上を
擦る流動でエッチング効果を促進していたのであった。
この上に電界をも印加して反応をより早めると言うこと
はスプレー式エッチング法では実現不可能として容認さ
れてきた。時代の要請はその不可能を取り除くように要
求してきているけれども、前記薄いエッチング液層間に
電界をかけようとして電極を被エッチング体上に近づけ
ると、被エッチング体１に反りのある場合、被エッチン
グ体１に接触したり、完全に偏心無しではあり得ない搬
送ローラ２の動きによって被エッチング体１も上下に揺
動するのでこれによっても接触の危険があった。したが
って薄くて流動するエッチング液中に常に電圧を印加し
て置くのは不可能と考えられていた。
滴を吹きつけるように供給し、被エッチング体表面上を
擦る流動でエッチング効果を促進していたのであった。
この上に電界をも印加して反応をより早めると言うこと
はスプレー式エッチング法では実現不可能として容認さ
れてきた。時代の要請はその不可能を取り除くように要
求してきているけれども、前記薄いエッチング液層間に
電界をかけようとして電極を被エッチング体上に近づけ
ると、被エッチング体１に反りのある場合、被エッチン
グ体１に接触したり、完全に偏心無しではあり得ない搬
送ローラ２の動きによって被エッチング体１も上下に揺
動するのでこれによっても接触の危険があった。したが
って薄くて流動するエッチング液中に常に電圧を印加し
て置くのは不可能と考えられていた。
スプレー式エッチングにおける平面被エッチング体上
を薄く覆うエッチング液中に、定常的にエッチング電極
を設置できるようにすることが本発明が解決したい問題
点であり、それを解決してエッチング速度を無電界の時
の速度より早く、しかも確実なパターンを得ることを本
発明の目的とする。
を薄く覆うエッチング液中に、定常的にエッチング電極
を設置できるようにすることが本発明が解決したい問題
点であり、それを解決してエッチング速度を無電界の時
の速度より早く、しかも確実なパターンを得ることを本
発明の目的とする。
一方の電位に接続した上記被エッチング体を搬送装置
上にほぼ水平に保持した状態でその上方からエッチング
液を注ぐと共に、該被エッチング体に注がれて表面に滞
留したエッチング液に対し、その表面張力によって当該
エッチング液と接する程度の間隙を隔てて配置した対向
電極を通じて反対極性の電位を与えることを条件として
いる。
上にほぼ水平に保持した状態でその上方からエッチング
液を注ぐと共に、該被エッチング体に注がれて表面に滞
留したエッチング液に対し、その表面張力によって当該
エッチング液と接する程度の間隙を隔てて配置した対向
電極を通じて反対極性の電位を与えることを条件として
いる。
移動する被エッチング対１と接近しているが接触する
おそれのない数ミリメートルの距離を保った対向電極９
を噴射するエッチング液に曝すと、該液にぬれた対向電
極９は親水性のため表面張力によってエッチング液を持
ち上げるように働き、エッチング液の被エッチング体上
の厚さ２〜３ミリメートルよりも大きい数ミリメートル
と言う距離で、被エッチング体幅一杯に浸した状態の対
向電極９となることができる。従ってスプレーエッチン
グと電界をかけたエッチングとの併用が可能となる。
おそれのない数ミリメートルの距離を保った対向電極９
を噴射するエッチング液に曝すと、該液にぬれた対向電
極９は親水性のため表面張力によってエッチング液を持
ち上げるように働き、エッチング液の被エッチング体上
の厚さ２〜３ミリメートルよりも大きい数ミリメートル
と言う距離で、被エッチング体幅一杯に浸した状態の対
向電極９となることができる。従ってスプレーエッチン
グと電界をかけたエッチングとの併用が可能となる。
本発明の実施例を以下第１図本発明のスプレー式エッ
チング方法を説明する側面図および第２図同じく正面図
に沿って説明する。
チング方法を説明する側面図および第２図同じく正面図
に沿って説明する。
第１図において０はガラス基板、１は被エッチング
体、２は搬送ローラ、３はスプレーノズル、４は記載し
ないエッチング室、５は対向電極９を保持する保持具、
６は被エッチング体１上に滞留したエッチング液、７は
被エッチング体１と電池を結む接触ブラシ、８はエッチ
ング加速電界を作成する電池、９は被エッチング体１と
対向してエッチング加速電界をつくる対向電極である。
体、２は搬送ローラ、３はスプレーノズル、４は記載し
ないエッチング室、５は対向電極９を保持する保持具、
６は被エッチング体１上に滞留したエッチング液、７は
被エッチング体１と電池を結む接触ブラシ、８はエッチ
ング加速電界を作成する電池、９は被エッチング体１と
対向してエッチング加速電界をつくる対向電極である。
第１図において、搬送ローラ２の上を搬送されてきた
ガラス基板０上の被エッチング体１は、記載を省略した
エッチング室４に入ると、電池８の一方の極と接続され
た対向電極９の上方からエッチング液のシャワーをスプ
レーノズル３を通して噴射させる。エッチング液は完全
に被エッチング体１を覆うように多量のエッチング液が
連続的に注がれる。そのため被エッチング体１の表面約
２〜３ミリメートルの厚さにエッチング液が覆うように
なる。
ガラス基板０上の被エッチング体１は、記載を省略した
エッチング室４に入ると、電池８の一方の極と接続され
た対向電極９の上方からエッチング液のシャワーをスプ
レーノズル３を通して噴射させる。エッチング液は完全
に被エッチング体１を覆うように多量のエッチング液が
連続的に注がれる。そのため被エッチング体１の表面約
２〜３ミリメートルの厚さにエッチング液が覆うように
なる。
他方被エッチング体１に接触ブラシ７を押しつけて、
被エッチング体１が移動中でも電池８の他方の極と導通
しているようにする。
被エッチング体１が移動中でも電池８の他方の極と導通
しているようにする。
このようにするとエッチング液は２〜３ミリメートル
の厚さで被エッチング体１上を覆うだけでなく、このエ
ッチング液上４〜５ミリメートル離れた位置に設置さ
れ、保持具５に支えられた、白金からなる親水性の対向
電極９は、一旦該電極に接触したエッチング液滴が該電
極上に存在するため、エッチング液の方から表面張力に
より盛り上がって対向電極９を含む形態となり、エッチ
ング液と電気的接触を保つようになる。
の厚さで被エッチング体１上を覆うだけでなく、このエ
ッチング液上４〜５ミリメートル離れた位置に設置さ
れ、保持具５に支えられた、白金からなる親水性の対向
電極９は、一旦該電極に接触したエッチング液滴が該電
極上に存在するため、エッチング液の方から表面張力に
より盛り上がって対向電極９を含む形態となり、エッチ
ング液と電気的接触を保つようになる。
この状態で２ボルトの電圧を電池８が出力すると、対
向電極９の直下の限られた範囲で有効な電界エッチング
が在来の化学エッチングであるスプレーエッチングに加
法的に作用し、エッチングの加速や方向性賦与の効果を
与え得る。
向電極９の直下の限られた範囲で有効な電界エッチング
が在来の化学エッチングであるスプレーエッチングに加
法的に作用し、エッチングの加速や方向性賦与の効果を
与え得る。
以上のようにしてこの被エッチング体１を目的のパタ
ーンどおりにエッチングすることができる。
ーンどおりにエッチングすることができる。
対向電極９と被エッチング体１間の間隔が４〜５ミリ
メートルあれば、この設備内で対向電極９と被エッチン
グ体１とが板の反りやローラの偏心で接触することがな
い。
メートルあれば、この設備内で対向電極９と被エッチン
グ体１とが板の反りやローラの偏心で接触することがな
い。
親水性の電極には表面を脱脂した金属が一般的であ
り、しかも表面がエッチング液と反応して変質しない貴
金属が好ましい。しかし該金属の電極に部分的にも水を
はじく物質、油，油脂，プラスチックス等が付着してい
ては良い結果が得られない。
り、しかも表面がエッチング液と反応して変質しない貴
金属が好ましい。しかし該金属の電極に部分的にも水を
はじく物質、油，油脂，プラスチックス等が付着してい
ては良い結果が得られない。
本発明の方法によると、従来不可能であったインライ
ン装置での電界によるエッチング効果の強化が可能とな
った。単にエッチング速度が早くなるだけでなく、電界
の導入によるエッチング方向性の向上により、サイドエ
ッチングの減少を果たし得た。
ン装置での電界によるエッチング効果の強化が可能とな
った。単にエッチング速度が早くなるだけでなく、電界
の導入によるエッチング方向性の向上により、サイドエ
ッチングの減少を果たし得た。
それでシャワーエッチングの特徴である新鮮なエッチ
ング液による能率の良い電極作成に加えて、サイドエッ
チンの少ない、マスクパターンに忠実なエッチングが出
来るようになった。該効果は電極パターンの歩留り向上
に極めて有効に働いている。
ング液による能率の良い電極作成に加えて、サイドエッ
チンの少ない、マスクパターンに忠実なエッチングが出
来るようになった。該効果は電極パターンの歩留り向上
に極めて有効に働いている。
第１図は本発明のスプレー式エッチング方法を説明する
側面図、 第２図は本発明のスプレー式エッチング方法を説明する
正面図、 第３図は従来のスプレー式エッチング方法を説明する側
面図である。 図において、 １は被エッチング体、 ２は搬送ローラ、 ３はスプレーノズル、 ６は被エッチング体を覆うエッチング液、 ７は導電性の接触ブラシ、 ８は電池、 ９は被エッチング体と向かい合う親水性の対向電極であ
る。
側面図、 第２図は本発明のスプレー式エッチング方法を説明する
正面図、 第３図は従来のスプレー式エッチング方法を説明する側
面図である。 図において、 １は被エッチング体、 ２は搬送ローラ、 ３はスプレーノズル、 ６は被エッチング体を覆うエッチング液、 ７は導電性の接触ブラシ、 ８は電池、 ９は被エッチング体と向かい合う親水性の対向電極であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−245439（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−174899（ＪＰ，Ａ) 特公 昭58−43479（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭58−43480（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】エッチング液を被エッチング体にシヤワー
状に注ぐスプレー式エッチング方法において、 一方の電位に接続した上記被エッチング体を搬送装置上
にほぼ水平に保持した状態でその上からエッチング液を
注ぐと共に、該被エッチング体に注がれて表面に滞留し
たエッチング液に対し、その表面張力によって当該エッ
チング液と接する程度の間隙を隔てて配置した対向電極
を通じて反対極性の電位を与えることを特徴とするスプ
レー式エッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62218327A JP2576142B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | スプレー式エッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62218327A JP2576142B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | スプレー式エッチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6462499A JPS6462499A (en) | 1989-03-08 |
| JP2576142B2 true JP2576142B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=16718114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62218327A Expired - Lifetime JP2576142B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | スプレー式エッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576142B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005011298A1 (de) * | 2005-03-04 | 2006-09-07 | Gebr. Schmid Gmbh & Co. | Vorrichtung und Verfahren zum Ätzen von Substraten |
| JP4568884B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2010-10-27 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | 反応液が加工面を流動する形態で行う電気化学的エッチング |
| CN106555221B (zh) * | 2015-09-25 | 2023-03-07 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 喷头装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5843479A (ja) * | 1981-09-09 | 1983-03-14 | Toppan Printing Co Ltd | 密着露光複写機 |
| JPS5843480A (ja) * | 1981-09-09 | 1983-03-14 | Ricoh Co Ltd | 複合記録装置 |
| JPS60174899A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-09-09 | Toshiba Corp | 金属表面研摩装置 |
-
1987
- 1987-08-31 JP JP62218327A patent/JP2576142B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6462499A (en) | 1989-03-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |